光碟原版制作方法技术

技术编号:3055985 阅读:281 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是有关于一种碟片原版制作方法,其包括沉积一硬遮罩层于一基板上,涂布一蚀刻速率大于硬遮罩层的蚀刻速率的光阻层于硬遮罩层之上,激光刻版光阻层及硬遮罩层并进行显影,蚀刻基板并移除光阻层,以及移除硬遮罩层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种,特别是涉及一种用以制备碟片模版的。
技术介绍
随着资讯与多媒体世代的来临,电子产品对于储存媒体的储存密度及容量的需求也不断地增加。传统的储存媒体,大致上可分为两大类,分别是磁记录媒体与光记录媒体。目前市场上是以光记录媒体占优势,其是包含唯读型光碟(CD-ROM)、可写一次型光碟(CD-R)、可重复读写型光碟(CD-RW)、唯读型数字影音光碟(DVD-ROM)、可写一次型数字影音光碟(DVD-R)、可重复读写式数字影音光碟(DVD-RW,DVD+RW)、以及动态随机记忆数字影音光碟(DVD-RAM)等等。光记录媒体的生产过程中,一般都是利用具有沟槽或凹洞的碟片模版(Disc Stamper),配合射出成形的方法,以制成与碟片模版具有相对应图案的基板后,再利用此具有预沟槽的基板(Pre-grooved Substrate)来进行后续制程以生产大量的光记录媒体。为了要获得碟片模版,则需先制作一碟片原版(Disc Master)。请参阅图1所示,现有习知的碟片原版制作过程包括下列步骤(1)涂布一光阻层于一基板上为了加强光阻层与基板的结合力,因此可先涂布一接着剂(Pri本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种碟片原版制作方法,其特征在于其包括下列步骤:沉积一硬遮罩层于一基板上;涂布一蚀刻速率大于该硬遮罩层的蚀刻速率的光阻层于该硬遮罩层之上;激光刻版该光阻层及该硬遮罩层并进行显影;蚀刻该基板并移除该光阻层;以及移除该硬遮罩层。

【技术特征摘要】
1.一种碟片原版制作方法,其特征在于其包括下列步骤沉积一硬遮罩层于一基板上;涂布一蚀刻速率大于该硬遮罩层的蚀刻速率的光阻层于该硬遮罩层之上;激光刻版该光阻层及该硬遮罩层并进行显影;蚀刻该基板并移除该光阻层;以及移除该硬遮罩层。2.根据权利要求1所述的碟片原版制作方法,其特征在于其中所述的碟片原版是用以制作光记录媒体的一碟片模版。3.根据权利要求1所述的碟片原版制作方法,其特征在于其中所述的基板的材质是为一玻璃、或一石英、或是为一陶瓷材料。4.根据权利要求3所述的碟片原版制作方法,其特征在于其中所述的陶瓷材料是为氧化物、氮化物、或碳化物。5.根据权利要求1所述的碟片原版制作方法,其特征在于其中所述的硬遮罩层的材质是为碳化物、氮化物、氮氧化物、单晶硅、多晶硅、复合介电质、或金属。6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡正原谢忠勤
申请(专利权)人:精碟科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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