一种新型干法刻蚀设备制造技术

本实用新型专利技术涉及刻蚀设备技术领域，具体为一种新型干法刻蚀设备，限位销与限位孔插接，限位孔内壁左右两端上侧均开有插口，插口上端贯通托盘，限位孔内壁中间开有一圈环形槽。在将限位销插入限位孔中时，通过对准侧块与插口插入，这样随着侧块垂直往下滑入环形槽内的时候，再转动限位销，此时可以带动侧块完全滑入环形槽内，这样通过弹簧上弹的弹力，可以将侧块弹着与环形槽内壁顶端紧贴，此时限位销卡在限位孔中，这样不仅提高了限位销插在限位孔中的稳定性，而且操作不难，便于工作人员进行操作，以解决限位销插在限位孔中，只是普通的插接关系，缺少对限位销的限位，导致存在限位销插在限位孔内不稳定的问题。插在限位孔内不稳定的问题。插在限位孔内不稳定的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种新型干法刻蚀设备


[0001]本技术涉及刻蚀设备
，具体为一种新型干法刻蚀设备。

技术介绍

[0002]在光通信、微电子、半导体照明、微机电系统、光伏产业等领域里，干法刻蚀是一个重要的工艺步骤。以光通信为例，近年我国宽带接入和光纤到户的发展使平面光波导芯片产品的需求量猛增。平面光波导是将光波导制作到平面基板上的技术，是实现光通信大容量和光器件集成化的有效手段。平面波导可以制成阵列波导光栅，光分路器，多通道可调光衰减器、光开关等光器件。在光通信网络中间，光信号依赖平面光波导制成的阵列波导光栅被广泛用来实现波分复用以提高传输效率。在光通信的最末端，光纤到户阶段，平面光波导光分路器则提供了目前最有效的无源光网络宽带接入方案。干法刻蚀，即在晶圆上使用非液体的方法刻蚀出合乎要求的微观图形，是生产平面光波导芯片产品的重要步骤之一。
[0003]经检索，授权公告号为“CN203553097U”的一种干法刻蚀设备，该技术干法刻蚀设备包括用于放置至少一个被刻蚀件的托盘、用于对所述至少一个被刻蚀件进行刻蚀的刻蚀单元、收容所述托盘的壳体以及与所示壳本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型干法刻蚀设备，包括用于放置至少一个被刻蚀件(3)的托盘(1)、用于对所述至少一个被刻蚀件(3)进行刻蚀的刻蚀单元、收容所述托盘(1)的壳体以及与所述壳体相连接的真空发生器，其特征在于：所述托盘(1)上安装有至少一组用于限定所述至少一个被刻蚀件(3)的限位销(2)，所述托盘(1)上表面设置有至少一组限位孔(11)，所述限位销(2)与所述限位孔(11)插接，所述限位孔(11)内壁左右两端上侧均开有插口(12)，所述插口(12)上端贯通所述托盘(1)，所述限位孔(11)内壁中间开有一圈环形槽(13)，所述插口(12)下部贯通所述环形槽(13)，所述限位销(2)左右两端下侧均固定有侧块(21)，所述侧块(21)与所述插口(12)一一对应滑动连接，所述侧块(21)下端开有收入槽(22)，所述收入槽(22)内部滑动连接有滑杆(24)，所述滑杆(24)下端延伸出所述收入槽(22)并固定有撑板(26)，所述撑板(26)下端与所述环形槽(13)槽底相接触，所述侧块(21)下端且位于所述收入槽(22)外侧固定有挡环(23)，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘健，
申请(专利权)人：上海欧勋机电工程有限公司，
类型：新型
国别省市：