【技术实现步骤摘要】
一种高稳定性的干法刻蚀设备
[0001]本技术涉及干法刻蚀设备
,尤其是涉及一种高稳定性的干法刻蚀设备。
技术介绍
[0002]干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术,当气体以等离子体形式存在时,它具备两个特点:一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多,根据被刻蚀材料的不同,选择合适的气体,就可以更快地与材料进行反应,实现刻蚀去除的目的;另一方面,还可以利用电场对等离子体进行引导和加速,使其具备一定能量,当其轰击被刻蚀物的表面时,会将被刻蚀物材料的原子击出,从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的,现有的干法刻蚀设备通常包括真空泵和冷却用风机,在真空泵和风机工作时容易产生较多的震动从而影响设备整体的稳定性,现有的干法刻蚀设备通常较少设置相关的减震结构,设备工作时较为不稳定从而容易影响设备上其他零件的稳定性,造成麻烦。
技术实现思路
[0003]本技术的目的是针对上述存在的问题和不足,提供一种高稳定性的干法刻蚀设备,有效减缓真空泵和风机的震动,有效增加干法刻蚀设备整体的稳定性。
[00 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高稳定性的干法刻蚀设备,包括底座(1)和工艺箱(2),其特征在于:所述工艺箱(2)位于底座(1)上方;所述工艺箱(2)左侧下端固定连接有安装板(105),所述安装板(105)上面开有凹槽(112),所述凹槽(112)内部上方设有连接板(114),所述连接板(114)上面安装有真空泵(106),所述连接板(114)与凹槽(112)槽底之间固定连接有若干根呈等距分布的缓冲弹簧(113),所述真空泵(106)上端与工艺箱(2)左侧中部之间固定连接有连接管(107),所述真空泵(106)与工艺箱(2)通过连接管(107)相通;所述工艺箱(2)内壁顶面安装有阴极载体(201),所述工艺箱(2)内壁底面安装有阳极载体(202),所述阳极载体(202)内部设有冷却腔(205),所述工艺箱(2)上下侧左端均安装有高频电源(203),所述工艺箱(2)上方右侧安装有气体质量流量控制器(204),所述工艺箱(2)下面右侧和安装板(105)下面左侧与底座(1)上面之间均固定连接有支撑柱(104),所述底座(1)上面固定连接有冷却箱(102),所述冷却箱(102)位于支撑柱(104)内侧,所述冷却箱(102)位于下面的所述高频电源(203)下方;所述底座(1)上面左侧固定连接有立板(101),所述立板(101)右面安装有若干个呈垂直等距分布的风机(103),所述风机(103)位于安装板(105)左侧。2.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘健,
申请(专利权)人:上海欧勋机电工程有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。