适用于还原炉清洗装置的密封垫片制造方法及图纸

技术编号:30541873 阅读:22 留言:0更新日期:2021-10-30 13:19
本实用新型专利技术公开了一种适用于还原炉清洗装置的密封垫片,涉及多晶硅生产技术领域,主要目的是保护还原炉钟罩底盘密封垫片。本实用新型专利技术的主要技术方案为:适用于还原炉清洗装置的垫片,其包括:垫片本体和导向定位环;所述垫片本体的上表面环设有保护槽,用于吻合钟罩底盘密封垫片;所述导向定位环环设于所述垫片本体的外缘,所述导向定位环的内直径略大于钟罩底盘的外直径,用于对下降的钟罩底盘起到导向作用。作用。作用。

【技术实现步骤摘要】
适用于还原炉清洗装置的密封垫片


[0001]本技术涉及多晶硅生产
,尤其涉及一种适用于还原炉清洗装置的垫片。

技术介绍

[0002]目前,生产多晶硅主要采用改良西门子法,改良西门子法生产多晶硅的反应器主要采用多晶硅还原炉。在多晶硅生产过程中,还原炉钟罩表面上会沉积一定厚度的多晶硅副产物、硅粉等。但多晶硅生产对还原炉的沉积环境的洁净度要求特别关键,任何颗粒性杂质、物料等物质余留在炉内,都会对产品质量造成影响。所以在还原炉运行一个周期结束后,都需要把钟罩用行车吊到清洗装置平台上对钟罩进行清洗干净后,在装硅芯进行下一个周期的化学气相沉积。还原炉钟罩清洗系统是以高压清洗机为主机,以高压水射流为动力的自驱动三维旋转喷头形成360
°
的网状高压水柱喷射表面,从而完成钟罩内部表面的水力扫射,并采用浓度10%以上碱液为主要清洗液。先用纯水漂洗、然后碱液,之后再采用高纯水冲洗后烘干,最终完成清洗过程。在清洗过程中,为防止高压水射流喷射出钟罩外,造成人员安全或环境事故。
[0003]还原炉钟罩清洗过程中,钟罩吊装到清洗装置密封平台上,钟罩底部法兰和清洗平台密封垫组成一个全封闭空间,避免高压水射流喷射出钟罩外。目前,还原炉钟罩和底盘密封的垫片安装有二种方式,一种在还原炉底盘开密封槽,底盘大垫片安装在还原炉底盘密封槽内;一种使在还原炉钟罩密封面加工垫片槽,底盘大垫片安装在垫片槽里。底盘大垫片高出底盘或钟罩密封面约5mm,螺栓锁紧后来达到钟罩和底盘的密封作用。由于倒棒等原因,安装在底盘密封面的底盘大垫片很容易损坏,为保护底盘大垫片完好性,大多都采用后一种方式,即安装在钟罩密封面上。在清洗过程中,钟罩吊装清洗装置平台上,靠钟罩自重与清洗装置平台表面形成密封。由于钟罩垫片高出钟罩密封面,垫片宽度较窄;钟罩底盘垫片和清洗平台垫片都是橡胶材质,在外力挤压时都会产生塑性变形;而且在生产过程中,垫片表面容易沾有硅粉等杂物,所以仅靠钟罩自重难以达到密封效果。在清洗装置高压水射流冲击下,清洗的碱液和脱盐水很容易渗漏出来。最关键是清洗钟罩的碱液沾到垫片或进入垫片细微的裂缝中,结成很硬的碱垢,很不好清理,对垫片损伤很大。脱盐水和碱液进入垫片槽,不容易烘干,对多晶硅生产也有氧化等质量风险。甚至碱液或水进入垫片槽后,和氯硅烷反应,对316L材质的钟罩槽产生氯离子应力腐蚀,导致垫片槽裂纹,进一步导致设备损坏。

技术实现思路

[0004]有鉴于此,本技术提供一种适用于还原炉清洗装置的垫片,主要目的是保护还原炉钟罩底盘密封垫片。
[0005]为达到上述目的,本技术主要提供如下技术方案:
[0006]本技术提供了一种适用于还原炉清洗装置的垫片,其包括:垫片本体和导向
定位环;
[0007]所述垫片本体的上表面环设有保护槽,用于吻合钟罩底盘密封垫片;
[0008]所述导向定位环环设于所述垫片本体的外缘,所述导向定位环的内直径略大于钟罩底盘的外直径,用于对下降的钟罩底盘起到导向作用。
[0009]本技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
[0010]可选的,所述导向定位环的内侧面为仰角斜面。
[0011]可选的,所述保护槽宽度等于钟罩底盘密封垫片宽度的两倍以上。
[0012]可选的,所述保护槽深度等于钟罩底盘密封垫片厚度的两倍以上。
[0013]可选的,所述垫片本体和所述导向定位环一体成型,并采用橡胶材质。
[0014]借由上述技术方案,本技术至少具有下列优点:
[0015]在清洗还原炉钟罩的过程中,将钟罩吊起,以使钟罩底盘的下端外缘吻合于导向定位环的上端内缘,以使钟罩的中轴线重合于垫片本体的中轴线,保证钟罩底盘密封垫片和保护槽上下对应。然后使被吊起的钟罩竖直下降,从而使钟罩底盘密封垫片逐渐插接于保护槽内,避免钟罩底盘密封垫片受到外力挤压而发生变形。
[0016]在垫片本体的上表面,保护槽的内侧为第一密封面,保护槽的外侧为第二密封面。当钟罩底盘法兰贴合于垫片上表面时,第一密封面和第二密封面同时支撑钟罩的重量。同时,钟罩底盘法兰和第一密封面是面接触,防止高压喷射水渗出,避免脱盐水和碱液等杂质接触钟罩底盘密封垫片,同时避免脱盐水和碱液进入垫片槽,进而避免在硅棒沉积反应时,脱盐水和碱液与氯硅烷反应,进而避免钟罩发生氯离子应力腐蚀,避免垫片槽裂纹;第二密封面和钟罩底盘法兰也是面接触,起辅助承重钟罩和密封钟罩内部空间的作用,避免外界杂质接触钟罩底盘密封垫片。
[0017]在现有多晶硅生产技术中,使用本垫片,避免还原炉钟罩清洗时引起的杂质隐患,从而达到提升多晶硅产品质量的目的。
附图说明
[0018]图1为本技术实施例提供的钟罩和清洗装置的位置关系图;
[0019]图2为图1中B部分的放大图;
[0020]图3为本技术实施例提供的垫片本体的俯视图;
[0021]图4为图3中A

A处的向视剖面图。
[0022]说明书附图中的附图标记包括:导向定位环1、保护槽2、钟罩底盘密封垫片3、钟罩底盘4、第一密封面5、第二密封面6、钟罩7、清洗装置8、垫片本体9。
具体实施方式
[0023]为更进一步阐述本技术为达成预定技术目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本技术申请的具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。在下述说明中,不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外,一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。
[0024]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。
[0025]如图1、图2、图3和图4所示,本技术的一个实施例提供的一种适用于还原炉清
洗装置的垫片,其包括:垫片本体9和导向定位环1;
[0026]所述垫片本体9的上表面环设有保护槽2,用于吻合钟罩底盘密封垫片3;
[0027]所述导向定位环1环设于所述垫片本体9的外缘,所述导向定位环1的内直径略大于钟罩底盘4的外直径,用于对下降的钟罩底盘4起到导向作用。
[0028]适用于还原炉清洗装置的垫片的工作过程如下:
[0029]在清洗还原炉钟罩7的过程中,将钟罩7吊起,以使钟罩底盘4的下端外缘吻合于导向定位环1的上端内缘,以使钟罩7的中轴线重合于垫片本体9的中轴线,保证钟罩底盘密封垫片3和保护槽2上下对应。然后使被吊起的钟罩7竖直下降,从而使钟罩底盘密封垫片3逐渐插入保护槽2内,避免钟罩底盘密封垫片3受到外力挤压而发生变形。
[0030]在垫片本体9的上表面,保护槽2的内侧为第一密封面5,保护槽2的外侧为第二密封面6。当钟罩底盘4法兰贴合于垫片上表面时,第一密封面5和第二密封面6同时支撑钟罩7的重量。同时,钟罩底盘4法兰和第一密封面5是面接触,防止高压喷射水渗出,避免脱盐水和碱液等杂质接触钟罩底盘密封垫片3,同时避免脱盐水和碱液本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于还原炉清洗装置的密封垫片,其特征在于,包括:垫片本体,所述垫片本体的上表面环设有保护槽,用于吻合钟罩底盘密封垫片;导向定位环,所述导向定位环环设于所述垫片本体的外缘,所述导向定位环的内直径略大于钟罩底盘的外直径,用于对下降的钟罩底盘起到导向作用。2.根据权利要求1所述的适用于还原炉清洗装置的密封垫片,其特征在于,所述导向定位环的内侧面为仰角斜面。3.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:丁建
申请(专利权)人:新疆大全新能源股份有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1