保护构件和采用该保护构件的光学拾取器件制造技术

本发明专利技术提供：在光信息记录介质上记录信息或从其上重放信息时，用于防止用于将光聚焦到所述光信息记录介质上的透镜与所述光信息记录介质间接触的保护构件，该保护构件包括超高分子量聚乙烯多孔膜；本发明专利技术还提供具有所述保护构件的光学拾取器件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于防止可由用于将光聚焦到光信息记录介质上的透镜与所述光信息记录介质间接触而导致的损坏的保护构件，以及涉及采用该保护构件的光学拾取器件。
技术介绍
在光信息记录介质，例如DVD(数字多功能光碟)上记录信息或从其上重放信息的光学拾取器件具有用于将从光源发射的光聚焦到所述光信息记录介质上的透镜。为了聚焦调整和跟踪控制的目的，该透镜在记录和重放中与所述光信息记录介质相对，并在垂直于所述光信息记录介质的信息记录表面的方向和在水平方向内可移动地设置。最近，为了实现高密度记录，已经有人提出了使用短波长激光束的或具有大的孔径数(NA)的透镜的光学拾取器件，来用于记录或重放信息。光信息记录介质的记录刻度的大小与光斑的大小成比例，并可通过减小所述光斑而减小所述记录刻度，从而获得记录密度方面的改进。当所述激光束的波长用λ表示时，所述光斑的大小由λ/NA确定。即，通过使用短波长激光束和/或通过使用具有大的NA的透镜可改进光学拾取器件的记录密度。例如，在作为大容量光信息记录介质而开发的BD(蓝光盘)的情况下，通过采用使用波长为405nm的蓝-紫激光束和NA为0.85的物镜的光学拾取器件，可在一面上记录信息直至27GB。然而，当采用具有大的NA的透镜时，焦距变得更短，所述透镜的到所述光信息记录介质表面最接近的途径的距离(下文中有时被称为透镜的操作距离)被降低了。例如，在用于BD的光学拾取器件的一个例子中，焦距为约0.32mm，并且所述透镜的操作距离为约0.31mm，这些都非常短。如上所述，由于近来为了实现高密度记录而趋向于降低所述透镜的操作距离的趋势，可能很容易导致例如在聚焦调整和跟踪控制的操作过程中由所述透镜和所述光信息记录介质之间的接触引起的损坏。由于所述光信息记录介质在记录或重放的过程中在其外缘处的最高旋转速度为约150km/h，所以当所述透镜和所述光信息记录介质彼此接触时，它们中的至少一个会被损坏，使其不能记录和重放信息。为了解决上述问题，此前已经对光学拾取器件提供了用于保护所述透镜和所述光信息记录介质不受损坏的方法。例如已经有人提出提供有保护构件的光学拾取器件，所述保护构件被安放在保持透镜的部件(例如透镜镜筒)的与光信息记录介质相对的面上，并突出为比所述透镜更接近于所述光信息记录介质。作为这样的保护构件，已经有人提出由羊毡制备的缓冲材料(例如参见参考文献1)、由比光信息记录介质更有弹性的塑料制备的突出部件(例如参见参考文献2)、由硅橡胶制备的保护物(例如参见参考文献3)、由非结晶碳膜等制备的保护润滑膜(例如参见参考文献4)、通过采用氟树脂等作为基础制备的树脂膜(例如参见参考文献5)等。JP-5-144041[参考文献2]JP-2-54433[参考文献3]JP-11-312322[参考文献4]JP-2001-297478[参考文献5]JP-2003-272206对于所述保护构件，必须可靠地防止在所述透镜和所述光信息记录介质之间的接触，以及当该保护构件与所述光信息记录介质接触时避免损坏光信息记录介质的信息记录表面。因此，所述保护构件需要具有用于实现低摩擦性质的合适的硬度，用于缓冲接触的冲击的缓冲性质(弹性)，以及耐磨擦性。然而，如上所述，因为记录和重放在如下状态下进行其中所述透镜和所述光信息记录介质在高记录密度的光信息记录介质的情况下彼此非常接近，所以在它们之间的接触导致的冲击很大，并且应用常规的保护构件已经难于保护所述透镜和所述光信息记录介质两者。
技术实现思路
因此，本专利技术一些方面的优点是，提供一种保护构件，其在透镜和光信息记录介质彼此非常靠近用于记录和重放的情况下能够更可靠地防止所述透镜和所述光信息记录介质损坏。本专利技术主要涉及如下条目1.一种保护构件，其用于在光信息记录介质上记录信息或从其上重放信息时，防止用于将光聚焦到所述光信息记录介质上的透镜与所述光信息记录介质间接触，该保护构件包含超高分子量聚乙烯多孔膜。2.条目1的保护构件，其还包含层压到所述超高分子量聚乙烯多孔膜上的压敏粘合剂膜。3.条目2的保护构件，其还包含在所述超高分子量聚乙烯多孔膜和所述压敏粘合剂膜之间的渗透抑制膜。4.条目1的保护构件，其中所述超高分子量聚乙烯多孔膜的动摩擦系数为0.3或更小。5.条目1的保护构件，其中所述超高分子量聚乙烯多孔膜的压缩弹性模量为980-9,800N/cm2。6.条目1的保护构件，其中所述超高分子量聚乙烯多孔膜的肖氏D硬度为30-50。7.条目1的保护构件，其中所述超高分子量聚乙烯多孔膜的厚度为0.05-0.5mm。8.一种光学拾取器件，其用于在光信息记录介质上记录信息或从其上重放信息，该光学拾取器件包含用于将光聚焦到所述光信息记录介质上的透镜；和条目1-7中任一项的保护构件，该保护构件被突出安放，比所述透镜更接近于所述光信息记录介质。9.条目8的光学拾取器件，其中所述的超高分子量聚乙烯多孔膜面向所述光信息记录介质。在本专利技术的保护构件和光学拾取器件中，“超高分子量聚乙烯”指粘均分子量为500,000至10,000,000，优选1,000,000至7,000,000的聚乙烯。本专利技术的保护构件包括超高分子量聚乙烯多孔膜。因为所述超高分子量聚乙烯多孔膜是通过增加具有低摩擦系数的超高分子量聚乙烯的多孔性而获得的，所以该超高分子量聚乙烯多孔膜显示出低摩擦系数和良好的滑动性。另外，所述超高分子量聚乙烯多孔膜还具有高的弹性和高的硬度两者。通过包括具有这些性质的超高分子量聚乙烯多孔膜，本专利技术的保护构件在将透镜和光信息记录介质彼此非常靠近的情况下，能可靠地防止所述透镜和所述光信息记录介质之间的接触。另外，本专利技术的保护构件甚至当该保护构件与所述光信息记录介质接触时，也不会将所述光信息记录介质损坏到不可能进行信息的记录/重放的程度。因此，当用于高记录密度用光学拾取器件中时，其中所述透镜和所述光信息记录介质彼此非常靠近，本专利技术的保护构件能可靠地防止所述透镜和所述光信息记录介质的损坏。由于本专利技术的光学拾取器件采用了本专利技术的保护构件，所以该光学拾取器件能够防止所述光信息记录介质受到使信息记录/重放不可能进行的损坏，以及在高密度记录的光信息记录介质上记录信息和从其上重放信息的情况下能可靠地防止透镜的损坏。本专利技术的保护构件适用于大容量的光信息记录介质，例如BD(蓝光盘)，其中在记录和重放的过程中所述透镜被安放得与其非常接近，因为所述保护构件有效地防止了所述透镜和所述光信息记录介质的损坏。同样，本专利技术的光学拾取器件基于同样原因也适用于其中在记录和重放的过程中所述透镜和所述光信息记录介质被安放得彼此非常接近的情况。附图说明图1为显示本专利技术保护构件的一个实施方案的截面图。图2为示意性表示本专利技术光学拾取器件的透镜部分的截面图。在图中使用的参考数字分别指如下内容。1.保护构件2.超高分子量聚乙烯多孔膜3.渗透抑制膜4.压敏粘合剂膜11.透镜12.透镜镜筒13.光信息记录介质具体实施方式在下文中，将参考附图描述本专利技术的实施方案。图1为显示本专利技术保护构件的一个例子的截面图。图2为示意性表示提供有示于图1中的保护构件的光学拾取器件的透镜部分的截面图，其中描绘了透镜与光信息记录介质相对的状态。如图2所示，本实施方案的光学拾取器件包括用于将光聚焦本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种保护构件，其用于在光信息记录介质上记录信息或从光信息记录介质上重放信息时，防止用于将光聚焦到所述光信息记录介质上的透镜与所述光信息记录介质间接触，该保护构件包含超高分子量聚乙烯多孔膜。

【技术特征摘要】
JP 2006-3-29 2006-0921051.一种保护构件，其用于在光信息记录介质上记录信息或从光信息记录介质上重放信息时，防止用于将光聚焦到所述光信息记录介质上的透镜与所述光信息记录介质间接触，该保护构件包含超高分子量聚乙烯多孔膜。2.如权利要求1的保护构件，其还包含层压到所述超高分子量聚乙烯多孔膜上的压敏粘合剂膜。3.如权利要求2的保护构件，其还包含在所述超高分子量聚乙烯多孔膜和所述压敏粘合剂膜之间的渗透抑制膜。4.如权利要求1的保护构件，其中所述超高分子量聚乙烯多孔膜的动摩擦系数为0.3或更小。5.如权利要求1的保护...

【专利技术属性】
技术研发人员：森山顺一，持田一明，井上悌，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]