记录设备、记录方法、盘制造方法和光盘记录介质技术

通过利用具有预定激光功率的激光来照射而将基片变形成凸起形状。由于基片被变形成凸起形状，叠压在基片上的反射膜也变形成凸起形状，并且通过凸起变形的实施例，可在凹坑部分处获得与岸台部分处的再现信号电平相等同的再现信号电平。在岸台处可获得与凹坑部分处的再现信号电平相等同的再现信号电平。此时，由于凸起变形实施例可由施加的激光束的功率来控制，因此通过设置激光功率可以使凹坑成为岸台和使岸台成为凹坑。从而，可在其中通过形成在基片上的凹坑和岸台的组合来记录数据的光盘记录介质中重写记录数据。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于利用凹坑(pit)和岸台(land)的组合来将数据记录 到光盘记录介质上的记录设备和用于该记录设备的记录方法。本专利技术还涉 及其上利用凹坑和岸台的这种组合而记录有数据的光盘记录介质和制造该 介质的方法。
技术介绍
光盘，尤其是例如ROM盘这样的只读光盘，在全世界都被用作封装 介质，因为每张盘的复制基片(substrate)可以在短时间内以低成本利用 单个压模通过塑料注射成型来大规模地生产。例如，CD (致密盘)和 DVD (数字多功能盘)被广泛地用作ROM盘，其上记录有信息，例如一 段音乐或视频图像。相关技术在日本专利No. 3454410中公开。
技术实现思路
虽然每张ROM盘的复制基片可以如上所述地在短时间内以低成本大 规模生产，但是就其记录形式而言，记录的数据无法被重写。如果记录在 ROM盘上的数据可被重写，则可以提供在其上能够对记录的数据进行重 写的光盘记录介质(例如可写盘)，同时保持上述优点。这是极为优选 的。考虑到上述问题，本专利技术提供了包括以下要素的记录设备。 换言之，该记录设备是用于光盘记录介质的，该介质包括至少被反射 层和覆盖层所覆盖的基片并且通过在基片中形成的凹坑和岸台的组合而被 记录以数据。该设备包括激光照射装置，用于利用具有预定激光功率的激 光来照射光盘记录介质，以将基片的被照射部分变形成凸起部分。该设备还包括记录控制装置，用于控制激光照射装置，以使得光盘记 录介质中的预定的凹坑或岸台被用具有预定激光功率的激光所照射。如上所述，基片被用激光照射，并且被照射部分被变形成凸起部分， 从而使得布置在基片上的反射层也被变形成具有凸起部分。对于预定的凹 坑，由上述基片的变形引起的反射层的每个凸起部分的变形状态允许在每 个凹坑中获得至少正的再现信号电平。换言之，变形允许了获得等同于每 个岸台中的再现信号电平的再现信号电平(以下此变形将被称为凹坑到岸台(pit-to-land)变形)。对于预定的岸台，该变形允许了在每个岸台中获得至少负的再现信号电平。换言之，变形允许了获得等同于每个凹坑 中的再现信号电平的再现信号电平(以下此变形将被称为岸台到凹坑(land-to-pit)变开》)。在此情况下，由于每个凸起部分的变形状态可基于用于照射的激光的 功率来控制，因此凹坑到岸台变形和岸台到凹坑变形可通过设置激光功率 来执行。附图说明图1是根据本专利技术一个实施例的光盘记录介质(原始数据记录盘)的截面图，该介质充当记录设备的记录目标。图2是说明根据该实施例制造光盘记录介质的过程的图。图3是说明要记录到图1所示的光盘记录介质上的数据的数据结构的数据结构图。图4是根据一个实施例的记录设备的内部结构的框图。 图5是示出对照在通过激光照射执行记录的部分(被记录部分)中的 激光功率Pw而绘制的再现信号电平的变化特性的图。图6包括示意性地示出当在岸台中执行记录时在基片上的观察结果的图。图7包括示意性地示出当在凹坑中执行记录时在基片上的观察结果的图。图8包括示意性地示出当在岸台中执行记录时通过改变激光功率而引 起的基片截面变化和利用该变化而获得的再现信号波形的图。图9包括示意性地示出当在凹坑中执行记录时通过改变激光功率而引起的基片截面变化和利用该变化而获得的再现信号波形的图。图10是说明在本实施例的应用示例中要记录到光盘记录介质上的记录数据的数据结构的数据结构图。图11是说明本实施例的应用示例中的记录操作的图。 图12是说明本实施例的应用示例中的记录操作的图。图13是示出在本实施例的应用示例中要存储在记录设备中的数据的 描述的数据结构图。图14是为了实现本实施例的应用示例中的操作在记录设备中要执行 的操作的流程图。图15是说明在按2T执行边缘偏移的情况下的操作的图。图16包括说明在通过扩展凹坑来执行边缘偏移的情况下的操作的具体实施例方式将描述用于实现本专利技术的最佳方式(以下称为实施例)。描述将按以下顺序进行<1.光盘记录介质>; <2.记录设备>; <3.记录的原理>;以及<4.应用示例>。<1.光盘记录介质〉图1是根据一个实施例的光盘记录介质(原始数据记录盘D16)的截面图，该介质充当记录设备的记录目标。根据本实施例的原始数据记录盘D16是只读(ROM)盘。具体而 言，该盘具有基于被称为蓝光盘(注册商标)的盘标准的结构和格式。如图所示，该盘D16包括基片101、布置在基片101上的反射层102 以及利用UV固化树脂(或红外固化树脂)104与反射层102粘合的覆盖层103。基片101的与反射层102相接触的表面具有不规则的样式。每个 凹陷的部分对应于一个凹坑，每个凸起的部分对应于一个岸台。在盘D16 中，数据是利用凹坑和岸台的组合来记录的，具体而言，是利用各个凹坑 的长度和各个岸台的长度的组合来记录的。由于反射层102被布置在基片101上，因此反射层102也具有与上述 凹坑和岸台的样式相对应的不规则截面。反射层102例如是金属膜。当被 物镜会聚的激光如图所示通过覆盖层103和UV固化树脂104被施加到反 射层102时，获得根据不规则性的反射光。下面将描述的记录设备50可 基于利用激光照射的反射层102所反射的光来读取利用凹坑和岸台的组合 而记录的数据。图2是说明根据该实施例制造上述原始数据记录盘D16和制作光盘记 录介质(盘100)的过程的图，每个介质是通过重写记录在盘D16上的数 据而获得的。为了制作盘100 (原始数据记录盘D16)，首先执行图中的格式化步 骤Sll。格式化步骤Sll例如是利用计算机来执行的。在格式化步骤Sll中，执行转换操作以获得与要记录在原始数据记录 盘D16 (盘100)上的内容数据(用户数据)相对应的按预定标准格式化 的数据流。换言之，在本实施例中，执行转换操作以获得如图3所示的根 据蓝光盘标准的数据流(后面将描述)。实际上，还执行了向用户数据添 加检错码和纠错码以及交织的操作。在可变长度调制步骤S12中，对在格式化步骤Sll中生成的数据流执 行可变长度调制。在本实施例中，执行Rll (1， 7) PP (奇偶保留/禁止， RLL:游程长度受限)调制和NRZI (非回零逆转)调制。在可变长度调 制步骤S12中获得的数据流中的比特0和1的样式充当将要利用凹 坑和岸台的组合实际记录到原始数据记录盘D16 (盘100)上的数据(也称为原始数据)的样式。然后，执行主盘产生歩骤S13。主盘产生步骤S13是利用主控设备来 执行的。在主盘产生步骤S13中，首先，玻璃主盘被覆盖以光刻胶。根据上述可变长度调制步骤S12中生成的原始数据的激光在覆盖了光刻胶的玻璃主 盘被旋转的同时被施加到主盘，从而沿着记录轨道形成不规则的样式，即 凹坑和岸台。然后，其中形成了凹坑和岸台的抗蚀剂被显影，从而将样式固定到玻 璃主盘上。所得到的主盘的表面经历电解电镀，从而产生如图所示的金属 主盘D14。利用这样产生的金属主盘D14执行盘形成步骤S15。在盘形成步骤S15中，利用上述金属主盘D14形成压模。该压模被布 置在注模(injection mold)中，然后，透明树脂(例如聚碳酸酯或者亚克 力(acryl))的基片101由注模机形成。每个基片101具有沿着记本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光盘记录介质的记录设备，所述介质包括至少被反射层和覆盖层所覆盖的基片并且通过在所述基片中形成的凹坑和岸台的组合而被记录以数据，所述设备包括：激光照射装置，用于利用具有预定激光功率的激光来照射所述光盘记录介质，以将所述基片的被照射部分变形成凸起部分；以及记录控制装置，用于控制所述激光照射装置，以使得所述光盘记录介质中的预定的凹坑或岸台被用所述具有预定激光功率的激光所照射。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2005-5-24 151007/20051.一种用于光盘记录介质的记录设备，所述介质包括至少被反射层和覆盖层所覆盖的基片并且通过在所述基片中形成的凹坑和岸台的组合而被记录以数据，所述设备包括激光照射装置，用于利用具有预定激光功率的激光来照射所述光盘记录介质，以将所述基片的被照射部分变形成凸起部分；以及记录控制装置，用于控制所述激光照射装置，以使得所述光盘记录介质中的预定的凹坑或岸台被用所述具有预定激光功率的激光所照射。2. 根据权利要求1所述的记录设备，其中所述记录控制装置控制激光照射，以使得所述凹坑是要被用所述具有 预定激光功率的激光所照射的目标，并且所述预定激光功率被设置成使得所述基片的被照射部分被变形成其中 再现信号电平等同于每个岸台中的再现信号电平的凸起部分。3. 根据权利要求1所述的记录设备，其中所述记录控制装置控制激光照射，以使得所述岸台是要被用所述具有 预定激光功率的激光所照射的目标，并且所述预定激光功率被设置成使得所述基片的被照射部分被变形成其中 再现信号电平等同于每个凹坑中的再现信号电平的凸起部分。4. 根据权利要求1所述的记录设备，其中所述光盘记录介质包括在多个预定的位置的比特写入区域，每个比特 写入区域以预定的数据样式被进行记录，以使得当数据被记录时，至少一 个岸台和一个凹坑被形成为与彼此相邻；并且所述记录控制装置控制所述激光照射装置，以使得每个比特写入区域 中的岸台或凹坑的边缘部分是要被用所述具有预定激光功率的激光所照射 的目标。5. 根据权利要求4所述的记录设备，其中，数据是利用一个样式被记 录在每个比特写入区域中的，该样式包括各自具有预定的长度或更长的相 邻的岸台和凹坑。6. 根据权利要求4所述的记录设备，其中所述记录控制装置控制所述激光照射装置，以使得每个比特写入区域 中的岸台的边缘部分是要被用所述具有预定功率的激光所照射的目标，并 且所述预定激光功率被设置成使得所述基片的被照射部分被变形成其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤田五郎，三木刚，下马隆司，芦崎浩二，中仓雅人，
申请(专利权)人：索尼株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]