一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，包括进出片室、镀膜室、搬运室以及外部基片架，其中搬运室设置在进出片室和镀膜室之间，搬运室内部设置有基片真空搬运系统，基片真空搬运系统用于实现进出片室和镀膜室之间的基片交换，进出片室和外部基片架之间通过外部机械手实现基片交换。本实用新型专利技术的优点是：1）在可实现自动搬运的同时，显著提高搬运效率；2）使不同的腔体的接口所需空间很小；这样可以使进出片室和镀膜室的可以留出更多的腔体空间进行工艺所需单元的布置，有利于设备的布局规划及工艺拓展；3）成膜的均匀性更好；同时，使一次镀膜工艺的产能增大；4）保证工艺的最优化，有效提高溅射工艺的成膜质量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置


[0001]本技术涉及薄膜制备
，尤其是一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置。

技术介绍

[0002]目前，提高磁控溅射设备的自动化集成度，增加产能以及提高溅射设备的成膜质量是磁控溅射设备成膜领域追求的目标。
[0003]因此，自动化连续式磁控溅射设备在镀膜市场上应用已经越来越多。主要广泛存在的以下几种类型：一、基片架为平板型单端进出或单进单出类多镀膜腔体类设备，这种设备常见有两类：卧式连续镀膜线，或立式连续镀膜线。比如常见的建筑玻璃相关镀膜线。二、转架整体搬运型连续式生产镀膜线。
[0004]以上两大类的连续式镀膜设备，第一类往往会占用设备空间较大，并且在镀膜过程中无法实现基片的自转。常常应用于平板型基片，对于有一些异形结构的基片，膜层的均匀性往往很差。第二类型的设备因为整体转架占用较大的设备宽度，需要较大的门阀宽度，这样会造成成膜腔体没有足够的空间进行阴极单元，离子源单元或别的工艺单元的布置。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是根据上述现有技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述溅射成膜装置包括进出片室、镀膜室、搬运室以及外部基片架，其中所述搬运室设置在所述进出片室和所述镀膜室之间，所述搬运室内部设置有基片真空搬运系统，所述基片真空搬运系统用于实现所述进出片室和所述镀膜室之间的基片交换，所述进出片室和所述外部基片架之间通过外部机械手实现基片交换。2.根据权利要求1所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述进出片室和所述镀膜室内设置有转架系统，其中所述转架系统可驱动所述基片公转、自转或同时公自转。3.根据权利要求2所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：位于所述镀膜室的所述转架系统包括转架、固定大齿轮以及传输齿轮，所述固定大齿轮与所述传输齿轮相传动配合，其中所述转架用于装载所述基片，所述固定大齿轮用于驱动所述转架旋转以实现所述基片的公转，所述传输齿轮用于实现所述基片的自转。4.根据权利要求1所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述基片真空搬运系统包括前后推进模组、旋转模组、两个取片机构，两个所述取片机构与所述前后推进模组相连接并可在所述前后推进模组的驱动下前后推进，所述旋转模组连接所述前后推进模组并可通过驱动所述两个取片机构旋转，进而实现所述进出片室和所述镀膜室之间的基片交换。5.根据权利要求1所述的一种连续式的公...

【专利技术属性】
技术研发人员：靳伟，余海春，戴秀海，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：