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本实用新型涉及一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，包括进出片室、镀膜室、搬运室以及外部基片架，其中搬运室设置在进出片室和镀膜室之间，搬运室内部设置有基片真空搬运系统，基片真空搬运系统用于实现进出片室和镀膜室之间的基片交换，进出片室...
该专利属于光驰科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰科技（上海）有限公司授权不得商用。

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