高反射纳米薄膜及其制备方法和应用技术

本发明专利技术提供了一种高反射纳米薄膜及其制备方法和应用，涉及镀膜技术领域，该薄膜包括自下而上依次设置的基材、厚度10

【技术实现步骤摘要】
高反射纳米薄膜及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及镀膜
，尤其是涉及一种高反射纳米薄膜及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]随着智能手机的普及，消费者对手机外观要求已越来越高，目前非金属材质的手机后盖已成为多数消费电子产品厂商中高端机型所追求的设计方向之一，高反射的增亮颜色膜目前是最主流的设计方案，未来几年，智能手机后盖将逐步由金属材质变为以陶瓷、玻璃、宝石为主要代表的非金属材质。仅采用传统的丝印、或者金属镀膜技术在陶瓷、玻璃或者宝石表面形成的外观效果、抗划伤性等已不能满足其信耐性要求，并且存在高反射炫彩的困扰，严重影响外观审美效果，故此具有强抗划伤性、高附着力、高反射纳米薄膜制备工艺具有很大的应用价值。
[0003]目前在非金属材质表面镀膜难达到高反射炫彩的效果，为了达到高反射炫彩效果，现有技术中采用高折射率和低折射率材料叠加，利用光的干涉效应原理来达到高反射效果，例如专利CN111747658A公开了一种炫彩变色镀膜玻璃，包括玻璃基片、外层高折射率Nb2O5膜层，从玻璃基片向外层高折射率Nb2O5膜层方向依次交替设置有多个内层高折射率Nb2O5膜层、内层低折射率SiO2膜层，总厚度为1500nm，这样叠加得到的高反射炫彩薄膜(厚度需要在1500nm才能达到高反射效果)，但膜层太厚，从而导致附着力不强，会导致水煮百格等性能不能满足要求。
[0004]此外，现有技术中有直接在膜层表面镀金属层，但镀金属材质容易导电，严重干扰手机等设备信号且有颜色影响效果。
[0005]有鉴于此，特提出本专利技术。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的之一在于提供一种高反射纳米薄膜，在较薄膜厚下即可达到反射≥95％的高标准反射效果，且镀层满足信赖性要求，满足客户对陶瓷、玻璃或者宝石(3D、2.5D、平片)表面外观视觉效果个性化要求。
[0007]本专利技术的目的之二在于一种高反射纳米薄膜的制备方法。
[0008]本专利技术的目的之三在于一种高反射纳米薄膜的应用。
[0009]为了实现本专利技术的上述目的，特采用以下技术方案：
[0010]第一方面，本专利技术提供了一种高反射纳米薄膜，包括自下而上依次设置的基材、过渡层、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层、金属层和第三低折射率层；
[0011]所述金属层包括铝层、铟层或银层；
[0012]所述过渡层的厚度为10
‑
30nm；
[0013]所述第一高折射率层的厚度为6
‑
15nm；
[0014]所述第一低折射率层的厚度为65
‑
80nm；
[0015]所述第二高折射率层的厚度为50
‑
65nm；
[0016]所述第二低折射率层的厚度为10
‑
90nm；
[0017]所述金属层的厚度为25
‑
90nm；
[0018]所述第三低折射率层的厚度为25
‑
70nm；
[0019]所述第二低折射率层和所述第三低折射率层的厚度之和与所述金属层的厚度之比为1：(1
‑
3)；
[0020]所述高反射纳米薄膜的膜厚低于440nm。
[0021]进一步的，所述过渡层包括SiO2层或SiO2和Al2O3混合层。
[0022]进一步的，所述第一高折射率层和所述第二高折射率层均独立地包括TiO2层、Nb2O5层中的一种。
[0023]进一步的，所述第一低折射率层、所述第二低折射率层和所述第三低折射率层均独立地包括SiO2层、氟化镁层或硅铝氧化物层。
[0024]进一步的，高反射纳米薄膜包括自下而上依次设置的基材、厚度10
‑
30nm的SiO2层、厚度6
‑
15nm的TiO2层、厚度65
‑
80nm的SiO2层、厚度50
‑
65nm的TiO2层、厚度60
‑
75nm的SiO2层、厚度60
‑
75nm的Al层和厚度25
‑
45nm的SiO2层。
[0025]进一步的，高反射纳米薄膜包括自下而上依次设置的基材、厚度10
‑
30nm的SiO2层、厚度6
‑
9nm的TiO2层、厚度64
‑
72nm的SiO2层、厚度55
‑
65nm的TiO2层、厚度52
‑
65nm的SiO2层、厚度45
‑
55nm的铟层和厚度25
‑
45nm的SiO2层。
[0026]进一步的，所述基材为陶瓷、玻璃或者宝石。
[0027]第二方面，本专利技术提供了一种上述高反射纳米薄膜的制备方法，包括以下步骤：
[0028]在基材上依次沉积过渡层、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层、金属层和第三低折射率层，得到高反射纳米薄膜。
[0029]进一步的，采用蒸镀或磁控溅射法进行沉积镀膜。
[0030]第三方面，本专利技术提供了一种上述高反射纳米薄膜在制备电子产品盖板中的应用。
[0031]本专利技术至少具有如下有益效果：
[0032]本专利技术通过交替设置的高、低折射率层以及金属层，并对每层材料、位置以及厚度的合理搭配和设置，不仅在较薄膜层厚度下达到反射≥95％的高标准反射效果，而且薄膜结合力好、电阻和信赖性均满足要求。
[0033]本专利技术适用于玻璃、宝石、陶瓷、PET基材表面高反射的镀膜，并且外观上达到了炫彩的效果。
[0034]本专利技术的制备方法效率高、良率高。
附图说明
[0035]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0036]图1为本专利技术实施例1得到的高反射纳米薄膜的实测反射图；
[0037]图2为本专利技术对比例1得到的高反射纳米薄膜的实测反射图。
具体实施方式
[0038]下面将结合实施例对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0039]现有技术中，非金属材质表面镀膜难达到高反射炫彩的效果；能够达到高反射炫彩效果的膜层则太厚。
[0040]本专利技术提供了一种金属材料的高反射纳米薄膜，用以解决现有透明陶瓷材质、透明玻璃或者宝石表面高反射炫彩问题，以满足客户对陶瓷、玻璃或者宝石(3D、2.5D、平片)表面视觉效果个性化要求，在较薄膜厚下即可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高反射纳米薄膜，其特征在于，包括自下而上依次设置的基材、过渡层、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层、金属层和第三低折射率层；所述金属层包括铝层、铟层或银层；所述过渡层的厚度为10
‑
30nm；所述第一高折射率层的厚度为6
‑
15nm；所述第一低折射率层的厚度为65
‑
80nm；所述第二高折射率层的厚度为50
‑
65nm；所述第二低折射率层的厚度为10
‑
90nm；所述金属层的厚度为25
‑
90nm；所述第三低折射率层的厚度为25
‑
70nm；所述第二低折射率层和所述第三低折射率层的厚度之和与所述金属层的厚度之比为1：(1
‑
3)；所述高反射纳米薄膜的膜厚≤440nm。2.根据权利要求1所述的高反射纳米薄膜，其特征在于，所述过渡层包括SiO2层或SiO2和Al2O3混合层。3.根据权利要求1所述的高反射纳米薄膜，其特征在于，所述第一高折射率层和所述第二高折射率层均独立地包括TiO2层、Nb2O5层中的一种。4.根据权利要求1所述的高反射纳米薄膜，其特征在于，所述第一低折射率层、所述第二低折射率层和所述第三低折射率层均独立地包括SiO2层、氟化镁层或硅铝氧化物层。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的高反射纳米薄膜，其特征在于，包括自下而上依次设置的基材、厚度10
‑
30nm的SiO2层、厚度6
‑

【专利技术属性】
技术研发人员：于海亮，朱斌，陈小群，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：发明
国别省市：