一种蚀刻装置制造方法及图纸

本申请公开了一种蚀刻装置，包括承载机构以及喷淋机构，承载机构用于承载待蚀刻的待加工物料，并使得待加工物料的待蚀刻表面与竖直方向具有预设角度，喷淋机构用于对应待加工物料的待蚀刻表面设置并朝向待蚀刻表面喷淋蚀刻液体，以使得蚀刻液体受重力影响而沿待蚀刻表面流动。该设计其能够有效地控制好对蚀刻药水的控制能力以提升待加工物料的生产良率。水的控制能力以提升待加工物料的生产良率。水的控制能力以提升待加工物料的生产良率。

【技术实现步骤摘要】
一种蚀刻装置


[0001]本申请涉及半导体生产
，尤其涉及一种蚀刻装置。

技术介绍

[0002]待加工物料的蚀刻加工工艺中最难的就是对蚀刻药水的控制能力，且对蚀刻药水的控制能力的好坏会直接影响待加工物料的生产良率，例如蚀刻药水在待加工物料上的停留时间过长，会造成过度蚀刻。因此，如何控制好对蚀刻药水的控制能力以提升待加工物料的生产良率已成为亟待解决的问题。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供一种蚀刻装置，其能够有效地控制好对蚀刻药水的控制能力以提升待加工物料的生产良率。
[0004]第一方面，本申请实施例提供了一种蚀刻装置；该蚀刻装置包括承载机构以及喷淋机构，承载机构用于承载待蚀刻的待加工物料，并使得待加工物料的待蚀刻表面与水平方向具有预设角度，喷淋机构用于对应待加工物料的待蚀刻表面设置并朝向待蚀刻表面喷淋蚀刻液体，以使得蚀刻液体受重力影响而沿待蚀刻表面流动。
[0005]基于本申请实施例的一种蚀刻装置，待蚀刻的待加工物料放置于承载机构上以后，待加工物料的待蚀刻表面与水平方向之间呈夹角设置，也即呈预设角度设置，当喷淋机构朝向待加工物料的对应的待蚀刻表面喷淋蚀刻液体时，因为预设角度的存在，使得粘附于待蚀刻表面上的蚀刻液体可由自身重力的影响沿待蚀刻表面流动，有效的避免了蚀刻液体在待加工物料的待蚀刻表面上的沉积，降低了蚀刻液体的控制难度，从而可达到提升产品良率的效果。
[0006]在其中一些实施例中，预设角度为α，且α的取值范围满足条件式：85度≤α≤95度。
[0007]基于上述实施例，将预设角度控制在85度≤α≤95度的范围内，待蚀刻表面110与竖直方向的角度则在基于竖直方向的正负5度的范围内，一方面能够使得粘附于待蚀刻表面上的蚀刻液体在重力作用下更容易沿待蚀刻表面流动，从而进一步降低蚀刻液体的控制难度，另一方面在结构上更便于承载机构对待加工物料的支撑与固定。
[0008]在其中一些实施例中，承载机构以及喷淋机构中的一个可相对于另一个产生运动，以朝向待蚀刻表面喷淋蚀刻液体。
[0009]基于上述实施例，承载机构以及喷淋机构中的一个可运动，一方面使得蚀刻液能够尽可能多的覆盖待加工物料的待蚀刻表面，以达到良好的蚀刻效果，另一方面对于大批量的待蚀刻待加工物料而言，边蚀刻边运动，还能够达到提升待加工物料的生产效率的效果。
[0010]在其中一些实施例中，承载机构包括传送带、传动元件以及驱动元件，驱动元件与传动元件连接，驱动元件配置成可驱动传动元件牵引传送带运动，从而使得待加工物料跟随传送带沿传输方向运动。
[0011]基于上述实施例，驱动元件驱动传动元件运动，传动元件牵引与之连接的传送带运动，使得放置在传送带上的待加工物料随传送带一起运动，从而实现了待加工物料与喷淋机构之间的相对运动，提升待加工物料的蚀刻效果的同时还提升了待加工物料的生产效率。
[0012]在其中一些实施例中，承载机构还包括邻近传送带设置，且用于限制待加工物料在传输过程中相对于传送带产生偏移的缓冲紧固件。
[0013]基于上述实施例，通过缓冲紧固件的设置，缓冲紧固件可用于固定放置在传送带上的待加工物料，以避免待加工物料在传送的过程中相对于传送带发生位置的偏移，增强待加工物料在传送过程中的稳定性，从而进一步降低了待加工物料的蚀刻难度。
[0014]在其中一些实施例中，缓冲紧固件包括多个缓冲块，多个缓冲块两两为一组可形成多个固定组，待加工物料可夹设于同一固定组中的两缓冲块之间，多个固定组设置于承载机构的进料端以及出料端。
[0015]基于上述实施例，同一固定组中的两个缓冲块从待加工物料的两侧进行夹持，且多个固定组设置在承载机构的进料端以及出料端，多个固定组从待加工物料的两端进行固定，进一步增强了待加工物料放置在传送带上的稳定性。
[0016]在其中一些实施例中，喷淋机构包括喷淋管以及喷淋架，喷淋管用于输送蚀刻液体，喷淋架用于支撑喷淋管且设置于承载机构的至少一侧。
[0017]基于上述实施例，喷淋架用于支撑喷淋管，喷淋管用于输送蚀刻液体，喷淋架设置于承载机构的至少一侧以从待加工物料的的至少一侧蚀刻待蚀刻表面。
[0018]在其中一些实施例中，喷淋管包括第一喷淋管以及第二喷淋管中的至少一种；第一喷淋管包括第一主管、与第一主管垂直连通的第一支管、以及设置于第一支管的背离第一主管一端的第一喷头；第二喷淋管包括第二主管、与第二主管垂直连通的第二支管、以及设置于第二支管的背离第二主管一端的第二喷头；其中，在沿第一支管或第二支管的长度方向上，第一支管的长度尺寸大于第二支管的长度尺寸。
[0019]基于上述实施例，蚀刻液体在第一喷淋管内依次流经第一主管、第一支管并从第一喷头喷出射至待加工物料的待蚀刻表面以对待加工物料进行蚀刻操作，同理蚀刻液体在第二喷淋管内依次经过第二主管、第二支管并从第二喷头喷出射至待加工物料的待蚀刻表面以对待加工物料进行蚀刻操作。
[0020]在其中一些实施例中，第一喷淋管的数量为多个，第二喷淋管的数量亦多个，且在沿竖直方向上，多个第一喷淋管与多个第二喷淋管呈交替间隔设置，且当多个第一喷淋管以及多个第二喷淋管装设于喷淋架后，第一喷头的喷嘴与第二喷头的喷嘴位于同一平面内。
[0021]基于上述实施例，多个第一喷淋管以及多个第二喷淋管在沿竖直方向呈交错间隔设置，且第一喷头的喷嘴与第二喷头的喷嘴位于同一平面内，使得多个第一喷淋管与喷淋架之间的支撑点同多个第二喷淋管与喷淋架之间的支撑点错开，从而使得喷淋架的受力均匀，对喷淋架起到良好的保护作用，延长了喷淋架的使用寿命。
[0022]在其中一些实施例中，第一支管的数量为多个，第一喷头的数量亦为多个，且一个第一喷头对应设置于一个第一支管；第二支管的数量为多个，第二喷头的数量亦为多个，且一个第二喷头对应设置于一个第二支管；其中，在沿第一主管或第二主管的长度方向上，多
个第一支管与多个第二支管呈交替间隔设置。
[0023]基于上述实施例，通过将第一支管与第二支管的间隔排布，一方面使得蚀刻液体能够进一步尽可能多的覆盖待加工物料的待蚀刻表面，从而达到进一步优化待加工物料的蚀刻效果的目的，另一方面也更利于对蚀刻液体的控制以降低蚀刻液体的控制难度。
[0024]基于本申请实施例的一种蚀刻装置，待蚀刻的待加工物料放置于承载机构上以后，待加工物料的待蚀刻表面与水平方向之间呈夹角设置，也即呈预设角度设置，当喷淋机构朝向待加工物料的对应的待蚀刻表面喷淋蚀刻液体时，因为预设角度的存在，使得粘附于待蚀刻表面上的蚀刻液体可由自身重力的影响沿待蚀刻表面流动，有效的避免了蚀刻液体在待加工物料的待蚀刻表面上的沉积，降低了蚀刻液体的控制难度，从而可达到提升产品良率的效果。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻装置，其特征在于，包括：承载机构，用于承载待蚀刻的待加工物料，并使得所述待加工物料的待蚀刻表面与水平方向具有预设角度；及喷淋机构，用于对应所述待加工物料的待蚀刻表面设置并朝向所述待蚀刻表面喷淋蚀刻液体，以使得所述蚀刻液体受重力影响而沿所述待蚀刻表面流动。2.如权利要求1所述的一种蚀刻装置，其特征在于，所述预设角度为α，且α的取值范围满足条件式：85度≤α≤95度。3.如权利要求1所述的一种蚀刻装置，其特征在于，所述承载机构以及所述喷淋机构中的一个可相对于另一个产生运动，以朝向所述待蚀刻表面喷淋所述蚀刻液体。4.如权利要求3所述的一种蚀刻装置，其特征在于，所述承载机构包括：传送带；传动元件；及驱动元件，与所述传动元件连接，所述驱动元件配置成可驱动所述传动元件牵引所述传送带运动，从而使得所述待加工物料跟随所述传送带沿传输方向运动。5.如权利要求4所述的一种蚀刻装置，其特征在于，所述承载机构还包括邻近所述传送带设置，且用于限制所述待加工物料在传输过程中相对于所述传送带产生偏移的缓冲紧固件。6.如权利要求5所述的一种蚀刻装置，其特征在于，所述缓冲紧固件包括多个缓冲块，所述多个缓冲块两两为一组可形成多个固定组，所述待加工物料可夹设于同一所述固定组中的两所述缓冲块之间；所述多个固定组设置于所述承载机构的进料端以及出料端。7.如权利要求1所述的一种蚀刻装置，其特征在于，所述喷淋机构包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：王亚伟，许建勇，
申请(专利权)人：江西慧光微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：