【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图像传感器及其制作方法、搭载图像传感器的成像装置
[0001]本申请涉及图像传感器
,尤其涉及一种图像传感器及其制作方法、搭载图像传感器的成像装置。
技术介绍
[0002]自从背照式(BSI)CMOS图像传感器兴起以来,极大推动了CMOS图像传感器向小尺寸及多元化的发展。背照式技术使得感光区域从图像传感器的正面转移到了背面,因此其金属走线不再需要避开感光区域,提高了像素设计的灵活性,使得图像传感器向越来越小尺寸的发展变成了可能,提高了像素的填充系数,减少了金属层数。
[0003]对于背照式图像传感器而言,光需从背面入射至感光区域,因此硅衬底需要将背面减薄至一定的厚度,这在很大程度上缩短了入射光在硅衬底内的光程,影响了感光区域对光的吸收以及转化效率,即量子效率。
技术实现思路
[0004]基于此,本申请提供了一种图像传感器及其制作方法、搭载图像传感器的成像装置。
[0005]第一方面,本申请提供了一种图像传感器,所述图像传感器包括:
[0006]半导体衬底;
[0007]形成于所述半导体衬底内的像素阵列,所述像素阵列包括光敏元件,所述光敏元件能够接收光并产生光生载流子;
[0008]设置在所述半导体衬底一侧的金属互连区,所述金属互连区包括介质和所述介质中平行设置的多个金属互连层,所述金属互连层连接至所述光敏元件;
[0009]设于所述半导体衬底另一侧的光学组件,所述光学组件能够将光导向所述光敏元件;
[0010]其中,所述金属互连区中形成有金 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种图像传感器,其特征在于,所述图像传感器包括:半导体衬底;形成于所述半导体衬底内的像素阵列,所述像素阵列包括光敏元件,所述光敏元件能够接收光并产生光生载流子;设置在所述半导体衬底一侧的金属互连区,所述金属互连区包括介质和所述介质中平行设置的多个金属互连层,所述金属互连层连接至所述光敏元件;设于所述半导体衬底另一侧的光学组件,所述光学组件能够将光导向所述光敏元件;其中,所述金属互连区中形成有金属
‑
介质
‑
金属电容,以将光反射向所述光敏元件。2.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,所述金属
‑
介质
‑
金属电容位于所述光敏元件的一侧,并且该侧为所述光敏元件远离所述光学组件的一侧,以及所述金属
‑
介质
‑
金属电容用于将照射至所述金属
‑
介质
‑
金属电容的光反射到所述光敏元件。3.根据权利要求1或2所述的图像传感器,其特征在于,所述金属
‑
介质
‑
金属电容包括形成于所述金属互连层的电极和所述电极之间的所述介质。4.根据权利要求3所述的图像传感器,其特征在于,所述金属
‑
介质
‑
金属电容包括分别在至少两个所述金属互连层上形成的电极。5.根据权利要求4所述的图像传感器,其特征在于,所述金属
‑
介质
‑
金属电容包括在第一金属互连层上形成的第一电极和在第二金属互连层上形成的第二电极。6.根据权利要求5所述的图像传感器,其特征在于,所述第一金属互连层和所述第二金属互连层之间具有第三金属互连层。7.根据权利要求5或6所述的图像传感器,其特征在于,所述第一电极包括多个间隔排列的第一金属条,所述第二电极包括多个间隔排列的第二金属条。8.根据权利要求7所述的图像传感器,其特征在于,所述第一金属条和所述第二金属条之间具有一预定角度。9.根据权利要求8所述的图像传感器,其特征在于,所述第一金属条和所述第二金属条相互垂直。10.根据权利要求6所述的图像传感器,其特征在于,所述金属
‑
介质
‑
金属电容还包括在所述第三金属互连层上形成的第三电极。11.根据权利要求10所述的图像传感器,其特征在于,所述第一电极包括多个间隔排列的第一金属条,所述第二电极包括多个间隔排列的第二金属条,所述第三电极包括多个间隔排列的第三金属条。12.根据权利要求11所述的图像传感器,其特征在于,所述第一金属条和所述第三金属条之间的角度为60度至90度,所述第二金属条和所述第三金属条之间的角度为60度至90度。13.根据权利要求12所述的图像传感器,其特征在于,所述第一金属条和所述第三金属条相互垂直,所述第一金属条和所述第二金属条相互平行。14.根据权利要求13所述的图像传感器,其特征在于,所述第一金属条和所述第二金属条在所述第一金属条的宽度方向上交错设置。15.根据权利要求1
‑
14中任一项所述的图像传感器,其特征在于,所述金属互连层包括
连接所述光敏元件的金属线路,所述金属
‑
介质
‑
金属电容连接所述金属线路。16.根据权利要求1
‑
15中任一项所述的图像传感器,其特征在于,所述图像传感器还包括:形成于所述半导体衬底内的浮置扩散区;连接所述光敏元件和所述浮置扩散区的传输管;其中,所述金属
‑
介质
‑
金属电容的一端用于连接电源,另一端通过一开关元件连接所述浮置扩散区,所述开关元件导通时,所述金属
‑
介质
‑
金属电容能够由所述浮置扩散区充电或者向所述浮置扩散区放电。17.一种成像装...
【专利技术属性】
技术研发人员:周雪梅,徐泽,肖琳,
申请(专利权)人:深圳市大疆创新科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。