亚波长光栅导模共振防伪商标及其制作方法技术

一种亚波长光栅导模共振防伪商标，由注册商标基板（１）、普通注册商标图形（２）、商标注册单位名称（３）和防伪区域（４），以及涂在商标基板（１）下面的吸光不干胶层（７）组成，其特征在于：防伪区域（４）中有特定方向范围内可视见的具有防伪功能的单色图形或字、字母，这些图形或字、字母都是由压制的单方向长短不一的若干条亚波长光栅（６）构成。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，属于商标防伪

技术介绍
在我国从计划经济转入市场经济，并融入全球经济高速发展时期，商品生产发展极快，产品琳琅满目，新产品也不断出现，尽管注册商标制度已建立，但是冒牌商标产品屡禁不止，阻碍和影响了市场经济规范化发展，迫切需要打击冒牌产品，同时也迫切需要发展防伪商标，以规范商品经济和商品市场发展。目前已有激光全息防伪注册商标、电码防伪注册商标和衍射光栅防伪商标等等，这些防伪注册商标物理原理简单，制作方便，成本较低，利于广泛推广应用，这是它的优点，正是这些优点，带来了容易被仿造，防伪效果不好的缺点，使防伪商标起不了真正的防伪作用。
技术实现思路
本专利技术的技术解决问题是克服上述现有技术的不足，提供一种亚波长光栅导模共振防伪注册商标及其制作方法，该方法技术原理复杂，但生产工艺相对简单，不易被仿造，防伪效果极好。本专利技术的技术解决方案是一种亚波长光栅导模共振防伪注册商标，由注册商标基板、普通注册商标图形、商标注册单位名称和防伪区域，以及涂在商标基板下面的吸光不干胶层，其特点在于在防伪区域中有特定方向范围内可视见的具有防伪功能的单色图形或字、字母，这些图形或字、字母都是由压制的单方向长短不一的若干条亚波长光栅。所述的在注册商标基板上压制的一种光栅，其周期为t，t值为0.25-0.55μm，并且基板的材料折射率ng、光栅层的等效折射率ne、入射角θ、光波波长λ、光栅高度h1和基板的底层厚度h2有以下关系h1=λ/(2ne2-sin2θ)]]>h2=λ/(2ng2-sin2θ)]]>基板的材料折射率ng值为1.100-1.800，光栅层的等效折射率ne值为1.200-1.600，入射角θ值为±15°，光波波长λ值为0.405-0.700μm，光栅高度h1值为0.15-0.30μm，基板的底层厚度h2值为0.01-0.20μm。在有TE偏振的白光照射下，亚波长光栅产生了导模共振，可在注册商标的正前方±15°范围内观察到很亮的红色或绿色单色防伪效果极好的防伪字母。所述的在注册商标基板上压制的另一种光栅，其周期为t′，t′值为0.20-0.75μm，在压制的光栅上表面盖一层透明的塑料薄膜，并且基板的材料折射率ns、光栅层的等效折射率ne、覆盖层(8)折射率ng、入射角θ、光波波长λ′、覆盖层高度h1′、光栅厚度h2′和基板的底层高度h3′有以下关系h1′=λ′/(2ng2-sin2θ)]]>h2′=λ′/(2ne2-sin2θ)]]>h3′=λ′/(2ns2-sin2θ)]]>基板的材料折射率ns值为1.200-2.000，光栅层的等效折射率ne值为1.200-1.800，覆盖层折射率ng值为1.200-2.000，入射角θ值为±15°，光波波长λ′值为0.25-0.70μm，光栅高度h1′值为0.01-0.200μm，基板的底层厚度h2′值为0.05-0.30μm，覆盖层高度h3′值为0.1 0-0.40μm。在有TE偏振的白光照射下，亚波长光栅产生了导模共振，可在注册商标的正前方±15°范围内透过覆盖层观察到很亮的红色或绿色单色防伪效果极好的防伪字母。制作上述亚波长光栅导模共振防伪商标的方法，其特征还在于防伪区域中带光栅的字母制作方法和步骤是，第一步用常规超微细光刻和刻蚀方法及工艺，在钢或铜、石英材料上制作出与设计尺寸相同的模子；第二步再用滚压或压制方法与工艺，再在基板上的防伪区域中制作出由光栅组成的字母；第三步在压制的光栅表面上覆盖一层透明的塑料薄膜。本专利技术与现有技术相比具有以下优点使用该亚波长光栅导模共振防伪商标时，尽管其生产工艺相对简单，制作方便，成本也较低，但由于它的设计技术原理复杂，并与多个因素相关，一旦制作参数被确定，就不易被仿造，因此是一种利于广泛应用防伪效果极好的防伪注册商标。附图说明图1为本专利技术结构示意图；图2为图1中具有防伪功能局部区域结构放大图；图3为图2防伪功能区域中一局部细节I字AA剖面一种结构放大图；图4为图3剖面结构原理的一种实施例防伪区域结构放大图；图5为图2防伪功能区域中一局部细节I字AA剖面另一种结构放大图；图6为图5剖面结构原理的另一种实施例防伪区域结构放大图。具体实施例方式如图1所示，本专利技术亚波长光栅导模共振防伪商标由半透明可视见的注册商标基板1、普通注册商标图形2、商标注册单位名称3和具有防伪功能区域4组成，注册商标基板1是一半透明的塑料薄膜，厚度为0.02-0.5mm，大小5×5-30×30mm，其形状为矩形或方形、圆形、椭圆形、菱形或多边形；普通注册商标图形2是由注册商标单位所设计的商标图形，用印制的方法将图形印刷到薄膜上，是任何方向和情况都是可视见的；商标注册单位名称3是商标注册单位的全称或简称，与商标图形2一样，用印制的方法将名称印刷到薄膜上，是任何方向和情况都是可视见的；除可视见的注册商标图形2和商标注册单位名称3以外，还作有只有特定范围方向可视见单色图形或字、字母的防伪区域4，在该区域中的图形或字和字母5具有防伪功能。如图2所示，为图1中具有防伪功能局部区域4结构放大图，图中是对字母I 5进行了结构放大，由图2可见I字是由压制的单方向长短不一若干条亚波长光栅6构成，光栅条数和长短由字母或图形尺寸决定，光栅条数等于字母或图形尺寸除以光栅周期t。如图3所示，为图2防伪功能区域中一局部细节I字AA剖面一种结构放大图，在可视的注册商标基板1下涂有一层吸光不干胶7，可用于和产品或产品外包装粘贴；在注册商标基板1的防伪功能区域4上压制的光栅，其周期为t，并且基板1的材料折射率ng、光栅层的等效折射率ne、入射角θ、光波波长λ、光栅高度h1和基板1的底层厚度h2有以下关系h1=λ/(2ne2-sin2θ)]]>h2=λ/(2ng2-sin2θ)]]>基板1在TE光照射下，可在注册商标的正前方±15°范围内观察到很亮的红色或绿色或其它单色防伪字母，这是由于射入TE偏振的白光，经亚波长光栅产生了导模共振，其中有一窄波段的光能没有透过基板1的底层或被吸收，光能无损耗全部反射出来，因而可看到很亮的红色或绿色或其它单色防伪字母。如图4所示，是本专利技术应用图3剖面结构原理的一种实施例防伪区域结构放大图，在可视的注册商标基板1下涂有一层吸光不干胶7，可用于和产品或产品外包装粘贴；在注册商标基板1的伪功能区域4上压制了光栅，由光栅组成的字母CASIOE 5是中科院光电所英文的第一个字母，其光栅周期为t，t值为0.25-0.55μm，该防伪功能区域带光栅的字母制作方法和步骤是第一步用常规超微细光刻和刻蚀方法及工艺，在钢或铜、石英材料上制作出与设计尺寸相同的模子；第二步再用滚压或压制方法与工艺，在基板1上制作出防伪功能区本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：秦涛，陈旭南，石建平，陈献忠，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：