减小模耦合到包层的写入型光栅中的插入损耗制造技术

本发明专利技术涉及具有纤芯，包层，和光栅的光纤，利用辐照写入光栅和至少耦合一种光模到包层中，因此，该光模在其中耗散。本发明专利技术的建议是，平均折射率至少在光栅的端部沿光栅逐渐地变化。平均折射率的逐渐变化或用于写入光栅的折射率调制幅度的逐渐变化的作用是，限制插入损耗在光栅形成的滤波器中。类似地，在写入型光栅中，本发明专利技术提供的方法相当于逐渐改变光纤的纤芯尺寸，用于连接具有不同纤芯直径的两个光纤。本发明专利技术特别适用于ＷＤＭ传输系统中的增益均衡滤波器。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种具有纤芯，包层，和光栅的光纤，利用辐照写入光栅和至少耦合一种光模到包层中，该光纤的特征是，光纤的平均折射率至少在光栅端部沿光栅变化。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：伊萨贝尔莱恩特，卡洛斯D巴洛斯，米歇尔朱克兹恩，皮埃尔桑索尼蒂，
申请(专利权)人：阿尔卡塔尔公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]