热处理用立式炉下盖结构及立式真空炉制造技术

本发明专利技术提供了一种热处理用立式炉下盖结构及立式真空炉，涉及热处理设备的技术领域。热处理用立式炉下盖结构包括下炉盖、旋转动力件、下盖保温组件和料台支撑件；旋转动力件设置在下炉盖的外壁；下炉盖上密封插设有可转动的旋转轴，旋转轴位于下炉盖外的端部与旋转动力件传动连接，旋转轴的另一端与料台支撑件固定连接，下盖保温组件设置在旋转轴上。立式真空炉包括炉体、炉体保温组合、冷却组件和热处理用立式炉下盖结构；炉体保温组合和冷却组件两者设置在炉体内；冷却组件位于炉体保温组合外；热处理用立式炉下盖结构与炉体连接，且下盖保温组件能够与炉体保温组合密封连接。达到了工件变形量大的技术效果。了工件变形量大的技术效果。了工件变形量大的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
热处理用立式炉下盖结构及立式真空炉


[0001]本专利技术涉及热处理设备
，具体而言，涉及热处理用立式炉下盖结构及立式真空炉。

技术介绍

[0002]真空热处理技术是随着国防尖端工业以及精密机械制造业等的发展而法阵起来的新型热处理技术。尤其是今年来，零件性能及精度要求的提高，使得真空热处理技术日益受到重视，不仅用于活泼及难熔金属的热处理，还逐渐推广到钢铁材料的退火、淬火、回火、渗碳、渗氮以及渗金属等各领域。真空热处理工件通常机油一系列突出优点，不氧化、不脱碳，处理后仍保持表面光亮和原有光泽，表面通常可不加工，工件无变形，较高的耐磨性和使用寿命，对工件有脱脂、脱气作用，无污染、无公害，自动化程度高等。
[0003]客户选用立式真空热处理炉多对产品在热处理工艺过程中圆周方向的变形量有较高要求，目前市场中常见的立式真空热处理炉采用传统的底部装料结构，一定程度上满足了客户的需求，但很难满足客户产品较小变形量的生产要求。
[0004]因此，提供一种产品装炉方便的热处理用立式炉下盖结构及立式真空炉成为本领域技术人员所要解决的重要技术问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种热处理用立式炉下盖结构及立式真空炉，以缓解现有技术中产品变形量大的技术问题。
[0006]第一方面，本专利技术实施例提供了一种热处理用立式炉下盖结构，包括下炉盖、旋转动力件、下盖保温组件和料台支撑件；
[0007]所述旋转动力件设置在所述下炉盖的外壁；
[0008]所述下炉盖上密封插设有可转动的旋转轴，所述旋转轴位于所述下炉盖外的端部与所述旋转动力件传动连接，所述旋转轴的另一端与所述料台支撑件固定连接，所述下盖保温组件设置在所述旋转轴上。
[0009]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述旋转轴上固定设置有旋转支撑平台；
[0010]所述旋转支撑平台上设置有多个用于支撑所述料台支撑件的辅助支撑杆。
[0011]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述多个所述辅助支撑杆以所述旋转轴为旋转中心均匀分布在所述旋转支撑平台上。
[0012]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述下炉盖的内壁设置有多个用于支撑所述旋转支撑平台的辅助支撑座；
[0013]所述辅助支撑座的顶部设置有与所述旋转支撑平台抵接的万向球。
[0014]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述下盖保温组件包括下盖固定保温组合和下盖活动保温组合；
[0015]所述下盖固定保温组合通过支杆设置在所述下炉盖内壁；
[0016]所述下盖活动保温组合固定设置在所述旋转轴上，且所述下盖活动保温组合位于所述料台支撑件与所述旋转支撑平台之间；
[0017]所述下盖固定保温组合和所述下盖活动保温组合两者能够密封连接。
[0018]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述旋转支撑平台上设置有多个支撑筒，所述旋转轴和所述辅助支撑杆两者上均套设有所述支撑筒；
[0019]多个所述支撑筒上设置有支撑板，所述下盖活动保温组合设置在所述支撑板上。
[0020]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述下炉盖上开设有用于安装所述旋转轴的安装孔，所述安装孔内设置有轴承座，所述轴承座内设置有轴承。
[0021]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述轴承座位于所述下炉盖的外壁的一端设置有油封座；
[0022]所述油封座内设置有骨架油封；
[0023]所述油封座上设置有油封压盖。
[0024]第二方面，本专利技术实施例提供了一种立式真空炉，包括炉体、炉体保温组合、冷却组件和所述热处理用立式炉下盖结构；
[0025]所述炉体保温组合和所述冷却组件两者设置在所述炉体内；
[0026]所述冷却组件位于所述炉体保温组合外；
[0027]所述热处理用立式炉下盖结构与所述炉体连接，且所述下盖保温组件能够与所述炉体保温组合密封连接。
[0028]结合第二方面，本专利技术实施例提供了第二方面的一种可能的实施方式，其中，上述冷却组件包括多个通风管道和多个喷嘴；
[0029]每个所述通风管道上均设置有多个所述喷嘴，所述喷嘴的喷气端均插设在所述炉体保温组合上，以使冷却气体能够进入到所述炉体保温组合内。
[0030]有益效果：
[0031]本专利技术实施例提供了一种热处理用立式炉下盖结构，包括下炉盖、旋转动力件、下盖保温组件和料台支撑件；旋转动力件设置在下炉盖的外壁；下炉盖上密封插设有可转动的旋转轴，旋转轴位于下炉盖外的端部与旋转动力件传动连接，旋转轴的另一端与料台支撑件固定连接，下盖保温组件设置在旋转轴上。
[0032]在具体使用时，工作人员下降下炉盖，使得下炉盖与立式真空炉的炉体分离，当下炉盖下降时，设置在下炉盖上的旋转轴能够带动设置在旋转轴上的料台支撑件下降，从而便于工作人员下料和上料，上料完成后，下炉盖上升并与立式真空炉的炉体连接，设置在旋转轴上的下盖保温组件能够与立式真空炉的炉体内的炉体保温组件连接，然后开始热处理工作，在热处理过程中，旋转动力件能够带动旋转轴转动，从而带动料台支撑件随旋转轴转动，使得料台支撑件上的工件能够受热均匀，提高工件的质量；然后在热处理完成后进行冷却环节中，通过旋转动带动料台支撑件转动，使得料台支撑件上的工件全面均匀的冷却，从而降低热处理后的工件变形量，从而提高产品的质量。
[0033]本专利技术实施例提供了一种立式真空炉，包括炉体、炉体保温组合、冷却组件和热处
理用立式炉下盖结构；炉体保温组合和冷却组件两者设置在炉体内；冷却组件位于炉体保温组合外；热处理用立式炉下盖结构与炉体连接，且下盖保温组件能够与炉体保温组合密封连接。立式真空炉与现有技术相比具有上述的优势，此处不再赘述。
附图说明
[0034]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0035]图1为本专利技术实施例提供的热处理用立式炉下盖结构与炉体连接的第一角度剖视的局部示意图；
[0036]图2为本专利技术实施例提供的热处理用立式炉下盖结构与炉体连接的第二角度剖视的局部示意图；
[0037]图3为本专利技术实施例提供的热处理用立式炉下盖结构与炉体连接的示意图。
[0038]图标：
[0039]100
‑
下炉盖；110
‑
辅助支撑座；111
‑
万向球；120
‑
轴承座；130
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种热处理用立式炉下盖结构，其特征在于，包括：下炉盖(100)、旋转动力件(200)、下盖保温组件(300)和料台支撑件(400)；所述旋转动力件(200)设置在所述下炉盖(100)的外壁；所述下炉盖(100)上密封插设有可转动的旋转轴(500)，所述旋转轴(500)位于所述下炉盖(100)外的端部与所述旋转动力件(200)传动连接，所述旋转轴(500)的另一端与所述料台支撑件(400)固定连接，所述下盖保温组件(300)设置在所述旋转轴(500)上。2.根据权利要求1所述的热处理用立式炉下盖结构，其特征在于，所述旋转轴(500)上固定设置有旋转支撑平台(510)；所述旋转支撑平台(510)上设置有多个用于支撑所述料台支撑件(400)的辅助支撑杆(511)。3.根据权利要求2所述的热处理用立式炉下盖结构，其特征在于，多个所述辅助支撑杆(511)以所述旋转轴(500)为旋转中心均匀分布在所述旋转支撑平台(510)上。4.根据权利要求2所述的热处理用立式炉下盖结构，其特征在于，所述下炉盖(100)的内壁设置有多个用于支撑所述旋转支撑平台(510)的辅助支撑座(110)；所述辅助支撑座(110)的顶部设置有与所述旋转支撑平台(510)抵接的万向球(111)。5.根据权利要求2所述的热处理用立式炉下盖结构，其特征在于，所述下盖保温组件(300)包括下盖固定保温组合(310)和下盖活动保温组合(320)；所述下盖固定保温组合(310)通过支杆(311)设置在所述下炉盖(100)内壁；所述下盖活动保温组合(320)固定设置在所述旋转轴(500)上，且所述下盖活动保温组合(320)位于所述料台支撑件(400)与所述旋转支撑平台(510)之间；所述下盖固定保温组合(310)和所述下盖活动保温组合(320)两者能够密封连接。6....

【专利技术属性】
技术研发人员：罗意，
申请(专利权)人：江苏石川岛丰东真空技术有限公司，
类型：发明
国别省市：