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一种盖髓剂、组合物及其应用制造技术

技术编号:30164590 阅读:56 留言:0更新日期:2021-09-25 15:19
本发明专利技术公开了一种盖髓剂、组合物及其应用,涉及牙科生物医用材料技术领域。该盖髓剂能用于牙髓切断术在切面形成牙本质桥,发明专利技术人研究表明,盖髓剂是通过增强了BMP

【技术实现步骤摘要】
一种盖髓剂、组合物及其应用


[0001]本专利技术涉及牙科生物医用材料
,具体而言,涉及一种盖髓剂、组合物及其应用。

技术介绍

[0002]牙本质是牙体硬组织的主要组成部分,牙髓是牙体的唯一软组织,因牙髓和牙本质在胚胎发生和功能上的关系密切,故将二者合称为牙髓牙本质复合体。牙髓牙本质复合体是牙生命的核心,具有营养、感觉、防御及修复的生理功能。牙髓是牙釉质和牙本质的主要营养来源,一旦牙髓坏死,牙会变得脆弱,容易折裂;牙萌出后,牙根发育需要2~3年才能完成,未完成前的根尖呈漏斗状,根尖孔宽大,只有当牙髓有活力时,才能使萌出后的牙继续发育完成;活牙髓具有防御作用,对外界刺激有保护性反应,并能形成第三期牙本质,因此保存牙髓活力尤为重要。
[0003]在外界刺激下,牙髓牙本质复合体会发生相应的组织变化,当刺激相对缓慢时,存活的正常牙本质细胞形成反应性牙本质;当刺激相对较强时,深层的牙髓间充质细胞分化为成牙本质细胞,形成修复性牙本质,故将修复性牙本质和反应性牙本质统称为第三期牙本质。第三期牙本质的形成能增加牙表面与牙髓组织之间的距离并能一定程度上影响牙本质小管的通透性,阻塞牙本质小管,能保存牙髓活力并避免微生物的侵入。因此,第三期牙本质的形成在牙髓切断术中对于活髓保存治疗具有重要临床意义。
[0004]当乳牙或恒牙外伤冠折露髓、深龋去除腐质露髓而无根尖周炎症患牙,为保存牙髓活力,使创面愈合,可选择牙髓切断术。牙髓切断术是指去除冠部感染的牙髓组织,以盖髓材料覆盖于牙髓切断面上,形成牙本质桥,促进创面愈合以保留健康牙髓的活力的一种保存活髓的治疗方法。牙髓切断术能否成功与诸多因素相关。其中一个重要因素为盖髓材料的选择。
[0005]应用于临床的盖髓材料应该能抑制细菌的生长、诱导牙髓干细胞分化和矿化并为成牙本质细胞提供良好的生物矿化微环境,以促进第三期牙本质的形成。临床上最常用于牙髓切断术的盖髓材料有氢氧化钙(calcium hydroxide,CH)、三氧化物聚合物(mineral trioxide aggregate,MTA)等。其中,CH是强碱性材料,具有抗菌、促进牙髓干细胞的成牙本质向分化和矿化的作用,能在牙髓切断面形成牙本质桥、防止细菌进入,被广泛应用于临床。但氢氧化钙有其相应的缺点,包括盖髓后在下方形成组织坏死层,生物相容性不够理想;可诱导破牙骨质细胞分化引起牙根内吸收;物理强度及封闭性较差,不能为牙本质小管提供长期封闭性,易产生微渗漏,导致细菌微生物进入牙髓组织引起感染。而MTA是一种由氧化铝、氧化钙、硅酸钙、硅酸盐组成的无机三氧化物聚合物,作为盖髓材料用于牙髓切断术其优点是:具有良好的生物相容性和封闭性,可有效防止微渗漏。除此之外,MTA还具有一定的组织诱导性。研究表明MTA诱导牙髓干细胞成牙本质向分化和矿化,能在牙髓切断面形成牙本质桥。MTA用于牙髓切断术盖髓后在牙髓切断面诱导所形成的牙本质桥厚于氢氧化钙所形成的,且其下方很少产生坏死层和牙髓炎症。但MTA也有一定的缺点,如用于恒前牙
易使牙冠变色影响美观、价格昂贵、临床操作较困难等。
[0006]近年来,具有保存活髓特性的盖髓材料受到广泛关注,理想的盖髓材料应具有良好的抗炎、抗菌效果,能诱导牙本质桥的形成,具有良好的生物相容性等特点。然而目前为止,尚无盖髓材料能满足以上的条件,因此新型盖髓材料的开发与临床应用亟待进一步研究。
[0007]鉴于此,特提出本专利技术。

技术实现思路

[0008]本专利技术的目的在于提供一种盖髓剂、组合物及其应用以解决上述技术问题。
[0009]本专利技术是这样实现的:
[0010]本专利技术提供了一种钠通道阻滞剂在制备盖髓剂中的应用,钠通道阻滞剂包括如下物质:氨氯吡嗪脒甲基磺酸。
[0011]在本专利技术应用较佳的实施方式中,上述盖髓剂为用于牙髓切断术的盖髓剂。
[0012]本专利技术提供了一种盖髓剂,其包括钠通道阻滞剂,钠通道阻滞剂包括如下的物质:氨氯吡嗪脒甲基磺酸。
[0013]本专利技术提供了一种牙本质修复剂,其包括氨氯吡嗪脒甲基磺酸。
[0014]本专利技术提供了一种BMP

Smad信号通路增强剂,BMP

Smad信号通路增强剂选自氨氯吡嗪脒甲基磺酸。
[0015]在本专利技术应用较佳的实施方式中,上述BMP

Smad信号通路增强剂是指上调Trb3和磷酸化的Smad1/5/8的表达量的BMP

Smad信号通路增强剂。
[0016]本专利技术提供了一种组合物,其包括盖髓剂、牙本质修复剂或BMP

Smad信号通路增强剂。
[0017]在本专利技术应用较佳的实施方式中,上述组合物还包括有机高分子材料。
[0018]在本专利技术应用较佳的实施方式中,上述有机高分子材料选自明胶、PLGA、透明质酸、海藻酸钠和壳聚糖中的至少一种。
[0019]在本专利技术应用较佳的实施方式中,上述组合物还包括药学上可接受的一种或多种药学上可接受的赋形剂或载体。
[0020]本专利技术具有以下有益效果:
[0021]本专利技术提供一种盖髓剂,该盖髓剂能用于牙髓切断术在切面形成牙本质桥,专利技术人研究表明,盖髓剂是通过增强了BMP

Smad信号通路从而促进成牙本质细胞分化。氨氯吡嗪脒甲基磺酸(phenamil)作为盖髓材料具有良好的抗炎、抗菌效果,能诱导牙本质桥的形成,具有良好的生物相容性,可有效防止微渗漏,且制备成本低,临床操作易行,因此,非那米尔作为盖髓剂具有良好的应用潜能。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0023]图1为大鼠上颌第一磨牙牙髓切断术建模示意图;
[0024]图2为Micro

CT分析图;
[0025]图3为HE染色图;
[0026]图4为大鼠上颌第一磨牙牙磨片近中牙根偏正光显微镜分析图;
[0027]图5为大鼠上颌第一磨牙牙磨片近中牙根IHC染色结果图;
[0028]图6为氨氯吡嗪脒甲基磺酸促进成牙本质细胞分化的机理图。
具体实施方式
[0029]现将详细地提供本专利技术实施方式的参考,其一个或多个实例描述于下文。提供每一实例作为解释而非限制本专利技术。实际上,对本领域技术人员而言,显而易见的是,可以对本专利技术进行多种修改和变化而不背离本专利技术的范围或精神。例如,作为一个实施方式的部分而说明或描述的特征可以用于另一实施方式中,来产生更进一步的实施方式。
[0030]本专利技术提供了一种钠通道阻滞剂在制备盖髓剂中的应用,钠通道阻滞剂包括如下物质:氨氯吡嗪脒甲基磺酸。
[0031]phenamil即为3,5...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.钠通道阻滞剂在制备盖髓剂中的应用,其特征在于,所述钠通道阻滞剂包括如下物质:氨氯吡嗪脒甲基磺酸。2.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,所述盖髓剂为用于牙髓切断术的盖髓剂。3.一种盖髓剂,其特征在于,其包括钠通道阻滞剂,所述钠通道阻滞剂包括如下物质:氨氯吡嗪脒甲基磺酸。4.一种牙本质修复剂,其特征在于,其包括氨氯吡嗪脒甲基磺酸。5.一种BMP

Smad信号通路增强剂,其特征在于,所述BMP

Smad信号通路增强剂选自氨氯吡嗪脒甲基磺酸。6.根据权利要求5所述的BMP

Smad信号通路增强剂,其特征在于,所述BMP

【专利技术属性】
技术研发人员:
申请(专利权)人:四川大学
类型:发明
国别省市:

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