基于嵌套双螺旋面形的圆二色性超透镜结构制造技术

本实用新型专利技术公开了基于嵌套双螺旋面形的圆二色性超透镜结构，包括基底，基底上端固定设置有PMMA支撑层，PMMA支撑层端面设有镀金层，镀金层厚度相同，PMMA支撑层由内螺旋面与外螺旋面构成。本实用新型专利技术的有益效果：在同样的左旋光入射条件下，基于内外嵌套双螺旋面形结构的圆二色性超透镜的焦点强度是基于普通单螺旋面结构的圆二色性超透镜的焦点强度的10倍，本实用新型专利技术可以使光入射时干涉相长产生较大的圆偏振转化，有效提高了有效聚焦能量的占比，提升了聚焦效率。提升了聚焦效率。提升了聚焦效率。

【技术实现步骤摘要】
基于嵌套双螺旋面形的圆二色性超透镜结构


[0001]本技术涉及光学材料
，具体为基于嵌套双螺旋面形的圆二色性超透镜结构。

技术介绍

[0002]电磁波和物质发生相互作用时，主要依赖的是电磁波的相位和偏振的性质。作为电磁波的基本属性之一，偏振在电磁波信号传输和分子探测等领域发挥着重要的作用。利用目标辐射、反射、散射或透射光的偏振特性，偏振成像技术将传统的光学强度成像和偏振技术结合起来，在获取目标空间位置信息和强度信息的基础上，探测目标的偏振信息，大大增加了信息量，可在复杂环境中对目标进行有效识别和检测。因此，偏振成像技术在军事目标识别、生物医学成像与传感、药物分子检测、工农业生产监控及地质勘测等诸多领域中有着广泛的应用，具有巨大的发展潜力，是国内外研究与应用的一个重要方向。
[0003]传统的多光路偏振成像系统是利用多个通道中不同的偏振分析仪来获取线偏振分量和圆偏振分量的强度图，由于光学子系统较多导致整体系统的体积偏大，且子系统之间的器件参数差异会引起偏振测量误差，进而导致系统的灵敏度低。
[0004]基于超表面材料的圆二色本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基于嵌套双螺旋面形的圆二色性超透镜结构，包括基底（3），其特征在于：所述基底（3）上端固定设置有PMMA支撑层（2），所述PMMA支撑层（2）端面设有镀金层（1），所述镀金层（1）厚度相同，所述PMMA支撑层（2）由内螺旋面（4）与外螺旋面（5）构成。2.根据权利要求1所述的基于嵌套双螺旋面形的圆二色性超透镜结构，其特征在于：所述镀金层（1）厚度为100
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200 nm。3.根据权利要求1所述的基于嵌套双螺旋面形的圆二色性超透镜结构，其特征在于：所述内螺旋面（4）与所述外螺旋面（5）高度相同，其高度为1400 nm。4.根据权利要求1所述的基于嵌套双螺旋面形的圆二色性超...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晨乾，王钦华，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：新型
国别省市：