一种工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法技术

本发明专利技术公开了一种工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法，所述扩散片包括光学衬底，于所述光学衬底上形成的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括若干排布的微透镜，相邻两个微透镜的交界处通过邻接过渡曲面过渡连接，多个所述邻接过渡曲面的交叉区域形成顶部曲面凸起。所述随机微透镜阵列边界处理方法包括对随机微透镜阵列的初始设计灰度图像进行卷积处理得到优化设计灰度图像；基于优化设计灰度图像制造得到所述工程扩散片。利用本发明专利技术提出的工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法可以消除扩散片上透镜之间的高度突变，降低加工难度，提高光利用率。提高光利用率。提高光利用率。

【技术实现步骤摘要】
一种工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法。

技术介绍

[0002]近几年兴起的人脸识别、三维探测等领域对高质量光源的需求也日益增长。而激光作为一种高质量光源也被应用在各种应用场景中，从半导体激光器的特性可知，出射激光光束为高斯分布，发散角大，且快慢轴发散角不同，导致快慢轴方向的强度分布不对称，降低了光束的质量，从而限制了半导体激光器的发展和应用，因此对半导体激光器光束进行匀化是非常重要的。微透镜阵列是目前广泛应用的一种工程扩散片，这种方法的优势在于对入射光的光强分布要求不高，具有适应性强，能量利用率高的优点。但是，目前的微透镜阵列通常采用折射非球面透镜阵列，但其光束经过非球面透镜阵列后会产生干涉条纹，光斑不均匀，且由于随机量的存在，在微透镜设计图中相邻微透镜边界处会产生灰度值的突变(在微透镜结构中则表现为高度的突变)，理论上会使得光能利用率降低。
[0003]因而，亟需提出一种新的技术方案来解决现有技术中存在的问题。
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技术实现思路
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种工程扩散片，其特征在于，其包括：光学衬底，于所述光学衬底上形成的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括若干排布的微透镜，相邻两个微透镜的交界处通过邻接过渡曲面过渡连接，多个所述邻接过渡曲面的交叉区域形成顶部曲面凸起。2.根据权利要求1所述的一种工程扩散片，其特征在于，任意一个微透镜与绕设在其周围的微透镜通过所述邻接过渡曲面和所述顶部曲面凸起相连。3.根据权利要求2所述的一种工程扩散片，其特征在于，任意按照环状相邻排布的多个微透镜的交界处的中心通过顶部曲面凸起过渡连接。4.根据权利要求3所述的一种工程扩散片，其特征在于，任意按照环状相邻排布的多个微透镜的交界处的中心通过顶部曲面凸起过渡连接，该按照环状相邻排布的多个微透镜两两相接，且两两相接的交界处通过所述邻接过渡曲面过渡连接，该多个微透镜两两相接形成多个所述邻接过渡曲面，该多个所述邻接过渡曲面的交界处形成所述顶部曲面凸起。5.根据权利要求1所述的一种工程扩散片，其特征在于，所述顶部曲面凸起的底面的外接圆为多个所述邻接过渡曲面的交叉区域的内接圆。6.根据权利要求1所述的一种工程扩散片，其特征在于，排成一排或一列的所述微透镜的中心点在一条直线两侧的预定范围内随机分布。7.根据权利要求1所述的一种工程扩散片，其特征在于，若干排布的所述微透镜的曲率范围为70～120mm
‑1；若干排布的所述微透镜的圆锥系数的范围为1.0～
‑
2.0；若干排布的所述微透镜的尺寸范围为20～50u...

【专利技术属性】
技术研发人员：李瑞彬，罗明辉，乔文，徐越，成堂东，陈林森，
申请(专利权)人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：