一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备制造技术

本发明专利技术涉及一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备，包括气相反应室，气相反应室包括底座、隔热框架、气体入口、晶圆托盘和气体出口，底座固定设置在气相反应室的底部，隔热框架架设在底座的上方且与底座固定连接，晶圆托盘设置在底座的上表面，气体入口设置在隔热框架的顶部，气体出口设置在隔热框架的一个侧面；隔热框架的材料为改性石英。隔热框架用于隔绝反应室内的温度，从而保证反应的正常进行同时还能减少能源的浪费，晶圆托盘用于承载晶圆从而完成沉积，气体入口用于使反应气体导入反应室内，气体出口用于排出多余的气体。本发明专利技术的独特之处在于，对气相反应室内的隔热框架进行了改进，使该气相沉积设备能够承受更高的温度以及更加的耐用。及更加的耐用。及更加的耐用。

【技术实现步骤摘要】
一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备


[0001]本专利技术涉及气相沉积设备领域，具体涉及一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备。

技术介绍

[0002]化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积生成单晶薄膜化合物。通常情况下，温度越高气相沉积速率越快，然而在高温情况下，现有的现有气相沉积设备的耐高温性不足，绝缘性差，容易被腐蚀，这些都影响到气相沉积设备的使用效率。

技术实现思路

[0003]针对现有技术中存在的问题，本专利技术的目的是提供一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备，该设备的反应室具有较好的耐高温性、绝缘性和防腐性。
[0004]本专利技术的目的采用以下技术方案来实现：
[0005]一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备，包括气相反应室，气相反应室包括底座、隔热框架、气体入口、晶圆托盘和气体出口，底座固定设置在气相反应室的底部，隔本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备，其特征在于，包括气相反应室，气相反应室包括底座、隔热框架、气体入口、晶圆托盘和气体出口，底座固定设置在气相反应室的底部，隔热框架架设在底座的上方且与底座固定连接，晶圆托盘设置在底座的上表面，气体入口设置在隔热框架的顶部，气体出口设置在隔热框架的一个侧面；隔热框架的材料为改性石英。2.根据权利要求1所述的一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备，其特征在于，所述气体入口设置为至少两个，气体出口设置为一个。3.根据权利要求1所述的一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备，其特征在于，所述气体出口处位于隔热框架的外侧连接有抽气装置。4.根据权利要求1所述的一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备，其特征在于，所述晶圆托盘的材料为石墨、碳化硅或氮化钛。5.根据权利要求1所述的一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备，其特征在于，所述改性石英按照重量份计算，包括：100份石英粉、6～12份改性氮化钛微球和1～2份粘合剂。6.根据权利要求5所述的一种耐高温防腐绝缘的气相沉积设备，其特征在于，所述石英粉的粒径为20...

【专利技术属性】
技术研发人员：王艳华，秦红燕，
申请(专利权)人：北京市永康药业有限公司，
类型：发明
国别省市：