本发明专利技术提供一种密闭非透明腔室内工件的监控方法，用于装载工件的载板能在密闭非透明腔室内运行，包括以下步骤：检测进入密闭非透明腔室的载板上是否放置有工件；对载板进行初次识别，并获得初次识别信息；依据初次识别信息生成工艺设备的工艺运行信息；向针对于密闭非透明腔室内的工件执行操作的工艺设备发送的工艺运行信息，工艺运行信息包括运行信息和不运行信息；对载板上放置有工件的位置执行运行信息，对载板上无工件的位置执行不运行信息；载板持续运行和监控，直至载板输出密闭非透明腔室。本发明专利技术通过监控方法对工件的状态进行监控，能够实时了解及掌握工件的工艺状态，避免密闭非透明腔室内载板上无工件的位置仍然进行非必要的操作。然进行非必要的操作。然进行非必要的操作。
【技术实现步骤摘要】
一种密闭非透明腔室内工件的监控方法、装置和镀膜设备
[0001]本专利技术属于太阳能电池制造领域，涉及生产制造过程中监控技术，具体为一种密闭非透明腔室内工件的监控方法、装置和镀膜设备。
技术介绍
[0002]在生产制造过程，需要对各个工序的产品状态进行监控，以便于实时了解、掌握产品的生产状态，及时发现制造过程中的异常现象并及时采取相应的措施，确保生产顺利的进行。目前，很多产品的各个生产工序的监控大多通过人工进行的，但是，对于密闭非透明的装置内产品状态的监控是无法通过人工实现的。例如，太阳能电池生产过程中，在PVD(Physical Vapor Deposition)镀膜工序中，由于PVD镀膜设备是真空密封且非透明的，因此，通过人工是无法监测并了解PVD镀膜设备的内部情况，从而产生以下弊端：
[0003]1.目前在PVD设备中只能监控载板在PVD设备中的状态，不能获得硅片状态(如载板区域分块排序、载板上的硅片分布、载板装载率等)；
[0004]2.载板上是否有硅片无法获得信息，所以无硅片的载板继续正常工艺，导致不能有效的控制靶材的使用，出现靶材的不合理使用的问题。
[0005]3.靶材的不合理使用，一方面出现无硅片的载板继续正常工艺，浪费靶材且额外增加载板镀膜的清洁费用；另一方面出现有硅片的载板有可能被人工遗漏，硅片的镀膜质量无法保证，有造成不良品的风险。
[0006]4.通过人工计算载板上硅片数量和时间，造成人力资源的浪费。
[0007]因此，需要设计一种能够解决密闭非透明腔室内的产品状态的监控，以解决上述问题。
技术实现思路
[0008]本专利技术的目的在于提供一种密闭非透明腔室内工件的监控方法、装置和镀膜设备。通过监控装置及监控方法的应用，能够实时了解、掌握、控制生产过程中密闭非透明腔室内工件的各种信息及生产工艺状态。
[0009]实现专利技术目的的技术方案如下：
[0010]本专利技术提供一种密闭非透明腔室内工件的监控方法，用于装载工件的载板能在密闭非透明腔室内运行，包括以下步骤：
[0011]检测进入密闭非透明腔室的载板上是否放置有工件；
[0012]对载板进行初次识别，并获得初次识别信息；
[0013]依据初次识别信息生成工艺设备的工艺运行信息；
[0014]向针对于密闭非透明腔室内的工件执行操作的工艺设备发送的工艺运行信息，工艺运行信息包括运行信息和不运行信息；
[0015]对载板上放置有工件的位置执行运行信息，对载板上无工件的位置执行不运行信息；
[0016]载板持续运行和监控，直至载板输出密闭非透明腔室。
[0017]本专利技术通过监控方法对工件的状态进行监控，能够实时了解及掌握工件的工艺状态，避免密闭非透明腔室内载板上无工件的位置仍然进行非必要的操作。
[0018]进一步的，初次识别信息包括载板上是否有工件、工件在载板上的位置、载板上工件的总数量、载板上工件装载率。
[0019]更进一步的，初次识别信息经所述载板上有无工件的颜色差异获取。
[0020]作为对上述监控方法的改进，监控方法还包括以下步骤：
[0021]对载板进行第二次识别，获取第二次识别信息；
[0022]将第二次识别信息与初次识别信息进行对比：
[0023]若对比结果相同，则判断工艺完成；若对比结果不相同，则判断工艺有误，并发送报警信号。
[0024]进一步的，第二次识别信息包括载板上是否有工件、工件在载板上的位置、载板上工件的总数量、载板上工件装载率中的一种或几种。
[0025]本专利技术还提供一种密闭非透明腔室的监控装置，包括第一识别设备，其位于密闭非透明腔室前端，用于检测进入密闭非透明腔室的载板上是否放置有工件，以及，对载板进行初次识别，并获得初次识别信息。
[0026]控制主机，其与第一识别设备通信连接，用于依据初次识别信息生成工艺运行信息，工艺运行信息包括运行信息和不运行信息。
[0027]控制主机还与工艺设备通信连接，用于将工艺运行信息发送至工艺设备，使得工艺设备对载板放置有工件的位置执行运行信息，对载板上无工件的位置执行不运行信息。
[0028]进一步的，监控装置还包括：位于密闭非透明腔室后端的第二识别设备，第二识别设备用于对载板进行第二次识别，获取第二次识别信息。
[0029]控制主机还与第二识别设备通信连接，用于接收第二次识别信息，并将第二次识别信息与初次识别信息对比，判断工艺是否正常。
[0030]进一步的，第一识别设备、第二识别设备包括相机。或者，第一识别设备、第二识别设备包括设置于载板下方的传感器。
[0031]进一步的，还包括显示器件，显示器件与控制主机通信连接，用于实时显示初次识别信息、第二次识别信息和工艺设备运行状态。
[0032]本专利技术还提供一种镀膜设备，包括密闭非透明腔室和上述监控装置，通过监控装置对太阳能电池制造中镀膜设备的密闭非透明腔室(即真空镀膜腔)内的硅片进行监控。
[0033]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0034]1.本专利技术的监控方法及监控装置能够使得控制主机能够实时掌握载板上工件的情况，例如，在PVD镀膜设备中，PVD设备主机通过与第一识别设备的通信，实现PVD镀膜工艺的优化管控，在真空镀膜腔内，能够根据运载设备的载板上是否有硅片、硅片的位置、硅片的总数量，合理的控制靶材的启停，避免靶材的浪费及清洁频度，也降低因载板无效镀膜容易吸附水汽杂质而造成工艺不稳定性的问题。
[0035]2.通过设置显示设备，能够实时显示初次识别信息，方便信息的查询。
附图说明
[0036]为了更清楚地说明本专利技术实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0037]图1为本专利技术的实施例1的密闭非透明腔室的监控装置的示意图；
[0038]图2为本专利技术的实施例2中密闭非透明腔室的监控方法的一种流程图；
[0039]图3为本专利技术的实施例2中密闭非透明腔室的监控方法的另一种流程图；
[0040]图4为本专利技术的实施例3中载板上是否放置有硅片的示意图；
[0041]图5为本专利技术的实施例3中载板、硅片、相机的位置示意图；
[0042]其中，1.第一识别设备；2.载板；3.工件；4.控制主机；5.密闭非透明腔室；6.第二识别设备。
具体实施方式
[0043]下面结合具体实施例来进一步描述本专利技术，本专利技术的优点和特点将会随着描述而更为清楚。但这些实施例仅是范例性的，并不对本专利技术的范围构成任何限制。本领域技术人员应该理解的是，在不偏离本专利技术的精神和范围下可以对本专利技术技术方案的细节和形式进行修改或替换，但这些修改和替换均落入本专利技术的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种密闭非透明腔室内工件的监控方法，用于装载工件的载板能在密闭非透明腔室内运行，其特征在于：包括以下步骤：检测进入所述密闭非透明腔室的所述载板上是否放置有所述工件；对所述载板进行初次识别，并获得初次识别信息；依据所述初次识别信息生成工艺设备的工艺运行信息；向针对于所述密闭非透明腔室内的所述工件执行操作的工艺设备发送的所述工艺运行信息，所述工艺运行信息包括运行信息和不运行信息；对所述载板上放置有所述工件的位置执行运行信息，对所述载板上无所述工件的位置执行不运行信息；所述载板持续运行和监控，直至所述载板输出所述密闭非透明腔室。2.根据权利要求1所述的密闭非透明腔室内工件的监控方法，其特征在于：所述初次识别信息包括所述载板上是否有所述工件、所述工件在所述载板上的位置、所述载板上所述工件的总数量、所述载板上所述工件装载率。3.根据权利要求2所述的密闭非透明腔室内工件的监控方法，其特征在于：所述初次识别信息经所述载板上有无工件的颜色差异获取。4.根据权利要求1至3任一项所述的密闭非透明腔室内工件的监控方法，其特征在于：监控方法还包括以下步骤：对所述载板进行第二次识别，获取第二次识别信息；将所述第二次识别信息与所述初次识别信息进行对比：若对比结果相同，则判断工艺完成；若对比结果不相同，则判断工艺有误，并发送报警信号。5.根据权利要求4所述的密闭非透明腔室内工件的监控方法，其特征在于：所述第二次识别信息包括所述载板上是否有所述工件、所述工件在所述载板上的位置、所述载板上所述工件的总数量、所述载板上所述工件装载率中的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业有限合伙，
类型：发明
国别省市：
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