本发明专利技术涉及清洗烘干设备技术领域，具体涉及一种烘干装置、烘干系统及清洗机。所述烘干装置包括：壳体，其内部形成适于放置待烘干件的烘干腔，所述壳体开设有进风口和出风口；支撑件，固定在所述壳体内且适于支撑待烘干件；擦拭件，安装在所述壳体内且可沿直线滑动，所述擦拭件适于对待烘干件进行擦拭；直线驱动机构，与所述擦拭件连接，适于驱动所述擦拭件沿其直线滑动方向往复运动。本发明专利技术的烘干装置，相对于现有风刀清理的方案而言，一方面不会将水珠吹散至硅片上，降低了水纹印产生的概率；另一方面，本发明专利技术将擦拭件及直线驱动机构皆设置在烘干腔内，不需增设单独的槽体结构，降低了设备成本。了设备成本。了设备成本。
【技术实现步骤摘要】
一种烘干装置、烘干系统及清洗机
[0001]本专利技术涉及清洗烘干设备
，具体涉及一种烘干装置、烘干系统及清洗机。
技术介绍
[0002]清洗机是光伏行业普遍使用的一种设备，主要用以对硅片进行清洗，通过清洗可以去除油脂、颗粒等各种杂质。清洗一般的工艺流程是将硅片先放入花篮中，然后将装载有硅片的花篮放入清洗机中清洗，最后再将清洗后的花篮放入清洗机烘干槽内进行烘干。清洗后的花篮在进入烘干槽内时，其底部挂杆会残留有水珠，一旦水珠滴落到硅片上，会导致该硅片对应点在下个工艺完成后出现黑点，对硅片电性能有直接影响。现有烘干槽一般通过风刀清理挂杆上的水珠，但是风刀向水珠吹风，容易将水珠吹散至硅片原本已经烘干的部位，导致水纹印的产生；并且风刀一般需单独增设一风刀槽，设备成本较高。
技术实现思路
[0003]因此，本专利技术要解决的技术问题在于克服现有技术中花篮底部挂杆上的水珠清理方案易产生水纹印且成本较高的缺陷，从而提供一种能够擦除底部挂杆上水珠的烘干装置、烘干系统及清洗机。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提供的一种烘干装置，包括：
[0005]壳体，其内部形成适于放置待烘干件的烘干腔，所述壳体开设有进风口和出风口；
[0006]支撑件，固定在所述壳体内且适于支撑待烘干件；
[0007]擦拭件，安装在所述壳体内且可沿直线滑动，所述擦拭件适于对待烘干件进行擦拭；
[0008]直线驱动机构，与所述擦拭件连接，且适于驱动所述擦拭件沿其直线滑动方向往复运动。
[0009]可选的，所述直线驱动机构为电机丝杠副，所述电机丝杠副包括：
[0010]丝杆；
[0011]导杆，其表面光滑，且与所述丝杆平行；
[0012]滑块，滑动套装在所述导杆上且与所述丝杆螺接；
[0013]电机，与所述丝杆连接且适于驱动所述丝杆旋转；
[0014]所述擦拭件固定在所述滑块上，所述电机丝杠副配置有适于检测所述擦拭件位置的传感器。
[0015]可选的，所述支撑件、所述擦拭件及所述直线驱动机构皆位于所述壳体的底部内侧，所述擦拭件适于擦拭待烘干件的底部外侧。
[0016]可选的，所述壳体包括：
[0017]外壳，所述进风口开设在所述外壳上；
[0018]匀流板，对应所述外壳的侧壁和/或所述外壳的顶板设置且位于所述外壳的内侧，所述匀流板与所述外壳之间形成进风通道，所述进风通道与所述进风口连通；
[0019]百叶窗，对应所述匀流板设置且位于所述匀流板的内侧。
[0020]可选的，所述匀流板对应所述外壳的侧壁的设置，所述外壳的底板内侧设有支撑板，所述支撑板与所有匀流板下端密封连接以在所述支撑板与所述外壳的底板之间形成与所述进风通道连通的腔体，所述进风口设置于所述外壳的底板，所述出风口设置于所述外壳的侧壁上部或顶板，且所述匀流板和所述百叶窗对应所述出风口的位置处开设缺口以形成与所述出风口连通的出风通道。
[0021]可选的，所述烘干腔内设有至少两个工位，每个所述工位适于放置一个待烘干件，每个所述工位皆设置有所述支撑件、所述擦拭件及所述直线驱动机构。
[0022]本专利技术还提供一种烘干系统，包括：
[0023]前述的烘干装置；
[0024]风管，其一端与所述进风口连通，另一端与所述出风口连通；
[0025]鼓风机，与所述风管相连通。
[0026]可选的，还包括：
[0027]除湿机构，与所述风管相连通，且位于所述鼓风机与所述进风口之间。
[0028]可选的，还包括：
[0029]预加热机构，与所述风管相连通，且适于加热空气。
[0030]本专利技术还提供一种清洗机，包括前述的烘干装置或烘干系统。
[0031]本专利技术技术方案，具有如下优点：
[0032]1.本专利技术提供的烘干装置，在烘干腔内设置有擦拭件，擦拭件被直线驱动机构驱动能够对待烘干件进行往复擦拭，从而将待烘干件上残留的水珠擦除。相对于现有风刀清理的方案而言，一方面不会将水珠吹散至硅片上，降低了水纹印产生的概率；另一方面，本专利技术将擦拭件及直线驱动机构皆设置在烘干腔内，通过擦拭件相对待烘干件的移动将水珠擦拭，不需增设单独的槽体结构，降低了设备成本。另外，本装置设有支撑件，使用时将待烘干件放于支撑件上，擦拭件、直线驱动机构等结构设置在支撑件与壳体所形成的空间内，不会干涉待烘干件的放置。
[0033]2.本专利技术提供的烘干装置，在外壳内部设置有匀流板，相对于现有气管气盒出风，出风量更大且更均匀；在匀流板内侧设置有百叶窗，出风方向能够进行调节，可避免风直接吹在硅片表面，减少水纹印的产生。
[0034]3.本专利技术提供的烘干系统，增设有除湿机构，能够避免烘干气体的湿度过高，从而保证烘干效果，提高了烘干效率。
[0035]4.本专利技术提供的烘干系统，增设有预加热机构，能够为烘干气体及时补充热量，避免因热量损失导致升温时间慢和烘干时间长。
[0036]5.本专利技术提供的清洗机，因具有上述烘干装置或烘干系统，所以在硅片清洗后能得到更有效的干燥，保证硅片质量。
附图说明
[0037]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前
提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0038]图1为本专利技术实施例中烘干装置的主视图；
[0039]图2为本专利技术实施例中烘干装置的轴测示意图；
[0040]图3为本专利技术实施例中烘干装置的俯视图；
[0041]图4为本专利技术实施例中烘干系统的结构示意图。
[0042]附图标记说明：
[0043]1、壳体；11、外壳；12、匀流板；13、百叶窗；14、进风口；15、出风口；2、支撑件；3、擦拭件；31、擦拭座；32、擦拭棉；4、直线驱动机构；41、电机；42、丝杆；43、导杆；44、滑块；5、风管；6、鼓风机；7、除湿机构；8、预加热机构；9、过滤机构；10、风量控制机构。
具体实施方式
[0044]下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0045]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“垂直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种烘干装置，其特征在于，包括：壳体(1)，其内部形成适于放置待烘干件的烘干腔，所述壳体(1)开设有进风口(14)和出风口(15)；支撑件(2)，固定在所述壳体(1)内且适于支撑待烘干件；擦拭件(3)，安装在所述壳体(1)内且可沿直线滑动，所述擦拭件(3)适于对待烘干件进行擦拭；直线驱动机构(4)，与所述擦拭件(3)连接，且适于驱动所述擦拭件(3)沿其直线滑动方向往复运动。2.根据权利要求1所述的烘干装置，其特征在于，所述直线驱动机构(4)为电机丝杠副，所述电机丝杠副包括：丝杆(42)；导杆(43)，其表面光滑，且与所述丝杆(42)平行设置；滑块(44)，滑动套装在所述导杆(43)上且与所述丝杆(42)螺接；电机(41)，与所述丝杆(42)连接且适于驱动所述丝杆(42)旋转；所述擦拭件(3)固定在所述滑块(44)上，所述电机丝杠副配置有适于检测所述擦拭件(3)位置的传感器。3.根据权利要求1所述的烘干装置，其特征在于，所述支撑件(2)、所述擦拭件(3)及所述直线驱动机构(4)皆位于所述壳体(1)的底部内侧，所述擦拭件(3)适于擦拭待烘干件的底部外侧。4.根据权利要求3所述的烘干装置，其特征在于，所述壳体(1)包括：外壳(11)，所述进风口(14)开设在所述外壳(11)上；匀流板(12)，对应所述外壳(11)的侧壁和/或所述外壳(11)的顶板设置且位于所述外壳(11)的内侧，所述匀流板(12)与所述外壳(11)之间形成进风通道，所述进风通道与所述进风口(14)连通；百叶窗(13)，对应所述匀流板(12)设置且位于所述匀流板(12)的内侧。5.根据权利要求4...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨龙，吴建晓，徐昕，钱准德，万永山，
申请(专利权)人：宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业有限合伙，
类型：发明
国别省市：
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