用于检测增材制造材料中杂质的方法和系统技术方案

公开了用于检测增材制造材料中杂质的方法和系统。用于检测增材制造材料中的杂质的示例方法包括：通过光源用光照射增材制造材料的样品；在用光照射增材制造材料的样品的同时，使相机获取样品的图像数据；以及处理该图像数据以确定增材制造材料的样品中的杂质的量。用于检测增材制造材料中的杂质的示例系统包括：光源，用于用光照射增材制造材料的样品；相机，用于在用光照射增材制造材料的样品的同时获取样品的图像数据；具有一个或多个处理器的计算设备，该一个或多个处理器被配置为执行存储在存储器中的指令，以处理图像数据，从而确定增材制造材料的样品中的杂质的量。

【技术实现步骤摘要】
用于检测增材制造材料中杂质的方法和系统
本公开总体上涉及用于检测增材制造材料中杂质的方法和系统，并且更具体地涉及处理增材制造材料样品的图像数据以确定该增材制造材料样品中的杂质的量。
技术介绍
增材制造(additivemanufacturing，AM)方法中使用的粉末质量会影响由其制造的零件的质量。颗粒大小因素影响构建盒(buildbox)中每个粉末层的流动性和厚度。对于高性能应用，重要的可能是要识别附加因素，例如粉末中可能存在的颗粒污染物的类型、数量和大小。污染物可能会在粉末制造、搬运(handling)期间或构建过程本身期间引入。当污染物被混入一批粉末中时，该批粉末中包含的污染物可能会被引入零件中，并且污染物可能作为离散颗粒或充当应力集中点(stressconcentrator)的非熔融界面而保留。污染物的存在由于增加疲劳裂纹的可能性而可能会缩短零件的使用寿命。当前，操作人员使用显微镜来针对异物碎屑(FOD)或污染物检查增材制造粉末样品。操作人员通过判断来确定粉末样品中FOD的定量计数。该手动过程既费时又繁琐，并且容易低估增本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于检测增材制造材料中的杂质的方法(200)，所述方法包括：/n通过光源(102)用光(107)照射(202)增材制造材料(106)的样品(104)；/n在用所述光(107)照射所述增材制造材料(106)的所述样品(104)的同时，使相机(108)获取(204)所述样品的图像数据(109)；和/n处理(206)所述图像数据(109)以确定所述增材制造材料(106)的所述样品(104)中的杂质(130)的量。/n

【技术特征摘要】
20200228 US 16/804,6291.一种用于检测增材制造材料中的杂质的方法(200)，所述方法包括：
通过光源(102)用光(107)照射(202)增材制造材料(106)的样品(104)；
在用所述光(107)照射所述增材制造材料(106)的所述样品(104)的同时，使相机(108)获取(204)所述样品的图像数据(109)；和
处理(206)所述图像数据(109)以确定所述增材制造材料(106)的所述样品(104)中的杂质(130)的量。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，用光照射所述增材制造材料的所述样品包括用具有紫外光谱中的波长的光照射所述样品。


3.根据权利要求1所述的方法，还包括：
用第一波长的第一光源(102)照射所述增材制造材料的所述样品，并使所述相机获取所述样品的第一图像数据；
用第二波长的第二光源(118)照射所述增材制造材料的所述样品，并使所述相机获取所述样品的第二图像数据；以及
处理所述第一图像数据和所述第二图像数据以确定所述增材制造材料的所述样品中的杂质的量；
其中，处理所述第一图像数据和所述第二图像数据以确定所述增材制造材料的所述样品中的杂质的量包括：
基于处理所述第一图像数据确定第一杂质量；
基于处理所述第二图像数据确定第二杂质量；和
将所述第一杂质量和所述第二杂质量相加。


4.根据权利要求1所述的方法，其中，用光照射所述增材制造材料的所述样品包括改变所述光源的光的波长以用多个不同波长的光照射所述增材制造材料的所述样品，
所述方法还包括：
在以所述多个不同波长的光分别进行照射的同时使所述相机获取所述样品的多个图像数据；和
处理所述多个图像数据以确定所述增材制造材料的所述样品中的杂质的量。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：亚历山大·J·科科，布里安娜·K·诺德，罗伯特·W·格鲁贝，艾玛·罗明，阿伦·C·德罗莱特，埃里克·M·查普曼，
申请(专利权)人：波音公司，
类型：发明
国别省市：美国;US