一种含硼和氮的有机化合物及其电致发光的应用制造技术

技术编号:29779618 阅读:35 留言:0更新日期:2021-08-24 17:55
本发明专利技术提供了一种含硼和氮的有机化合物,具有式Ⅰ所示结构。本发明专利技术提供的TADF材料以N、B原子大杂环为骨架,和芳胺芳香环连接,具有较小的能级差,该系列材料发光机制为TADF,发光量子效率较高,可以提高有机光电装置的发光效率;同时,该系列材料为有机化合物,相较于发磷光的金属配合物,成本较低且环保。

【技术实现步骤摘要】
一种含硼和氮的有机化合物及其电致发光的应用
本专利技术涉及有机电致发光
,尤其涉及一种含硼和氮的有机化合物及其电致发光的应用。
技术介绍
根据发光机制,可用于OLED发光层的材料主要包括以下4种:荧光材料(fluorescence),磷光材料(phosphorescence),三线态-三线态湮灭(TTA)材料和热活化延迟荧光(TADF)材料。以上四种材料的性能对比如表1所示:表1fluorescencephosphorescenceTTATADF理论最大内量子产率25%100%62.5%100%结构设计多样化√××√材料成本低高低低其中,TADF材料的理论最大内量子产率可达100%,主要为有机化合物,不需要稀有金属元素,生产成本低,可通过多种方法进行化学修饰,与其本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含硼和氮的有机化合物,具有式Ⅰ所示结构:/n

【技术特征摘要】
1.一种含硼和氮的有机化合物,具有式Ⅰ所示结构:



其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6独立的选自氢,氘,卤素,CN,取代或非取代的C1-50的烷基、单环芳基、单环杂芳基、多环芳基、多环杂芳基或芳胺基。


2.根据权利要求1所述的含硼和氮的有机化合物,其特征在于,所述取代的C1-50的烷基、单环芳基、单环杂芳基、多环芳基、多环杂芳基或芳胺基的取代基独立的选自:
氘,卤素,CN,取代或非取代的C1-10的烷基。


3.根据权利要求1所述的含硼和氮的有机化合物,其特征在于,具有式Ⅰ-a所示结构:





4.根据权利要求1所述的含硼和氮的有机化合物,其特征在于,所述R1、R2、R3、R4、R5、R6独立的选自氢,取代或非取代的苯基、C2~C5单环杂芳基、C6~C20的多环芳基、C6~C20的多环杂芳基或C6~C20的芳胺基。


5.根据权利要求4所述的含硼和氮的有机化合物,其特征在于,所述R1、R2、R3、R4、R5、R6独立的选自氢,取代或非取代的苯基、含有1~3个N原子的单环杂芳基、由2~5个苯基稠合形成的多环芳基、由1~3个苯基和1~2个含1~3个N原子的单环杂芳基稠合形成的多环杂芳基、苯胺基或二苯胺基。<...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘营代文朋邓东阳姜东过宇阳张磊
申请(专利权)人:上海天马有机发光显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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