【技术实现步骤摘要】
涂覆装置
本专利技术属于涂覆领域,特别涉及一种涂覆装置。
技术介绍
非晶纳米晶软磁合金自上世纪被发现以来,因其具有高的初始磁导率、饱和磁通、电阻率和居里温度,低的矫顽力、电阻温度系数和磁致伸缩系数,以及耐腐蚀和抗老化的特点,被广泛应用于电力电子领域。但在一些具有高频率、高功率、高能量转换的工作条件下,非晶纳米晶磁环将会面临严重的涡流损耗、在高压条件下引起的磁环击穿、长时间工作所需的水冷系统引起的磁环侵蚀等诸多问题。对于上述问题,目前较为主流的方法是通过在非晶纳米晶带材之间增加绝缘层来控制涡流损耗,同时对带材进行绝缘保护,防止磁环击穿,以减小长期水冷对磁环造成的侵蚀。专利文献EP0695812B1提出了利用浸涂、辊涂和喷涂的方式在带材表面形成绝缘涂层,其中辊涂方式主要依靠转动辊与带材的接触实现,由于接触面积较小难以保证液膜的完整覆盖,难以保证涂覆的一致性,进一步影响带材的性能。现有的涂覆装置很难达到绝缘涂层厚度的均匀稳定,除此之外在进行刷涂的过程中,现有技术是利用涂覆辊表面带液量来对带材进行辊涂,所以在液量控制以及液膜控制上精度不够。因此,研发一种可以解决上述技术问题的涂覆装置具有重要意义。
技术实现思路
针对上述问题,本专利技术提供一种涂覆装置,所述涂覆装置包括储液罐1、涂覆室2;储液罐1与涂覆室2连接;所述涂覆室2内设置有主转动辊组、辅助转动辊组、涂覆带2.7、涂覆机构;所述涂覆带2.7套设在所述主转动辊组上,所述主转动辊组用于带动涂覆带2.7运动;所述主转动辊组 ...
【技术保护点】
1.涂覆装置,其特征在于,所述涂覆装置包括储液罐(1)、涂覆室(2);储液罐(1)与涂覆室(2)连接;所述涂覆室(2)内设置有主转动辊组、辅助转动辊组、涂覆带(2.7)、涂覆机构;/n所述涂覆带(2.7)套设在所述主转动辊组上,所述主转动辊组用于带动涂覆带(2.7)运动;所述主转动辊组由第一转动辊(2.4)、第二转动辊(2.5)、第三转动辊(2.6)组成;/n所述辅助转动辊组用于支撑带材,所述辅助转动辊组由第四转动辊(2.8)、第五转动辊(2.9)、第六转动辊(2.10)组成;/n所述涂覆机构与储液罐(1)通过管道连接,所述涂覆机构用于对带材表面涂覆绝缘物质溶液,所述涂覆机构的涂覆方式包括:喷涂、浸涂、刷涂;/n涂覆室(2)的侧壁上设置有进料口(2.1)、出料口(2.12)。/n
【技术特征摘要】
1.涂覆装置,其特征在于,所述涂覆装置包括储液罐(1)、涂覆室(2);储液罐(1)与涂覆室(2)连接;所述涂覆室(2)内设置有主转动辊组、辅助转动辊组、涂覆带(2.7)、涂覆机构;
所述涂覆带(2.7)套设在所述主转动辊组上,所述主转动辊组用于带动涂覆带(2.7)运动;所述主转动辊组由第一转动辊(2.4)、第二转动辊(2.5)、第三转动辊(2.6)组成;
所述辅助转动辊组用于支撑带材,所述辅助转动辊组由第四转动辊(2.8)、第五转动辊(2.9)、第六转动辊(2.10)组成;
所述涂覆机构与储液罐(1)通过管道连接,所述涂覆机构用于对带材表面涂覆绝缘物质溶液,所述涂覆机构的涂覆方式包括:喷涂、浸涂、刷涂;
涂覆室(2)的侧壁上设置有进料口(2.1)、出料口(2.12)。
2.根据权利要求1所述的涂覆装置,其特征在于,所述涂覆机构包括喷头(2.2),所述喷头(2.2)设置在所述涂覆室(2)的壁上;所述喷头(2.2)与所述储液罐(1)通过第一管道连接;
所述涂覆机构还包括位于涂覆室(2)底部的锥形结构,所述锥形结构的底部设有料槽口(2.13),料槽口(2.13)与所述储液罐(1)通过第二管道连接;第三转动辊(2.6)位于所述锥形结构中,储液罐(1)中的绝缘物质溶液能够通过第二管道输送到锥形结构中,绝缘物质溶液的液面能够没过第三转动辊(2.6)的一部分;
所述第一管道和所述第二管道上均设置有阀门。
3.根据权利要求2所述的涂覆装置,其特征在于,所述第一转动辊(2.4)、第二转动辊(2.5)、第三转动辊(2.6)、第四转动辊(2.8)、第五转动辊(2.9)、第六转动辊(2.10)之间互相平行设置;
第一转动辊(2.4)的轴心与第二转动辊(2.5)的轴心的连线与水平线相垂直;
第三转动辊(2.6)的高度小于第一转动辊(2.4)、第二转动辊(2.5)、
第四转动辊(2.8)、第五转动辊(2.9)和第六转动辊(2.10)的高度;
第四转动辊(2.8)的高度与第五转动辊(2.9)的高度相同。
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【专利技术属性】
技术研发人员:刘天成,潘贇,陈非非,戴白杨,贾春波,刘迎春,洪兴,李广敏,
申请(专利权)人:安泰科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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