【技术实现步骤摘要】
一种用于硅片的石英清洗槽
本技术涉及硅片清洗
,具体为一种用于硅片的石英清洗槽。
技术介绍
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种目前市场上的用于硅片的石英清洗槽虽然种类和数量非常多,但是大多数的用于硅片的石英清洗槽不便于调节间距,不便于拆卸提手杆,不便于安装固定杆,因此市面上迫切需要能改进用于硅片的石英清洗槽结构的技术,来完善此设备。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于硅片的石英清洗槽,以解决上述
技术介绍
提出的目前市场上的用于硅片的石英清洗槽不便于调节间距,不便于拆卸提手杆,不便于安装固定杆的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种用于硅片的石英清洗槽,包括清洗筐和卡合槽,所述清洗筐一侧固定有第一固定块,所述第一固定块顶部连接有第二固定块;所述第二固定块内部开设 ...
【技术保护点】
1.一种用于硅片的石英清洗槽,包括清洗筐(1)和卡合槽(27),其特征在于:所述清洗筐(1)一侧固定有第一固定块(2),所述第一固定块(2)顶部连接有第二固定块(3);/n所述第二固定块(3)内部开设有第一连接槽(4),所述第一连接槽(4)内部嵌合有提手杆(5),所述第一连接槽(4)两侧开设有第二连接槽(6),靠近第二连接槽(6)的所述提手杆(5)两侧固定有凸块(7);/n所述提手杆(5)顶部设置有固定杆(8),所述固定杆(8)一侧连接有第一连接轴(9),所述第一连接轴(9)一侧连接有连接杆(10),所述连接杆(10)一侧连接有第二连接轴(11),所述第二连接轴(11)一侧 ...
【技术特征摘要】
1.一种用于硅片的石英清洗槽,包括清洗筐(1)和卡合槽(27),其特征在于:所述清洗筐(1)一侧固定有第一固定块(2),所述第一固定块(2)顶部连接有第二固定块(3);
所述第二固定块(3)内部开设有第一连接槽(4),所述第一连接槽(4)内部嵌合有提手杆(5),所述第一连接槽(4)两侧开设有第二连接槽(6),靠近第二连接槽(6)的所述提手杆(5)两侧固定有凸块(7);
所述提手杆(5)顶部设置有固定杆(8),所述固定杆(8)一侧连接有第一连接轴(9),所述第一连接轴(9)一侧连接有连接杆(10),所述连接杆(10)一侧连接有第二连接轴(11),所述第二连接轴(11)一侧连接有第一连接块(12),所述第一连接块(12)一侧连接有第一夹持环(13),靠近第一夹持环(13)的所述第一连接块(12)一侧连接有第二夹持环(14),所述第一夹持环(13)与第二夹持环(14)一侧固定有挤压块(15),所述挤压块(15)一侧连接有第二连接块(16),所述第二连接块(16)之间连接有旋转杆(17),靠近挤压块(15)的所述旋转杆(17)一侧套接有扭簧(18);
所述清洗筐(1)内部开设有第一滑槽(19),所述第一滑槽(19)内部嵌合有第一滑块(20),远离第一滑槽(19)的所述清洗筐(1)内部开设有第二滑槽(23),所述第二滑槽(23)内部嵌合有第二滑块(22),所述第一滑块(20)与第二滑块(22)一侧连接有间隔板(21),所述第一滑块(...
【专利技术属性】
技术研发人员:汤芳,常永喜,
申请(专利权)人:浙江浩锐石英科技有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江;33
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。