【技术实现步骤摘要】
具有热量输出不均匀的灯丝灯的半导体加工室相关申请的交叉引用本申请根据35U.S.C.§119(c)要求2020年1月21日提交的美国临时专利申请号62/963,843的权益,该专利申请根据37C.F.R.§1.57全文以引用方式并入本文。在与本申请一起提交的申请数据表中确定了国外或国内优先权声明的任何和所有申请特此根据37C.F.R.§1.57以引用方式并入。专利技术背景
本公开整体涉及半导体加工装备,包括用于加热半导体衬底的设备。更具体地讲,本文的实施方案涉及具有用于向半导体衬底提供不均匀的热量输出的加热灯的半导体加工装备。
技术介绍
在半导体加工中,包括沉积、蚀刻和掩蔽在内的多种工艺都涉及对衬底的加热。例如,化学气相沉积(CVD)是用于在衬底(诸如硅衬底)上形成材料的薄膜的工艺。在CVD工艺中,将要沉积的材料的气态分子提供给衬底,以通过化学反应在衬底上形成该材料的薄膜。此类薄膜可以是多晶的、非晶的或外延的。通常,CVD工艺在升高的温度处进行以加速化学反应并且以产生高质量的膜。一些工艺(诸如外延硅沉积)是在极高的温度(例如,>450C、<1220C)处进行的。在CVD工艺期间,将一个或多个衬底放置在半导体加工反应室内部的衬底支撑件上。例如,衬底可以是衬底,并且衬底支撑件可以是基座。衬底、通常还有支撑件都被加热到期望的温度。在典型的衬底处理步骤中,使反应物气体通过加热的衬底,从而在衬底上引起化学气相沉积(CVD)所需材料的薄层。如果沉积层具有与下面的硅衬底相同的晶体学结构, ...
【技术保护点】
1.一种半导体加工系统,包括:/n反应室,所述反应室包括:/n衬底保持件,所述衬底保持件被配置为支撑半导体衬底;和/n线性加热灯的顶部阵列,其中所述线性加热灯的顶部阵列中的至少一个灯被配置为提供功率输出,所述功率输出在所述至少一个灯的整个长度上变化,并且/n其中在中央部分内的所述功率输出相对于在所述至少一个灯的周边部分内的所述功率输出较高。/n
【技术特征摘要】
20200121 US 62/963,8431.一种半导体加工系统,包括:
反应室,所述反应室包括:
衬底保持件,所述衬底保持件被配置为支撑半导体衬底;和
线性加热灯的顶部阵列,其中所述线性加热灯的顶部阵列中的至少一个灯被配置为提供功率输出,所述功率输出在所述至少一个灯的整个长度上变化,并且
其中在中央部分内的所述功率输出相对于在所述至少一个灯的周边部分内的所述功率输出较高。
2.如权利要求1所述的半导体加工系统,还包括在所述衬底保持件下方的线性加热灯的底部阵列。
3.如权利要求1所述的半导体加工系统,其中所述中央部分的长度为30mm。
4.如权利要求1所述的半导体加工系统,其中所述中央部分的功率输出与所述周边部分的功率输出之比介于5∶1和200∶1之间。
5.如权利要求1所述的半导体加工系统,其中所述中央部分的所述功率输出为约2000W。
6.如权利要求1所述的半导体加工系统,其中所述线性加热灯的顶部阵列中的每个灯基本上平行于所述加热灯的顶部阵列中的每个其他灯延伸。
7.如权利要求1所述的半导体加工系统,其中所述线性加热灯的顶部阵列中的所述至少一个灯包括所述顶部阵列的中央灯。
8.如权利要求1所述的半导体加工系统,其中所述线性加热灯的顶部阵列包括十一个灯。
9.如权利要求1所述的半导体加工系统,其中所述至少一个灯是从所述顶部阵列的边缘数起的第六个灯。
10.如权利要求1所述的半导体加工系统,其中所述反应室还包括抛物面反射器。
11.一种半导体加工系统,包括:
反应室,所述反应室包括:
衬底保持件,所述衬底保持件被配置为支撑半导体衬底;和
线性加热灯的顶部阵列,其中所述线性加热灯的顶部阵列中的至少一个灯包括灯丝,所述灯丝在所述至少一个灯的整个长度上具有变化的密度,并且
其中在中央部分内的所述密度相对于在所述至少一个灯的周边部分内的所述密度较高。
12.如权利要求11所述的半导体加工系统,其中所述至少一个灯的所述灯丝包括在所述中央部分中的缠绕部分和在所述周边部分中的基本上线性的部分。
13.如权利要求11所述的半导体加工系统,还包括线性加热灯的底部阵列,其中所述衬底保持件位于所述线性加热灯的底部阵列和所述线性加热灯的顶部阵列之间。
14.如权利要求11所述的半导体加工系统,其中所述中央部分的长度介于15mm和30mm之间。
15.如权利要求11所述的半导体加工系统,其中所述灯丝在所述中央部分中的密度与所述灯丝在所述周边部分中的密度之比介于5∶1和200∶1之间。
16.如权利要求11所述的半导体加工系统,其中所述线性加热灯的顶部阵列中的每个灯基本上平行于所述加热灯的顶部阵列中的每个其他灯延伸。
17.如权利要求11所述的半导体加工系统,其中所述线性加热灯的顶部阵列中的所述至少一个灯包括所述顶部阵列的中央灯。
18.如权利要求11所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·K·T·R·穆拉利达尔,金山姆,
申请(专利权)人:ASMIP控股有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰;NL
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