【技术实现步骤摘要】
微纳结构图形试样的高速跟踪方法
本专利技术涉及微纳结构图形试样的高速跟踪领域,是一种基于象散法离焦检测的新型跟踪控制的新方法,可用于微纳结构图形试样成像时的高速跟踪。
技术介绍
微纳结构的光学器件,能否满足设计参数主要受微纳结构的影响,因此微纳结构图形试样成像的检测至关重要。历史级的文献资料如古籍字画、古典名著、档案资料等进行微纳级原貌保存时,能否快速读取这类微纳级的图像及文本信息,决定了这种保存方式的效率。然而在检测或读取微纳级的结构时,需要使用高倍物镜,这类物镜的视野与景深小,在移动检测或读取时易发生离焦,使得采集的图像模糊,无法分辨具体结构内容。因此微纳结构图形试样成像时的高速自动跟踪意义重大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服了现有象散法自动跟踪技术在跟踪微纳结构图形时的不稳定问题,在实时跟踪前判断当前位置是处于图形区域或非图形区域。提供了一种微纳结构图形试样成像时的高速跟踪方法。本专利技术的技术解决方案如下:微纳结构图形试样的高速跟踪装置,包括计算机、照明成像模块、二向色棱 ...
【技术保护点】
1.微纳结构图形试样的高速跟踪方法,其特征在于该方法包括以下步骤:/na)将微纳结构图形显影后,作为微纳结构图形试样(7);/nb)将微纳结构图形试样(7)放置于工件台(8)上,通过调焦机构(4)使微纳结构图形试样(7)的表面在照明成像模块(2)中清晰成像,并设为焦点;将激光器(13)功率调到p;调节扩束镜(12),使得激光器(13)发出的激光聚焦于微纳结构图形试样(7)的表面,实时计算微纳结构图形试样(7)的表面与焦点的距离;/nc)将微纳结构图形试样(7)按刻写面积占比进行分类:以刻写面积大于等于50%,作为第一类密集型微纳结构图形试样,以刻写面积小于50%,作为第二类 ...
【技术特征摘要】
1.微纳结构图形试样的高速跟踪方法,其特征在于该方法包括以下步骤:
a)将微纳结构图形显影后,作为微纳结构图形试样(7);
b)将微纳结构图形试样(7)放置于工件台(8)上,通过调焦机构(4)使微纳结构图形试样(7)的表面在照明成像模块(2)中清晰成像,并设为焦点;将激光器(13)功率调到p;调节扩束镜(12),使得激光器(13)发出的激光聚焦于微纳结构图形试样(7)的表面,实时计算微纳结构图形试样(7)的表面与焦点的距离;
c)将微纳结构图形试样(7)按刻写面积占比进行分类:以刻写面积大于等于50%,作为第一类密集型微纳结构图形试样,以刻写面积小于50%,作为第二类稀疏型微纳结构图形试样;
d)通过观察照明成像模块(2)中的图像,首先控制工件台(8)在图形区域内遍历运动,采集探测器(9)在图形区域总能量信号T1∈[minT1,maxT1],然后控制工件台(8)在非图形区域内遍历运动,采集探测器(9)在非图形区域总能量信...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘星,魏劲松,陈国东,郑金轮,赵培均,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:上海;31
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