高强度照明光学检测装置制造方法及图纸

一种电路的光学检测装置，包括：一支撑面，用于安放和支撑被检测电路；一光学成像器，用于使该电路之至少一部分成像；图像处理电路，用于接收光学成像器的输出，并提供包括有检测数据的输出指示信号；及至少一个照明器，用于照亮被检测电路的至少一部分，以便光学成像器能够使被检测电路的一部分成像；照明器包括：至少一个金属检卤灯；一个反射器，与金属检卤灯组合；及给金属检卤灯供电的电源。本实用新型专利技术是一种高效率的电路检测装置。（*该技术在2011年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电路的光学检测，更具体地说，是采用可见光谱中的高强度照明进行电路的光学检测装置。在现有的专利文献中，公开了各种涉及电路的光学检测的文献，其中包括对印刷电路板和平板显示器的检测，以及在其中采用各种照明设备。可以认为，以下专利、专利申请和技术刊物表现了用于电路的自动化光学检测中的照明系统的技术状况Karasaki 的US 4,421,410 Gupta 的US 4,506,152Hara 的US 4,692,690 Elterman 的US 4,73 5,497Koso 的US 4,801,810 Chadwick 等的US 4,877,326Katzir 的US 5,058,982 Katzir 等的US 5,153,668奥博泰克(Orbotech)公司的WO 9966314奥博泰克(Orbotech)公司的以色列专利81450Strope等的“光学检测系统”(IBM技术公报1981年2月，第9号23卷)本技术的目的在于提供一种用于电路检测的高效率装置，该装置采用可见光谱中的高强度照明，优选的照明光谱是在一反射图像中，能容易地产生构成常用印刷电路板的材料之间的可见对比度，例如在聚酰亚胺或玻璃纤维/环氧树脂基片上的铜质导体。由此，根据本技术优选的实施例，所提供的用于电路的光学检测装置包括一支撑面，用于安放和支撑被检测电路；一光学成像器，当该被检测电路被支撑于该支撑面时，该光学成像器使该电路之至少一部分成像；图像处理电路，用于接收光学成像器的输出，并提供包括有检测数据的输出指示信号；及至少一个照明器，用于照亮被支撑于该支撑面的被检测电路的一部分，以便光学成像器能够使该被检测电路的至少一部分成像。该至少一个照明器包括至少一个金属检卤灯、一个与之组合的反射器及供给电力至该金属检卤灯的电源，其供电方式使得该电源或该至少一个金属检卤灯不会产生不能接受的干扰，例如发光电源波动或扰动；金属检卤灯的发光输出大致在350nm和700nm的光谱范围内。优选的是，设置一移位器(displacer)，当所述成像器工作期间，用于在所述支撑面与所述成像器之间引发相对的位移。另外，根据本技术的一优选实施例，该成像器包括CCD(电荷耦合器件)型传感器、CID(电荷注入器件)或CMOS(互补型金属氧化物半导体)型传感器。优选的是，该成像器是CCD型传感器，该传感器工作在延时积分工作模式(time delay integration mode ofoperation)。更进一步，根据本技术的一优选实施例，该成像器具有位于预定频率范围内的线读出频率(line readout frequency)，该电源供给电力至该金属检卤灯，其供电方式使得该电源或该金属检卤灯在预定频率范围内不会产生不能接受的发光电源输出波动。另外，根据本技术的一优选实施例，该成像器具有位于预定频率范围内的线读出频率，该电源供给电力至所述的至少一个金属检卤灯，其供电方式使得该电源或该至少一个金属检卤灯在比预定频率范围大一个数量级的频率范围内不会产生不能接受的干扰，例如发光电源波动或扰动。再进一步，根据本技术的一优选实施例，该至少一个金属检卤灯工作在直流电模式，向该金属检卤灯供电的电源向其提供直流电源。再进一步，根据本技术的一优选实施例，该装置还包括一光纤光发射器部件，用于使光从一个金属检卤灯射向被检测电路的一部分。优选的是，该光纤光发射器部件包括位于光纤下游的一聚光器。又，根据本技术的一优选实施例，一个与该金属检卤灯组合的反射器用于使光射向所述的光纤光发射器部件。根据本技术的一优选实施例，所提供的电路的光学检测的方法包括以下步骤在一支撑面上支撑待检测的电路；当所述被检测电路被支撑于所述支撑面时，采用光学成像器使该电路之至少一部分成像；处理该光学成像器的输出以提供包括有检测数据的输出指示信号；及通过采用包括至少一个金属检卤灯的照明器，并供电给所述至少一个金属检卤灯，以驱动所述至少一个金属检卤灯，从而照亮被支撑于所述支撑面的被检测电路的一部分，以便所述光学成像器能够使所述被检测电路的所述至少一部分成像；对金属检卤灯的供电方式使得所述电源或所述至少一个金属检卤灯不会产生不能接受的干扰，例如发光电源波动或扰动；金属检卤灯的发光输出大致在350nm和700nm之间的波长范围内。另外，根据本技术的一优选实施例，其工作方法包括在成像器工作期间对所述的支撑面和成像器作彼此相对的移动。进一步，根据本技术的一优选实施例，其成像步骤采用的成像器具有位于预定频率范围内的线读出频率，其驱动步骤采用电源供电给金属检卤灯，其供电方式使得该电源或该金属检卤灯在预定频率范围内不会产生不能接受的电干扰，例如发光电源波动或扰动。再进一步，根据本技术的一优选实施例，其成像步骤采用的成像器具有位于预定频率范围内的线读出频率，其驱动步骤采用电源供给电力至所述的至少一个金属检卤灯，其供电方式使得该电源或该至少一个金属检卤灯在比预定频率范围大一个数量级的频率范围内不会产生不能接受的电干扰，例如发光电源波动或扰动。另外，根据本技术的一优选实施例，其照明步骤使用一个工作在直流电模式的金属检卤灯，其驱动步骤包括向这个金属检卤灯提供直流电源。以下结合附图详细说明本技术。附图说明图1是根据本技术的优选实施例而构成和工作的、用于电路的光学检测装置之简图；图2是图1所示装置之一部分的进一步的截面简图；图3是图1和图2所示之装置的照明部件的示意图；图4是根据本技术的优选实施例之工作流程简图。图1所示，是根据本技术的优选实施例而构成及运行的、用于电路的光学检测的装置之简图；图2是图1所示之装置进一步的截面简图。如图1和图2所示，是本技术之用于电路的光学检测的装置的一优选实施例，它包括一外壳10，其中设有支撑面12，优选的是真空台，用于安放和支撑被检测的电路14。该电路14可以是印刷电路板(PCB)、球状栅极阵列基片(ball grid array substrate)、多芯片模块、平板显示基片或任何其它适当的电路。一光学成像器20被设置于外壳10内，当电路14被支撑于支撑面12时，优选的是，光学成像器20被设置在与该被检测电路14的至少一部分22位于一条视线中的位置。如图1所示，一个移位器24，例如一个或多个线性驱动部件，与支撑面14、光学成像器20组合，其作用是沿平面18上的X-Y方向提供相对于电路14之间的相对位移，以便光学成像器22能够按顺序地观测电路之部分22，这些部分22合在一起组成电路14待检测的整个表面。优选的是，移位器24包括两个部件，一个与支撑面12组合的第一部件，用于在X方向上移动该支撑面；一个与光学成像器20组合的第二部件28，用于在Y方向上移动该光学成像器。可以理解的是，移位器和光学成像器配置可以采用各种组合，以确保光学成像器观测到构成电路14整个表面的各按序的部分22。因此，例如光学成像器20的配置使其可以沿Y方向、主要地在整个宽度上观测电路14，而移位器只在X方向上移动该电路。另一种方式是，光学成像器20的配置使其可以沿Y方向、主要地在整个宽度上观测电路14，而移位器只在X方向上移动光学头本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电路的光学检测装置，包括：一支撑面，用于安放和支撑被检测电路；一光学成像器，相对于所述被检测电路而设置，当所述被检测电路被支撑于所述支撑面时，该光学成像器使该电路之至少一部分成像；图像处理电路，它连接所述光学成像器并接收所述 成像器之输出及输出检测数据；及至少一个照明器，相对于所述被检测电路而设置，当被检测电路被支撑于所述支撑面时，用于照亮所述被检测电路的所述至少一部分，以便光学成像器能够使所述被检测电路的一部分成像；所述至少一个照明器包括：一个电源； 至少一个金属检卤灯，由所述电源供电并发光，所发光大致是在３５０ｎｍ和７００ｎｍ的光谱范围内并没有所述成像器不能接受的发光电源输出波动；及一个反射器，与所述之至少一个金属检卤灯组合，接收所述至少一个金属检卤灯的发光并将使其射向所述部分。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：伊加尔卡齐尔，戴维菲什，希蒙埃尔斯特英，
申请(专利权)人：奥宝科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：IL[以色列]