同时获取平行对准标记的设备和方法技术

一种用于确定衬底对准的设备和方法，其中利用空间相干辐射同时照射多个对准标记，并且并行地收集来自被照射标记的光以获得关于标记的位置和标记内的变形的信息。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】同时获取平行对准标记的设备和方法相关申请的交叉引用本申请要求于2018年12月20日提交的美国申请62/782715的优先权，且该申请的全部内容以引用的方式而合并入本文中。
本公开涉及使用光刻技术制造器件。具体地，本公开涉及用于检测对准标记以表征和控制半导体光刻过程的装置。
技术介绍
光刻设备可以用于例如集成电路(IC)制造中。对于该应用，图案形成装置(其可替代地被称作掩模或掩模版)可以用以将电路图案转印至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。通常通过成像至被设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来完成图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过一次性将整个图案曝光至目标部分上来照射每个目标部分；和所谓的扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上经过辐射束扫描所述图案的同时、平行于或反向平行于这种扫描方向同步地扫描所述衬底，来照射每个目标部分。也可能通过将所述图案压印至衬底上来将所述图案从所述图案形成装置转印至衬本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于同时检测对准图案的多个平行对准标记的设备，所述设备包括：/n光源，用于同时产生多个光束，所述多个光束包括各自的空间相干光束，每个光束用于照射所述多个对准标记中的相应一个对准标记；/n光收集光学器件，所述光收集光学器件被布置成在光束已与相应的对准标记相互作用之后同时收集所述多个光束中的每个光束；以及/n多个检测器，每个检测器分别被布置成接收所述多个光束中的一个光束。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181220 US 62/782,7151.一种用于同时检测对准图案的多个平行对准标记的设备，所述设备包括：
光源，用于同时产生多个光束，所述多个光束包括各自的空间相干光束，每个光束用于照射所述多个对准标记中的相应一个对准标记；
光收集光学器件，所述光收集光学器件被布置成在光束已与相应的对准标记相互作用之后同时收集所述多个光束中的每个光束；以及
多个检测器，每个检测器分别被布置成接收所述多个光束中的一个光束。


2.根据权利要求1所述的设备，其中所述光源包括多个单模光纤。


3.根据权利要求2所述的设备，其中单模光纤是能够移动的，并且来自单模光纤的光被中继到对准标记使得移动所述单模光纤导致来自所述单模光纤的光扫描对准标记的一部段。


4.根据权利要求3所述的设备，其中每个单模光纤以机械方式联接至用于移动单模光纤的装置。


5.根据权利要求1所述的设备，其中所述光源包括集成光学器件。


6.根据权利要求5所述的设备，其中所述集成光学器件包括多模干涉装置。


7.根据权利要求5所述的设备，其中所述集成光学器件包括1XN定向耦合器。


8.根据权利要求1至7中任一项所述的设备，其中所述光源提供轴上照射。


9.根据权利要求1至7中任一项所述的设备，其中所述光源提供轴上照射。


10.根据权利要求1至7中任一项所述的设备，其中所述光收集光...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·M·T·A·M·埃拉扎里，F·G·C·比基恩，亚历山德罗·波洛，K·U·索博列夫，S·R·胡伊斯曼，J·L·克勒泽，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL