用于保护敏感基材的掩蔽膜制造技术

一种掩蔽膜，其包含粘附层，该粘附层氢化苯乙烯嵌段共聚物和低密度聚乙烯的共混物。该粘附层具有经配置来接触基材的外粘附表面。该外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是100nm至350nm，和平均峰间距Sm是20μm至150μm。该掩蔽膜还在该粘附层与该外粘附表面相对的一侧上包含离型层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于保护敏感基材的掩蔽膜交叉参考的相关申请本申请要求2018年12月18日提交的美国临时专利申请62/781,253的优先权权益，其整体上通过参考引入本文。
本专利技术总体上涉及一种用于保护敏感基材的掩蔽膜。
技术介绍
掩蔽膜，也称作表面保护膜，通常用于提供物理阻隔来防止它们粘附到的基材的损坏，污染，刮擦，磨损和/或其他损伤。掩蔽膜可以施用到用作电子显示器部件的精细、敏感的基材，并且在制造过程中一个或多个后续加工步骤以及运输和/或在基材使用之前的存储过程中保护基材。常用的掩蔽膜通过范德华力实现对基材的粘附，这要求掩蔽膜和基材均具有至少一个非常平坦和均匀的表面，以使得掩蔽膜可以密切接触基材。粘附的量可以通过软化或硬化掩蔽膜表面的组合物来增加或减小。过大的粘附使得在加工结束时难以从基材上除去掩蔽膜。过小的粘附会导致掩蔽膜过早地与基材分离而使基材不再受到保护。另外，掩蔽膜应当粘附到基材而在使用过程中或者不再需要掩蔽膜时除去掩蔽膜的过程中不损坏基材表面。已知一些掩蔽膜产生纹理，其改变掩蔽膜应当保护防止损坏的基材的图像清晰度。已知具有带有这样纹理的表面的基材以非均匀方式反射光，并且是当基材用作例如电子显示器中的部件时通常不可接受的。粘结剂涂覆的经取向的聚酯膜可以为这样的应用提供可接受的掩蔽性能，但是也相对昂贵。之前用不太昂贵的聚乙烯膜使改变图像清晰度的纹理最小化的努力包括使膜的两个表面都尽可能地光滑，并且不在卷绕辊引起阻塞(即粘辊)。降低聚乙烯膜表面的表面粗糙度仅在形成的基材纹理中获得微小的改进。令人期望的是具有这样的掩蔽膜，其提供对于基材所需的表面保护，而不在基材上留下纹理，并且比粘结剂涂覆的经取向的聚酯膜更加经济。
技术实现思路
已经出人意料地发现，通过使用较软的聚合物配制物和产生至少一个具有适当压纹的微纹理的表面，可以使对于精巧基材的损坏最小化或甚至避免，同时保持对基材足够的粘附性。柔软性和微纹理的组合产生一种特定类型的表面结构，其不影响基材的图像清晰度。表面粗糙度也不导致辊阻塞，并且与具有光滑表面的已知膜相比还改进了幅材(web)操作性。根据本专利技术的一个方面，提供一种掩蔽膜，其包含粘附层，该粘附层包含氢化苯乙烯嵌段共聚物和低密度聚乙烯的共混物。该粘附层具有经配置来接触基材的外粘附表面。该外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是100nm至350nm，和平均峰间距Sm是20μm至150μm。该掩蔽膜还在粘附层与外粘附表面相对的一侧上包含离型层。在一个实施方案中，粘附层还包含高密度聚乙烯。在一个实施方案中，粘附层共混物包含15wt％至80wt％的氢化苯乙烯嵌段共聚物，5wt％至50wt％的低密度聚乙烯和10wt％至40wt％的高密度聚乙烯。在一个实施方案中，粘附层共混物包含40wt％至70wt％的氢化苯乙烯嵌段共聚物，5wt％至30wt％的低密度聚乙烯和10wt％至40wt％的高密度聚乙烯。在一个实施方案中，外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是125nm至325nm，和平均峰间距Sm是20μm至100μm。在一个实施方案中，离型层包含低密度聚乙烯。在一个实施方案中，离型层包含低密度聚乙烯和高密度聚乙烯的共混物。在一个实施方案中，掩蔽膜还包含处于粘附层与离型层之间的芯层。在一个实施方案中，该芯层包含高密度聚乙烯和低密度聚乙烯的共混物。在一个实施方案中，该芯层共混物包含30wt％至50wt％的低密度聚乙烯和50wt％至70wt％的高密度聚乙烯。在一个实施方案中，该芯层包含聚丙烯。本专利技术的这些和其他方面、特征和特性，以及结构的相关元件的操作方法和功能，和零件的组合，和制造经济性，将通过考虑下面的说明和所附权利要求书并且参考附图而变得更清晰，其全部形成本说明书的一部分。但是，要明确理解的是，附图仅用于例示和说明目的，并非打算作为本专利技术限度的定义。如说明书和权利要求书中所使用，单数形式“一个”、“一种”和“该”包括复数指代物，除非上下文另有明确指示。附图说明显示了下图的部件来强调本专利技术的一般原理，并且无需按比例绘制。为了一致和清楚起见，在所有附图中表示相应部件的附图标记按需重复。图1示意性显示了根据本专利技术一个实施方案的掩蔽膜；和图2示意性显示了根据本专利技术一个实施方案的掩蔽膜。具体实施方式如本文所使用，术语“膜”表示通过流延挤出或吹塑方法生产的薄片或幅材。本专利技术的膜由聚合物制成。聚合物可以在辊间进一步加工并冷却来形成幅材。可以通过在共挤出方法中同时挤出不同的层，或者通过分别形成每个膜层，然后将单个膜结合或层合在一起，来生产多层膜。在一个实施方案中，使用本领域已知的任何共挤出方法来共挤出掩蔽膜的多个层。使用共挤出能够相对简单和容易地制造包含不同层的多层掩蔽膜，每个层发挥专门的功能。图1示意性显示了根据本专利技术一个实施方案的掩蔽膜100。如所示的，掩蔽膜100是多层膜，其包含具有外粘附表面112的粘结剂层110，和处于粘结剂层110与外粘附表面112相对的一侧上的离型层120。离型层120包含外离型表面122。粘结剂层110的外粘附表面112经配置来接触要由掩蔽膜100保护的基材表面。图2示意性显示了根据本专利技术一个实施方案的掩蔽膜200。如所示的，掩蔽膜200是多层膜，其包含具有外粘附表面212的粘结剂层210，处于粘结剂层210与外粘附表面212相对的一侧上的离型层220，和处于粘结剂层210与离型层220之间的芯层230。离型层220包含外离型表面222。粘结剂层210的外粘附表面212经配置来接触要由掩蔽膜200保护的基材表面。粘附层如本文所述及，“粘附”表示经由天然阻滞粘附(blockingadhesion)通过密切接触与要保护的基材表面的粘着，其经由极性键，离子键和在一些情况中的氢键和/或范德华次级键而存在于一个非常光滑的表面与另一光滑表面之间。非粘结剂粘附在本文中表示可离型的粘附，其中该粘附是可逆的，由此膜以及它施用到的基材都不被改变或损坏。“粘附”不包括被称作压敏粘结剂的材料、粘结剂的热结合或交联官能，因为使用压敏粘结剂、粘结剂的热结合或交联官能，基材表面与膜之间的粘附力被提高到这样的点，此时除去该膜所需的剥离强度将超过该膜本身的拉伸强度，由此引起该膜在它从基材上剥离掉之前被撕裂或破裂。根据掩蔽膜110、200的实施方案的粘附层110、210可以包含氢化苯乙烯嵌段共聚物和低密度聚乙烯(LDPE)的共混物。在一个实施方案中，粘附层110、210还包含高密度聚乙烯(HDPE)。氢化嵌段共聚物在氢化之前具有聚苯乙烯嵌段-聚二烯嵌段聚合物结构。氢化嵌段共聚物在氢化之前可以是线性或放射状的。合适的聚二烯包括聚丁二烯(1,3-丁二烯)，聚异戊二烯，及其混合物。聚苯乙烯嵌段-聚二烯嵌段结构的氢化产生苯乙烯乙烯-(丁烯/异戊二烯)-苯乙烯聚合物结构，也称作“SEBS”。参见美国专利7,439,301，美国专利7,348,376，美国专利申请公布201本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.掩蔽膜，其包含：/n粘附层，该粘附层包含氢化苯乙烯嵌段共聚物和低密度聚乙烯的共混物，该粘附层具有经配置来接触基材的外粘附表面，该外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是100nm至350nm，和平均峰间距Sm是20μm至150μm；和/n离型层，该离型层在该粘附层与该外粘附表面相对的一侧上。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181218 US 62/781,2531.掩蔽膜，其包含：
粘附层，该粘附层包含氢化苯乙烯嵌段共聚物和低密度聚乙烯的共混物，该粘附层具有经配置来接触基材的外粘附表面，该外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是100nm至350nm，和平均峰间距Sm是20μm至150μm；和
离型层，该离型层在该粘附层与该外粘附表面相对的一侧上。


2.根据权利要求1所述的掩蔽膜，其中该粘附层共混物还包含高密度聚乙烯。


3.根据权利要求2所述的掩蔽膜，其中该粘附层共混物包含15wt％至80wt％的氢化苯乙烯嵌段共聚物，5wt％至50wt％的低密度聚乙烯和10wt％至40wt％的高密度聚乙烯。


4.根据权利要求3所述的掩蔽膜，其中该粘附层共混物包含40wt％至70wt％的氢化苯乙烯嵌段共聚物，5wt％至30wt％的低密度聚乙...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·K·琼斯，B·B·戴塞，C·D·雷，S·帕克，K·A·布拉迪，
申请(专利权)人：卓德嘉表层保护有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国;US