背光模组及其制备方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种背光模组及其制备方法和显示装置。所述背光模组，包括：至少两个相邻设置的灯板；灯板包括基板、发光元件与挡墙结构，发光元件与挡墙结构分别位于基板上，且位于基板的同一侧；相邻的两个灯板的基板之间设置有缝隙；调节件，至少部分设置于缝隙中；调节件的材料特性与挡墙结构的材料特性基本相同。根据本发明专利技术的实施例，可以有利于减弱或消除拼缝暗影，提升显示效果。

【技术实现步骤摘要】
背光模组及其制备方法和显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种背光模组及其制备方法和显示装置。
技术介绍
相关技术中，背光模组是液晶显示设备的重要组成部分，背光模组用于为液晶显示设备提供充足及均匀的面光源。通常情况下，背光模组分为侧入式背光模组和直下式背光模组，其中，直下式背光模组可包括胶框、背板、光源、扩散板和光学膜材等。其中，光源位于扩散板的下方。光源发出的光经扩散板传递，照射到液晶显示面板上。
技术实现思路
本专利技术提供一种背光模组及其制备方法和显示装置，以解决相关技术中的不足。根据本专利技术实施例的第一方面，提供一种背光模组，包括：至少两个相邻设置的灯板；所述灯板包括基板、发光元件与挡墙结构，所述发光元件与所述挡墙结构分别位于所述基板上，且位于所述基板的同一侧；相邻的两个所述灯板的所述基板之间设置有缝隙；调节件，至少部分设置于所述缝隙中；所述调节件的材料特性与所述挡墙结构的材料特性基本相同。在一个实施例中，所述材料特性包括反射率；所述调节件的反射率大于或等于90％，所述挡墙结构的反射率大于或等于90％。在一个实施例中，当所述调节件的反射率大于所述挡墙结构的反射率时，所述调节件远离所述基板的表面为凸面；和/或，当所述调节件的反射率等于所述挡墙结构的反射率时，所述调节件远离所述基板的表面为平面；和/或，当所述调节件的反射率小于所述挡墙结构的反射率时，所述调节件远离所述基板的表面为凹面。在一个实施例中，所述材料特性包括颜色，所述调节件的颜色为白色，所述挡墙结构的颜色为白色，所述调节件的颜色的色坐标与所述挡墙结构的颜色的色坐标基本相同。在一个实施例中，所述调节件的材料中包括二氧化钛和/或氧化锌，所述挡墙结构的材料中包括二氧化钛和/或氧化锌。在一个实施例中，所述调节件的高度大于所述基板的厚度；在所述缝隙的宽度方向上，所述调节件的第一端的宽度大于第二端的宽度，其中，所述第一端位于所述缝隙外，所述第二端位于所述缝隙中；在所述缝隙的宽度方向上，所述调节件的第一端的宽度大于所述缝隙的宽度；所述调节件的第一端在所述基板上的正投影与所述挡墙结构在所述基板上的正投影相交叠。在一个实施例中，所述调节件的材料为弹性材料。在一个实施例中，所述调节件为一体成型的结构，或，为分体式结构。在一个实施例中，所述挡墙结构为网格状结构，所述缝隙两侧分别设置有所述挡墙结构，所述调节件面向所述挡墙结构的表面的形状与所述挡墙结构面向所述调节件的表面的形状互补；所述调节件面向所述挡墙结构的表面与所述挡墙结构面向所述调节件的表面相贴合；所述挡墙结构面向所述调节件的表面为弧面，所述调节件面向所述挡墙结构的表面为弧面。在一个实施例中，所述挡墙结构的高度大于所述发光元件的高度；所述调节件的高度小于或等于所述挡墙结构远离所述基板的表面到所述基板远离所述挡墙结构的表面之间的最大距离。在一个实施例中，所述发光元件的高度为100～150微米，所述挡墙结构的高度为200～300微米，所述调节件的高度为100～300微米。在一个实施例中，所述挡墙结构的高度小于所述发光元件的高度；所述调节件的高度大于或等于所述挡墙结构远离所述基板的表面到所述基板远离所述挡墙结构的表面之间的最大距离。在一个实施例中，所述灯板还包括透明保护层，所述透明保护层位于所述发光元件上；所述调节件的高度小于或等于所述透明保护层远离所述基板的表面到所述基板远离所述透明保护层的表面之间的最大距离。根据本专利技术实施例的第二方面，提供一种显示装置，包括显示面板与上述的背光模组。根据本专利技术实施例的第三方面，提供一种背光模组的制备方法，所述背光模组包括：至少两个灯板与调节件；所述方法，包括：将至少两个所述灯板相邻设置；其中，所述灯板包括基板、发光元件与挡墙结构，所述发光元件与所述挡墙结构分别位于所述基板上，且位于所述基板的同一侧；相邻的两个所述灯板的所述基板之间设置有缝隙；将所述调节件的至少部分置于所述缝隙中；其中，所述调节件的材料特性与所述挡墙结构的材料特性基本相同。根据上述实施例可知，由于相邻的两个灯板的基板之间设置有缝隙，调节件的至少部分设置于该缝隙中，且调节件的材料特性与灯板的挡墙结构的材料特性基本相同，因此，在背光模组提供背光时，位于缝隙处的背光亮度会接近灯板处的背光亮度，有利于减弱或消除拼缝暗影，提升显示效果。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本专利技术。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。图1是根据本专利技术实施例示出的一种背光模组的俯视图；图2是根据本专利技术实施例示出的一种背光模组的剖视图；图3是根据本专利技术实施例示出的一种调节件的结构示意图；图4是根据本专利技术实施例示出的一种灯板的排布示意图；图5是根据本专利技术实施例示出的另一种背光模组的剖视图；图6是根据本专利技术实施例示出的一种背光模组的制备方法的流程图。具体实施方式这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本专利技术相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本专利技术的一些方面相一致的装置和方法的例子。当显示装置的背光模组中的光源为MiniLED(次毫米发光二极管)时，考虑制作工艺良率、散热等问题，由于对于大尺寸显示装置，其背光模组由多个子模块拼接形成，专利技术人发现，这种背光模组提供的背光在拼缝对应的位置处的亮度与其他位置处的亮度存在差异，即会带来拼缝暗影，影响显示效果。如图1～图2所示，本专利技术实施例提供一种背光模组。其中，图1为背光模组的俯视图，图2为图1沿剖面线AA’的剖面图。该背光模组，包括：至少两个灯板11与调节件12。在本实施例中，如图1所示，至少两个灯板11相邻设置。在本实施例中，如图2所示，每个灯板11包括基板111、发光元件112与挡墙结构113，发光元件112与挡墙结构113分别位于基板111上，且位于基板111的同一侧。相邻的两个灯板11的基板111间隔设置，即相邻的两个灯板11的基板111之间设置有缝隙，调节件12的至少部分设置在缝隙中。在本实施例中，调节件12的材料特性与挡墙结构113的材料特性基本相同。在本实施例中，由于相邻的两个灯板11邻接设置，相邻的两个灯板11的基板111之间设置有缝隙，调节件12的至少部分设置在该缝隙中，且调节件12的材料特性与灯板11的挡墙结构113的材料特性基本相同，因此，在背光模组发光时，位于缝隙所在区域的背光亮度会接近灯板11所在区域的背光亮度，有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种背光模组，其特征在于，包括：至少两个相邻设置的灯板；/n所述灯板包括基板、发光元件与挡墙结构，所述发光元件与所述挡墙结构分别位于所述基板上，且位于所述基板的同一侧；相邻的两个所述灯板的所述基板之间设置有缝隙；/n调节件，至少部分设置于所述缝隙中；所述调节件的材料特性与所述挡墙结构的材料特性基本相同。/n

【技术特征摘要】
1.一种背光模组，其特征在于，包括：至少两个相邻设置的灯板；
所述灯板包括基板、发光元件与挡墙结构，所述发光元件与所述挡墙结构分别位于所述基板上，且位于所述基板的同一侧；相邻的两个所述灯板的所述基板之间设置有缝隙；
调节件，至少部分设置于所述缝隙中；所述调节件的材料特性与所述挡墙结构的材料特性基本相同。


2.根据权利要求1所述的背光模组，其特征在于，所述材料特性包括反射率；
所述调节件的反射率大于或等于90％，所述挡墙结构的反射率大于或等于90％。


3.根据权利要求1所述的背光模组，其特征在于，当所述调节件的反射率大于所述挡墙结构的反射率时，所述调节件远离所述基板的表面为凸面；和/或，
当所述调节件的反射率等于所述挡墙结构的反射率时，所述调节件远离所述基板的表面为平面；和/或，
当所述调节件的反射率小于所述挡墙结构的反射率时，所述调节件远离所述基板的表面为凹面。


4.根据权利要求1所述的背光模组，其特征在于，所述材料特性包括颜色，所述调节件的颜色为白色，所述挡墙结构的颜色为白色，
所述调节件的颜色的色坐标与所述挡墙结构的颜色的色坐标基本相同。


5.根据权利要求4所述的背光模组，其特征在于，所述调节件的材料中包括二氧化钛和/或氧化锌，所述挡墙结构的材料中包括二氧化钛和/或氧化锌。


6.根据权利要求1所述的背光模组，其特征在于，所述调节件的高度大于所述基板的厚度；
在所述缝隙的宽度方向上，所述调节件的第一端的宽度大于第二端的宽度，其中，所述第一端位于所述缝隙外，所述第二端位于所述缝隙中；
在所述缝隙的宽度方向上，所述调节件的第一端的宽度大于所述缝隙的宽度；
所述调节件的第一端在所述基板上的正投影与所述挡墙结构在所述基板上的正投影相交叠。


7.根据权利要求1所述的背光模组，其特征在于，所述调节件的材料为弹性材料。


8.根据权利要求1所述的背光模组，其特征在于，所述调节件为一体成型的结构，或，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李健，李沛，翟明，李金鹏，张树柏，张腾，曹鹏军，杨志富，
申请(专利权)人：京东方晶芯科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11