【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
描绘装置，为了在基本图像上描绘描绘图像，将描绘图像和基本图像间的对应关系作为描绘条件而生成，根据生成的描绘条件，利用描绘装置将描绘图像描绘到基本图像的描绘区域上，其特征在于，设有：用于存储所述基本图像的描绘区域的中心线的装置、至少接受１点从描绘装置的用户的视点来看，在所述区域中显现于最靠前侧的最靠前点的输入并存储的装置、用于求出所述区域的两端部位置的装置、和描绘条件生成装置，其用于生成从描绘图像向描绘区域的描绘条件，使得在所述最靠前点附近，描绘图像的像素密度变得最小，描绘图像的中心线描绘在描绘区域的中心线附近，且在所述两端部描绘图像的像素密度变得最大。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：前岩哲司，山本真司，
申请(专利权)人：株式会社岛精机制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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