【技术实现步骤摘要】
一种单层膜双纳米孔DNA检测设备及检测方法
本专利技术涉及DNA检测领域，特别是涉及一种单层膜双纳米孔DNA检测设备及检测方法。
技术介绍
基因测序技术作为人类探索生命秘密的重要手段之一，对生物、生命科学、医学等领域的技术发展起到了巨大的推动作用。而固态纳米孔测序技术作为新兴的第四代基因测序技术，具有低成本、高读长、易集成等优势。第四代固态纳米孔基因测序技术原理是将DNA分子电泳通过一个薄而小的纳米孔，固定DNA的两端，移动纳米位移平台，由于不同碱基理化性质的差异，其对孔的电流阻塞效应不同，对阻塞电流的分辨可以得知DNA分子内碱基的序列信息。但目前的固态纳米孔测序技术也面临很多问题，首先，待测DNA仅单次过孔，如果要对检测结果进行校正，则需将纳米位移平台复位后重新测量，致使测试效率与测量准确性不可兼得，其次，现有技术中，在完成单次过孔检测，需要对待测DNA更换探针时，需要将DNA从固定端取下、更换探针、重新固定，步骤繁琐，进一步降低了检测效率。综上所述，如何在保证测试效率的前提下，提高DNA检测间的结果准确度...
【技术保护点】
1.一种单层膜双纳米孔DNA检测设备，其特征在于，包括DNA修饰腔、DNA检测腔、电场电极及信号处理终端；/n所述DNA检测腔包括单层膜双纳米孔芯片；/n所述DNA修饰腔，用于对待测DNA加装探针及在所述待测DNA的尾端连接磁性小球，所述磁性小球的直径大于所述单层膜双纳米孔芯片上的纳米孔A的孔径；/n所述电场电极，用于在所述DNA检测腔内生成外加电场，使加装所述探针及所述磁性小球的待测DNA的首端从所述单层膜双纳米芯片的正面先穿过所述纳米孔A到达所述单层膜双纳米芯片的背面，再从所述背面穿过纳米孔B，完成一次所述待测DNA过孔检测，且在完成单次所述DNA过孔检测后，关闭所述电...
【技术特征摘要】
1.一种单层膜双纳米孔DNA检测设备，其特征在于，包括DNA修饰腔、DNA检测腔、电场电极及信号处理终端；
所述DNA检测腔包括单层膜双纳米孔芯片；
所述DNA修饰腔，用于对待测DNA加装探针及在所述待测DNA的尾端连接磁性小球，所述磁性小球的直径大于所述单层膜双纳米孔芯片上的纳米孔A的孔径；
所述电场电极，用于在所述DNA检测腔内生成外加电场，使加装所述探针及所述磁性小球的待测DNA的首端从所述单层膜双纳米芯片的正面先穿过所述纳米孔A到达所述单层膜双纳米芯片的背面，再从所述背面穿过纳米孔B，完成一次所述待测DNA过孔检测，且在完成单次所述DNA过孔检测后，关闭所述电场电极，使所述待测DNA回缩；
所述信号处理终端，用于收集所述待测DNA穿过所述纳米孔A及所述纳米孔B时的纳米孔电信号，并通过所述纳米孔电信号确定DNA检测结果。
2.如权利要求1所述的单层膜双纳米孔DNA检测设备，其特征在于，所述DNA检测腔包括双通道微流控组件；
所述双通道微流控组件包括导流沟道，所述导流沟道与所述单层膜双纳米孔芯片围成导流管；
所述导流管分别将纳米孔A及纳米孔B与所述DNA修饰腔连接。
3.如权利要求1所述的单层膜双纳米孔DNA检测设备，其特征在于，所述单层膜双纳米孔芯片从下至上依次包括硅基体、氮化硅层及保护层；
所述硅基体包括基体通孔，所述保护层包括两个保护通孔；
所述基体通孔与所述氮化硅层组成下方凹槽，所述保护通孔与所述氮化硅层组成两个上方凹槽；
所述纳米孔A及所述纳米孔B分别位于两个上方凹槽的底部，且位于所述下方凹槽的底部。
4.如权利要求3所述的单层膜双纳米孔DNA检测设备，其特征在于，所述单层膜双纳米孔芯片的制造方法包括：
清洗所述硅基体；
在清洗后的硅基体正面依次设置所述氮化硅层及所述保护层；
分别对所述硅基体的背面及所述保护层进行光刻及刻蚀，得到图形化的基体通孔及图形化的保护通孔；
通过透射电子显微镜刻蚀所述氮化硅层...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡岚，曹铭，凌新生，
申请(专利权)人：苏州罗岛纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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