一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术适用于复合纳米材料镀膜技术领域，提供了一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置，其特征在于，包括真空箱、顶盖、铰支架、密封窗、第一蒸发室、第二蒸发室、第三蒸发室、真空泵、冷凝泵，由于所述行星轮、所述太阳轮和所述内啮合齿轮构成行星轮系，且所述内啮合齿轮固定在真空箱下部，所以所述行星轮在实现围绕所述太阳轮公转的同时可以实现自转，这样有利于多个靶材的镀层，同时保证靶材的镀层均匀，而多个蒸发室则能满足复合纳米涂层的镀膜要求。膜要求。膜要求。

【技术实现步骤摘要】
一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置


[0001]本技术属于复合纳米涂层镀膜
，尤其涉及一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置。

技术介绍

[0002]一种由金属或合金与一种或多种陶瓷相组成的非均质的复合材料，根据各组成相所占百分比不同，金属陶瓷分为以陶瓷为基质和以金属为基质两类，以陶瓷为基质的金属陶瓷具有耐高温、抗化学腐蚀、导热性好、机械强度高等特点，以金属为基质的金属陶瓷有高温强度高、密度小、易加工、耐腐蚀、导热性好等特点。
[0003]真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。
[0004]由于金属陶瓷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置，其特征在于，包括真空箱(1)、顶盖(2)、铰支架(3)、密封窗(4)、第一蒸发室(5)、第二蒸发室(6)、第三蒸发室(7)、真空泵(8)；所述真空箱(1)包括真空腔(11)、载物盘(12)、行星轮(13)、内啮合齿轮(14)、太阳轮(15)，所述真空箱(1)内部凹陷的矩形空间为所述真空腔(11)，所述真空腔(11)下部设有四个所述载物盘(12)，所述载物盘(12)下部通过轴连接有所述行星轮(13)，所述行星轮(13)接近公转中心的位置啮合有所述太阳轮(15)，所述太阳轮(15)下端键连接有一伺服电机，所述行星轮(13)远离公转中心的位置啮合有所述内啮合齿轮(14)，所述内啮合齿轮(14)外侧固定于所述真空箱(1)内；所述第一蒸发室(5)包括蒸发腔(51)、第一接线柱(52)、金属丝(53)、第二接线柱(54)、镀膜孔(55)，所述第一蒸发室(5)内部设有所述蒸发腔(51)，所述蒸发腔(51)内部分别设有所述第一接线柱(52)和所述第二接线柱(54)，所述第一接线柱(52)和所述第二接线柱(54)顶部固定有所述金属丝(53)，所述第一蒸发室(5)靠近所述真空腔(11)的一侧设有所...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘平，
申请(专利权)人：妙壳新材料科技东莞有限公司，
类型：新型
国别省市：