一种镀膜设备的观察结构及镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种镀膜设备的观察结构，镀膜设备包括真空室，包括：遮挡部件，设于所述真空室的室壁的观测孔内，所述遮挡部件包括遮挡部和镂空部；透明罩体，对应设于所述观测孔所在的真空室的外壁上。本实用新型专利技术还提供了一种具有镀膜设备的观察结构的镀膜设备，有效的减小的观测孔的观测面积，防止了观测孔处发生异常起辉反应或打火现象，从而避免了异常起辉反应或打火现象对真空室内的化学气相沉积工艺的干扰问题；同时，还避免通过观测孔观察时，因异常起辉现象的辉光过于强烈，而刺激双眼的情况，避免了出现射频泄漏情况的概率，也减小了对周围环境造成的伤害，保证镀膜设备在有效反应工艺区进行正常的工艺镀膜。反应工艺区进行正常的工艺镀膜。反应工艺区进行正常的工艺镀膜。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜设备的观察结构及镀膜设备


[0001]本技术涉及镀膜设备
，具体涉及一种镀膜设备的观察结构及镀膜设备。

技术介绍

[0002]等离子体增强化学的气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，以下简称PECVD)设备中，通常在真空室壁上开设观察通孔，同时在该观察通孔内安装密封观察窗，使得PECVD设备进行化学气相沉积工艺时，可以时时在线观察真空室内的工艺进展。
[0003]但是，现有的密封观察窗的观察窗口，通常为直径几十毫米至几百毫米的圆孔，由于观察窗口的面积较大，导致在进行化学气相沉积工艺时常出现观察窗处异常起辉反应或打火现象，这种现象会对正常的化学气相沉积工艺的反应造成干扰，有可能发生射频泄露，并对周围造成辐射伤害。

技术实现思路

[0004]因此，本技术要解决的技术问题在于克服现有技术中由于观察窗口的面积较大，导致在进行化学气相沉积工艺时常出现观察窗处异常起辉反应、或打火现象的缺陷，从而提供一种镀膜设备的观察结构及镀膜设备。
[0005]为解决上述技术问题，本技术的技术方案如下：
[0006]一种镀膜设备的观察结构，所述镀膜设备包括真空室，包括：遮挡部件，设于所述真空室的室壁的观测孔内，所述遮挡部件包括遮挡部和镂空部；透明罩体，对应设于所述观测孔所在的真空室的外壁上。
[0007]可选的，所述遮挡部为间隔设置的多个条形结构，所述镂空部为相邻所述条形结构之间的长条通孔。
[0008]可选的，所述观测孔为圆形孔或异形孔，所述条形结构与所述真空室的外壁的连接处为与所述观测孔相适的圆弧形状。
[0009]可选的，所述条形结构与所述长条通孔在所述观测孔内的长度，由中间向两侧逐渐变短。
[0010]可选的，在所述真空室的外壁上开设有凹槽，所述凹槽的截面尺寸大于所述观测孔的截面尺寸；所述透明罩体内嵌于所述凹槽内。
[0011]可选的，在所述透明罩体的远离所述遮挡部件的一侧设有压盖，所述压盖与所述真空室的外壁可拆卸连接。
[0012]可选的，还包括多个固定件以及密封件，所述固定件用于将所述压盖连接与所述真空室的外壁，所述密封件用于密封所述压盖与所述真空室的外壁。
[0013]可选的，多个所述固定件均匀布置在所述压盖上的周边。
[0014]可选的，所述固定件包括丁腈胶密封件、三元乙丙橡胶密封件、氟橡胶密封件、硅
胶密封件、氟硅橡胶密封件、聚氨酯密封件中的任一种。
[0015]本技术还提供了一种镀膜设备，包括本技术所述的镀膜设备的观察结构。
[0016]本技术技术方案，具有如下优点：
[0017]1.本技术提供的镀膜设备的观察结构，所述镀膜设备包括真空室，包括：遮挡部件，设于所述真空室的室壁的观测孔内，所述遮挡部件包括遮挡部和镂空部；透明罩体，对应设于所述观测孔所在的真空室的外壁上。
[0018]通过在真空室的室壁上的观测孔内设置遮挡部件，并且该遮挡部件具有遮挡部和镂空部，通过遮挡部和镂空部的设置，使得操作人员可以通过镂空部观察真空室内，利用化学气相沉积工艺对反应基片镀膜的进展情况；同时，由于遮挡部的设置，有效的减小的观测孔的观测面积，防止了观测孔处发生异常起辉反应或打火现象，从而避免了异常起辉反应或打火现象对真空室内的化学气相沉积工艺的干扰问题，同时，由于遮挡部件的设置，还可以避免工艺时通过观测孔观察反应工艺区时，因为异常起辉现象的辉光过于强烈，而刺激双眼的情况，避免了出现射频泄漏情况的概率，也减小了对周围环境造成的伤害，保证镀膜设备在有效反应工艺区进行正常的工艺镀膜。
[0019]2.本技术提供的镀膜设备的观察结构，在所述真空室的外壁上开设有凹槽，所述凹槽的截面尺寸大于所述观测孔的截面尺寸；所述透明罩体内嵌于所述凹槽内。使得透明罩体可以稳定的安装在凹槽内，避免出现透明罩体的直径小于观测孔的直径的情况，使得透明罩体伸入至观测孔内，或沿观测孔的轴向方向滑动，而影响遮挡部件安装的稳定性，或影响操作人员的观察情况。
[0020]3.本技术提供的镀膜设备的观察结构，在所述透明罩体的远离所述遮挡部件的一侧设有压盖，所述压盖与所述真空室的外壁可拆卸连接，从而便于压盖的拆卸，更换凹槽内的透明罩体。
[0021]4.本技术提供的镀膜设备的观察结构，多个所述固定件均匀布置在所述压盖的周边，从而保证了压盖固定在真空室的外壁上的稳定性。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为本技术实施例提供的镀膜设备的俯视图；
[0024]图2为本技术实施例中镀膜设备的观察结构的结构示意图；
[0025]图3为图2的剖视图。
[0026]附图标记说明：
[0027]1‑
真空室；11
‑
观测孔；12
‑
凹槽；13
‑
反应工艺区；2
‑
遮挡部件；21
‑
遮挡部；22
‑
镂空部；3
‑
透明罩体；4
‑
压盖；5
‑
固定件；6
‑
反应基片。
具体实施方式
[0028]下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0030]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0031]请参阅图1至图3所示，本技术实施例提供的一种镀膜设备的观察结构，所述镀膜设备包括真空室，包本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备的观察结构，所述镀膜设备包括真空室(1)，其特征在于，包括：遮挡部件(2)，设于真空室(1)的室壁的观测孔(11)内，所述遮挡部件(2)包括遮挡部(21)和镂空部(22)；透明罩体(3)，对应设于所述观测孔(11)所在的所述真空室(1)的外壁上。2.根据权利要求1所述的镀膜设备的观察结构，其特征在于，所述遮挡部(21)为间隔设置的多个条形结构，所述镂空部(22)为相邻所述条形结构之间的长条通孔。3.根据权利要求2所述的镀膜设备的观察结构，其特征在于，所述观测孔(11)为圆形孔或异形孔，所述条形结构与所述真空室(1)的外壁的连接处为与所述观测孔(11)相适的圆弧形状。4.根据权利要求3所述的镀膜设备的观察结构，其特征在于，所述条形结构与所述长条通孔在所述观测孔(11)内的长度，由中间向两侧逐渐变短。5.根据权利要求1
‑
4中任一项所述的镀膜设备的观察结构，其特征在于，在所述真空室(1)的外壁上开设有凹槽(12)，所述凹槽(12)...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业有限合伙，
类型：新型
国别省市：