一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装制造技术

本实用新型专利技术属于化学气相沉积设备技术领域，公开一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装。包括圆环状卡盘、支撑件；圆环状卡盘的数量为两个，圆环状卡盘的圆环上均匀设有至少三个固定孔或者圆环状卡盘的圆环均匀径向向外延伸有至少三个凸块并且每个凸块上开设一固定孔；支撑件的数量与一圆环状卡盘上的固定孔的数量对应，支撑件包括底座，底座顶面垂直向上固定连接有支撑柱，支撑柱的两端为外螺纹柱、中间段为光滑柱，光滑柱的侧面均匀开设有放置槽；两个圆环状卡盘分别通过固定孔螺纹连接在支撑柱的两端外螺纹柱上。本实用新型专利技术可使化学气相沉积后的圆盘基片表面涂层厚度均匀，可支撑多个圆盘基片进行化学气相沉积，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装
本技术属于化学气相沉积设备
，具体涉及一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装。
技术介绍
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。目前，化学气相沉积技术可以制备各种化合物包括碳化物、氮化物、氧化物、硼化物等，在机械、电子、能源、航空航天等行业发挥着巨大的作用。生产时将待涂基片通过支撑工装的支承放置于化学气相沉积反应器内，气体反应在待涂基片的表面沉积形成涂层，所以对于涂层基片生产的质量和数量而言，合适的支撑工装设计显得尤为重要。当在圆盘基片表面涂层时，对支撑圆盘基片的工装性能要求较高，支撑圆盘基片的工装对基片表面成膜质量有很大的影响，可能会导致圆盘基片表面涂层厚度不均匀、盲区较大等问题。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术的目的旨在提供一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装。为实现上述目的，本技术采取两种技术方案，具体如下：方案①：一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装，其特征在于：包括圆环状卡盘、支撑件；/n圆环状卡盘的数量为两个，圆环状卡盘的圆环上均匀设置有至少三个固定孔或者圆环状卡盘的圆环均匀径向向外延伸有至少三个凸块并且每个凸块上开设一固定孔，固定孔内设有内螺纹；/n支撑件的数量与一圆环状卡盘上的固定孔的数量对应，支撑件包括底座，底座顶面垂直向上固定连接有支撑柱，支撑柱的两端为外螺纹柱、中间段为光滑柱，光滑柱的侧面均匀开设有放置槽；/n每根支撑件对应一圆环状卡盘上的固定孔并且放置槽朝内，两个圆环状卡盘分别通过固定孔螺纹连接在支撑柱的两端外螺纹柱上。/n

【技术特征摘要】
1.一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装，其特征在于：包括圆环状卡盘、支撑件；
圆环状卡盘的数量为两个，圆环状卡盘的圆环上均匀设置有至少三个固定孔或者圆环状卡盘的圆环均匀径向向外延伸有至少三个凸块并且每个凸块上开设一固定孔，固定孔内设有内螺纹；
支撑件的数量与一圆环状卡盘上的固定孔的数量对应，支撑件包括底座，底座顶面垂直向上固定连接有支撑柱，支撑柱的两端为外螺纹柱、中间段为光滑柱，光滑柱的侧面均匀开设有放置槽；
每根支撑件对应一圆环状卡盘上的固定孔并且放置槽朝内，两个圆环状卡盘分别通过固定孔螺纹连接在支撑柱的两端外螺纹柱上。


2.如权利要求1所述的适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装，其特征在于：固定孔上下的外螺纹柱上各用一螺母固定。


3.一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装，其特征在于：包括圆环状卡盘、支撑件；
圆环状卡盘的数量为两个，圆环状卡盘的圆环上均匀设置有至少三个固定孔或者圆环状卡盘的圆环均匀径向向外延伸有至少三个凸块并且每个凸块上开设一固定孔；
支撑件的数量与一圆环状卡盘上的固定孔的数量对应，支撑件包括底座，底座顶面垂直向上固定连接有支撑柱...

【专利技术属性】
技术研发人员：李江涛，张东生，吴恒，姚栋嘉，刘喜宗，杨超，牛利伟，张相国，
申请(专利权)人：巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41