一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置制造方法及图纸

技术编号:28916230 阅读:17 留言:0更新日期:2021-06-18 21:09
本发明专利技术公开了一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置,包括密封设备,所述密封设备主要由支撑腿、箱体、密封盖组成,所述箱体底部通过螺栓连接有所述支撑腿,所述箱体顶部盖合有所述密封盖,还包括旋转支撑机构、密封板、分割机构。本发明专利技术可以通过气缸带动连接架下降,连接架带动密封罩下降,使得密封罩扣合在密封板上,实现了对晶圆清洗、干燥、喷涂分别位于不同的且较小的密闭空间内,可以在干燥晶圆时,干燥室内部空间的湿度较小,有益于提高干燥效率,还可以通过驱动电机在第二链条的作用下带动传动管转动,通过传动管在第一链条的作用下带动四个吸盘放料台转动,进而实现了对不同工位的晶圆清洗、干燥、喷涂干燥的工作,进一步提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置
本专利技术涉及晶圆加工
,特别是涉及一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置。
技术介绍
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能的集成电路产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.999999999%。在半导体制程中,为了防止激光开槽产生的碎屑、粉末污染晶圆片,在到激光开槽前,清洗晶圆表面,然后在晶圆表面均匀喷涂切削液。在激光开槽完成后,需要将晶圆表面的切削液清洗干净现有的清洗涂胶设备中存在以下缺点:1、清洗和涂胶处于同一个密封腔中,由于对晶圆清洗和涂胶后均需要对晶圆进行一次干燥,清洗和涂胶后密封腔内湿度较大,因此干燥晶圆效率变低,影响生产效率。
技术实现思路
本专利技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置。本专利技术通过以下技术方案来实现上述目的:一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置,包括密封设备,所述密封设备主要由支撑腿、箱体、密封盖组成,所述箱体底部通过螺栓连接有所述支撑腿,所述箱体顶部盖合有所述密封盖,所述密封盖顶部设置有清洗设备本体、干燥设备本体A、涂胶设备本体、干燥设备本体B,还包括旋转支撑机构、密封板、分割机构,所述旋转支撑机构包括调节电机、转动架、吸盘放料台、传动管、第一链条、第二链条、驱动电机、连接杆,所述调节电机通过螺栓连接在所述箱体底部中央,所述调节电机的输出端伸进所述箱体内部,且通过联轴器连接有所述连接杆,所述连接杆上端键连接有所述转动架,所述转动架为行星架,且设有四个支板,所述转动架顶部设置有所述密封板,所述吸盘放料台下端穿过所述密封板和该支板,并延伸至该支板下方,且连通有负压泵,所述转动架底部中央还通过轴承连接有所述传动管,且所述传动管还套设在所述连接杆外侧,所述传动管下端与所述箱体内部底端通过轴承连接,所述传动管与所述吸盘放料台之间通过所述第一链条传动,所述传动管和所述驱动电机之间通过所述第二链条传动,所述驱动电机通过螺栓连接在所述箱体内部,所述分割机构包括气缸、连接架、密封罩、连接头,所述气缸通过螺栓连接在所述密封盖顶部中央,所述气缸的输出端伸进所述箱体内部,且通过螺栓连接有所述连接架,所述连接架底部外侧通过螺栓连接有所述密封罩,所述密封罩顶部中央通过螺栓连接有所述连接头,这样设置可以通过气缸带动连接架下降,连接架带动密封罩下降,使得密封罩扣合在密封板上,实现了对晶圆清洗、干燥、喷涂分别位于不同的且较小的密闭空间内,不仅可以有效的防止密闭的空间内水雾和油雾混合,还可以在干燥晶圆时,干燥室内部空间的湿度较小,有益于提高干燥效率,进而提高了生产效率,还可以通过驱动电机在第二链条的作用下带动传动管转动,通过传动管在第一链条的作用下带动四个吸盘放料台转动,进而实现了对不同工位的晶圆清洗、干燥、喷涂干燥的工作,进一步提高了生产效率。优选的,所述支撑腿外侧通过合页连接有四个维修门,且所述维修门外侧远离合页的一端设置有把手,这样设置可以方便对四个工位进行维护。优选的,所述维修门和所述密封罩的材料为透明材料,这样设置方便观察工作状况。优选的,所述第一链条内侧与所述吸盘放料台通过链轮啮合连接,所述第一链条外侧与所述传动管通过链轮啮合连接,这样设置具体实现了传动管通过第一链条带动吸盘放料台转动的方式。优选的,四个所述连接头分别与所述清洗设备本体、所述干燥设备本体A、所述涂胶设备本体和所述干燥设备本体B通过管道连通,这样设置使得四个密封罩内部分别为清洗室、干燥室A、喷涂室和干燥室B。优选的,所述干燥设备本体B和所述干燥设备本体A的进风端处通过喉箍连接有滤清器,这样设置可以防止空气中的杂质对晶圆造成污染。优选的,所述密封板顶部开设有环形的排液槽,且所述排液槽靠近密封板边缘处设置有排液口,所述排液槽的外径与所述密封罩底边缘的内径相同,这样设置可以把多余的清洗液从密封板上排出。优选的,所述箱体内部底端还设置有收集机构,这样设置可以对多余的清洗液和喷涂液进行收集。优选的,所述收集机构包括收集盒、分隔板,所述收集盒为环形结构,所述收集盒外侧壁位于所述密封板外侧,且顶端高于所述密封板顶部,所述收集盒内侧壁位于所述密封板边缘内侧,且顶部低于所述密封板,所述收集盒通过螺钉连接在所述箱体内部底端,且内部焊接有四个所述分隔板,这样设置可以对多余的清洗液和喷涂液进行分开收集。优选的,所述收集机构包括弧形收集盒,所述弧形收集盒通过螺钉连接在所述箱体内部底端,所述弧形收集盒设置有四个,且四个所述弧形收集盒组成一个环形,该环形外侧壁位于所述密封板外侧,且顶端高于所述密封板顶部,该环形内侧壁位于所述密封板边缘内侧,且顶部低于所述密封板,这样设置可以对多余的清洗液和喷涂液进行分开收集。本专利技术提供的技术方案可以包括以下有益效果:1、本专利技术可以通过气缸带动连接架下降,连接架带动密封罩下降,使得密封罩扣合在密封板上,实现了对晶圆清洗、干燥、喷涂分别位于不同的且较小的密闭空间内,不仅可以有效的防止密闭的空间内水雾和油雾混合,还可以在干燥晶圆时,干燥室内部空间的湿度较小,有益于提高干燥效率,进而提高了生产效率。2、本专利技术可以通过驱动电机在第二链条的作用下带动传动管转动,通过传动管在第一链条的作用下带动四个吸盘放料台转动,进而实现了对不同工位的晶圆清洗、干燥、喷涂干燥的工作,进一步提高了生产效率。本专利技术的附加技术特征及其优点将在下面的描述内容中阐述地更加明显,或通过本专利技术的具体实践可以了解到。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术,但并不构成对本专利技术的限制。在附图中:图1是本专利技术所述一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置的结构示意图;图2是本专利技术所述一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置的剖视图;图3是本专利技术所述一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置的旋转支撑机构的第一结构示意图;图4是本专利技术所述一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置的旋转支撑机构的第二结构示意图;图5是本专利技术所述一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置的密封板的结构示意图;图6是本专利技术所述一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置的分割机构的结构示意图;图7是本专利技术所述一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置的收集机构的第一实施例的结构示意图;图8是本专利技术所述一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置的收集机构的第二实施例的结构示意图。附图标记说明如下:1、密封设备;2、旋转支撑机构;3、密封板;4、分割机构;5、收集机构;101、支撑腿;102、箱体;103、密封盖;104、维修门;105、清洗设备本体;106、干燥设备本体A;107、涂胶设备本体;108、干燥设备本体B;201、调节本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置,包括密封设备(1),所述密封设备(1)主要由支撑腿(101)、箱体(102)、密封盖(103)组成,所述箱体(102)底部通过螺栓连接有所述支撑腿(101),所述箱体(102)顶部盖合有所述密封盖(103),所述密封盖(103)顶部设置有清洗设备本体(105)、干燥设备本体A(106)、涂胶设备本体(107)、干燥设备本体B(108),其特征在于:还包括旋转支撑机构(2)、密封板(3)、分割机构(4),所述旋转支撑机构(2)包括调节电机(201)、转动架(202)、吸盘放料台(203)、传动管(204)、第一链条(205)、第二链条(206)、驱动电机(207)、连接杆(208),所述调节电机(201)通过螺栓连接在所述箱体(102)底部中央,所述调节电机(201)的输出端伸进所述箱体(102)内部,且通过联轴器连接有所述连接杆(208),所述连接杆(208)上端键连接有所述转动架(202),所述转动架(202)为行星架,且设有四个支板,所述转动架(202)顶部设置有所述密封板(3),所述吸盘放料台(203)下端穿过所述密封板(3)和该支板,并延伸至该支板下方,且连通有负压泵,所述转动架(202)底部中央还通过轴承连接有所述传动管(204),且所述传动管(204)还套设在所述连接杆(208)外侧,所述传动管(204)下端与所述箱体(102)内部底端通过轴承连接,所述传动管(204)与所述吸盘放料台(203)之间通过所述第一链条(205)传动,所述传动管(204)和所述驱动电机(207)之间通过所述第二链条(206)传动,所述驱动电机(207)通过螺栓连接在所述箱体(102)内部,所述分割机构(4)包括气缸(401)、连接架(402)、密封罩(403)、连接头(404),所述气缸(401)通过螺栓连接在所述密封盖(103)顶部中央,所述气缸(401)的输出端伸进所述箱体(102)内部,且通过螺栓连接有所述连接架(402),所述连接架(402)底部外侧通过螺栓连接有所述密封罩(403),所述密封罩(403)顶部中央通过螺栓连接有所述连接头(404)。/n...

【技术特征摘要】
1.一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置,包括密封设备(1),所述密封设备(1)主要由支撑腿(101)、箱体(102)、密封盖(103)组成,所述箱体(102)底部通过螺栓连接有所述支撑腿(101),所述箱体(102)顶部盖合有所述密封盖(103),所述密封盖(103)顶部设置有清洗设备本体(105)、干燥设备本体A(106)、涂胶设备本体(107)、干燥设备本体B(108),其特征在于:还包括旋转支撑机构(2)、密封板(3)、分割机构(4),所述旋转支撑机构(2)包括调节电机(201)、转动架(202)、吸盘放料台(203)、传动管(204)、第一链条(205)、第二链条(206)、驱动电机(207)、连接杆(208),所述调节电机(201)通过螺栓连接在所述箱体(102)底部中央,所述调节电机(201)的输出端伸进所述箱体(102)内部,且通过联轴器连接有所述连接杆(208),所述连接杆(208)上端键连接有所述转动架(202),所述转动架(202)为行星架,且设有四个支板,所述转动架(202)顶部设置有所述密封板(3),所述吸盘放料台(203)下端穿过所述密封板(3)和该支板,并延伸至该支板下方,且连通有负压泵,所述转动架(202)底部中央还通过轴承连接有所述传动管(204),且所述传动管(204)还套设在所述连接杆(208)外侧,所述传动管(204)下端与所述箱体(102)内部底端通过轴承连接,所述传动管(204)与所述吸盘放料台(203)之间通过所述第一链条(205)传动,所述传动管(204)和所述驱动电机(207)之间通过所述第二链条(206)传动,所述驱动电机(207)通过螺栓连接在所述箱体(102)内部,所述分割机构(4)包括气缸(401)、连接架(402)、密封罩(403)、连接头(404),所述气缸(401)通过螺栓连接在所述密封盖(103)顶部中央,所述气缸(401)的输出端伸进所述箱体(102)内部,且通过螺栓连接有所述连接架(402),所述连接架(402)底部外侧通过螺栓连接有所述密封罩(403),所述密封罩(403)顶部中央通过螺栓连接有所述连接头(404)。


2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆加工的表面清洗涂胶装置,其特征在于:所述支撑腿(101)外侧通过合页连接有四个维修门(104),且所述维修门(104)外侧远离合页的一端设置有把手。


3.根据权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:钱诚李刚童建
申请(专利权)人:江苏亚电科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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