用于制备抑菌抛光液的装置及用于双面抛光硅片的系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例公开了一种用于制备抑菌抛光液的装置及用于双面抛光硅片的系统，所述装置包括第一容器，所述第一容器具有注入开口，所述注入开口用于将去离子水和包含有效抛光成分的浆料原液注入到所述第一容器内；用于储存双氧水的第二容器，所述第二容器与所述第一容器之间设置有连接管道，使得储存在所述第二容器内的双氧水能够注入到所述第一容器中；设置在所述第一容器内的搅拌机构，所述搅拌机构构造成通过搅拌将注入到所述第一容器中的所述去离子水、所述浆料原液和所述双氧水混合均匀以获得所述抑菌抛光液。

【技术实现步骤摘要】
用于制备抑菌抛光液的装置及用于双面抛光硅片的系统
本技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种用于制备抑菌抛光液的装置及用于双面抛光硅片的系统。
技术介绍
在制造硅片的过程中，通常需要对硅片进行抛光处理以将硅片表面的粗糙度降低，或者说将表面平坦度较差的硅片抛光为具有更好的表面平坦度的硅片。抛光处理除了利用抛光垫与硅片表面之间的摩擦产生的机械作用以外，还会利用抛光液与硅片表面之间的化学作用，以将硅片表面抛光至镜面状态，并且这种处理工艺被称为化学反应和机械抛光过程共同作用的化学机械抛光(ChemicalMechanicalPolishing，CMP)工艺。因此，用于抛光硅片的系统中通常包括用于储存抛光液的容器以将抛光液供给至抛光设备。然而，常规的抛光液中主要包括两种成分，即包去离子水和含有效抛光成分的浆料原液，这种抛光液由于其本身的化学特性，经过较长时间后容易受到外部环境中的比如细菌的污染，因此需要对抛光液进行定期管理。比如需要定期检测抛光液的污染程度，以判断抛光液是否适于继续供给至用于抛光硅片的系统中的抛光设备。检测过程需要系统停止作业，由此导致产能降低。在通过检测判断出抛光液的污染程度已经不再适于继续供给至抛光设备的情况下，需要将储存在容器中的抛光液完全排空，对同时被污染的容器进行清洁并更换新的抛光液。上述操作会导致系统更长时间的停止作业，由此更严重地影响产能。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本技术实施例期望提供一种用于制备抑菌抛光液的装置及用于双面抛光硅片的系统，制备出的抛光液具有抑菌性能，使得抛光液不会受到外部环境中的细菌污染，由此不再需要检测抛光液的污染程度，不再需要对用于储存抛光液的装置进行清洗或更换新的抛光液。本技术的技术方案是这样实现的：第一方面，本技术实施例提供了一种用于制备抑菌抛光液的装置，所述装置可以包括：第一容器，所述第一容器具有注入开口，所述注入开口用于将去离子水和包含有效抛光成分的浆料原液注入到所述第一容器内；用于储存双氧水的第二容器，所述第二容器与所述第一容器之间设置有连接管道，使得储存在所述第二容器内的双氧水能够注入到所述第一容器中；设置在所述第一容器内的搅拌机构，所述搅拌机构构造成通过搅拌将注入到所述第一容器中的所述去离子水、所述浆料原液和所述双氧水混合均匀以获得所述抑菌抛光液。第二方面，本技术实施例提供了一种用于双面抛光硅片的系统，所述系统可以包括：根据第一方面所述的装置；双面抛光设备，所述双面抛光设备包括用于夹置所述硅片的上抛光垫和下抛光垫；供给管道，所述供给管道设置在所述第一容器与所述双面抛光设备之间以将所述抑菌抛光液供给至所述上抛光垫和所述下抛光垫。本技术实施例提供了一种用于制备抑菌抛光液的装置及用于双面抛光硅片的系统，与现有的主要包括去离子水和浆料原液两种成分的抛光液不同，在根据本技术的用于制备抑菌抛光液的装置中，由于包括了用于储存双氧水的第二容器，并且双氧水能够经由连接管道注入到第一容器中，因此能够获得包括第三种成分双氧水的抛光液，由于双氧水是具有抑菌作用的，因此制备出的抛光液也具有抑菌性能，使得抛光液不会受到外部环境中的细菌污染，由此不再需要检测抛光液的污染程度，并且不再需要对用于储存抛光液的装置进行清洗或更换新的抛光液，从而不会影响抛光系统的产能。附图说明图1为根据本技术的用于制备抑菌抛光液的装置的实施例的示意图；图2为根据本技术的用于制备抑菌抛光液的装置的另一实施例的示意图；图3为根据本技术的用于制备抑菌抛光液的装置的另一实施例的示意图；图4为根据本技术的用于制备抑菌抛光液的装置的另一实施例的示意图；图5为根据本技术的用于制备抑菌抛光液的装置的另一实施例的示意图；图6为根据本技术的用于双面抛光硅片的系统的实施例的示意图；图7为根据本技术的用于双面抛光硅片的系统的供给管道的实施例的示意图；图8为根据本技术的用于双面抛光硅片的系统的供给管道的固定方式的示意图；图9为根据本技术的用于制备抑菌抛光液的方法的实施例的示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。参见图1，其示出了根据本技术的用于制备抑菌抛光液的装置100的示意图。如图1所示，所述装置100可以包括：第一容器110，所述第一容器110具有注入开口111，所述注入开口111用于将去离子水和包含有效抛光成分的浆料原液(也称作粗抛光液)注入到所述第一容器110内；用于储存双氧水(H2O2)的第二容器120，所述第二容器120与所述第一容器110之间设置有连接管道120P，使得储存在所述第二容器120内的双氧水能够注入到所述第一容器110中，如在图1中通过连接管道120P上的箭头示意性地示出的；设置在所述第一容器110内的搅拌机构130，所述搅拌机构130构造成通过搅拌将注入到所述第一容器110中的所述去离子水、所述浆料原液和所述双氧水混合均匀以获得所述抑菌抛光液，在图1中通过虚线示意性地示出了抑菌抛光液的液面。与现有的主要包括去离子水和浆料原液两种成分的抛光液不同，在根据本技术的用于制备抑菌抛光液的装置100中，由于包括了用于储存双氧水的第二容器120，并且双氧水能够经由连接管道120P注入到第一容器110中，因此能够获得包括第三种成分双氧水的抛光液，由于双氧水是具有抑菌作用的，因此制备出的抛光液也具有抑菌性能，使得抛光液不会受到外部环境中的细菌污染，由此不再需要检测抛光液的污染程度，并且不再需要对用于储存抛光液的装置进行清洗或更换新的抛光液，从而不会影响抛光系统的产能。参见图2，其示出了根据本技术的用于制备抑菌抛光液的装置100的变型的示意图。如图2所示，所述第一容器110可以包括盖部110A和容纳部110B，所述注入开口111设置在所述盖部110A上，并且所述连接管道120P连接至所述盖部110A。有时可能需要第一容器110具有较大的开口以方便对储存在第一容器110中的抑菌抛光液进行所需的处理和操作，通过上述设置方式，在将盖部110A从容纳部110B移除后便可以在容纳部110B上形成该较大的开口。对于旨在供给至抛光设备的上述抑菌抛光液而言，去离子水、浆料原液和双氧水的量需要满足一定的比例关系，其中去离子水和浆料原液的量可以比如在注入到第一容器110之前测定出，而对于双氧水的量的测定，在本技术的优选实施例中，参见图3，所述连接管道120P上设置有流量计120M，所述流量计120M用于对注入到所述第一容器110内的双氧水的量进行测定，由此能够根据离子水和浆料原液的量确定出需要注入到第一容器110中的双氧水的量，并借助流量计120M对双氧水的量进行控制。在本技术的优选实施例中，所述双氧水占所述抑菌抛光液的质量百比分本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制备抑菌抛光液的装置，其特征在于，所述装置包括：/n第一容器，所述第一容器具有注入开口，所述注入开口用于将去离子水和包含有效抛光成分的浆料原液注入到所述第一容器内；/n用于储存双氧水的第二容器，所述第二容器与所述第一容器之间设置有连接管道，使得储存在所述第二容器内的双氧水能够注入到所述第一容器中；/n设置在所述第一容器内的搅拌机构，所述搅拌机构构造成通过搅拌将注入到所述第一容器中的所述去离子水、所述浆料原液和所述双氧水混合均匀以获得所述抑菌抛光液。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于制备抑菌抛光液的装置，其特征在于，所述装置包括：
第一容器，所述第一容器具有注入开口，所述注入开口用于将去离子水和包含有效抛光成分的浆料原液注入到所述第一容器内；
用于储存双氧水的第二容器，所述第二容器与所述第一容器之间设置有连接管道，使得储存在所述第二容器内的双氧水能够注入到所述第一容器中；
设置在所述第一容器内的搅拌机构，所述搅拌机构构造成通过搅拌将注入到所述第一容器中的所述去离子水、所述浆料原液和所述双氧水混合均匀以获得所述抑菌抛光液。


2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一容器包括盖部和容纳部，所述注入开口设置在所述盖部上，并且所述连接管道连接至所述盖部。


3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述连接管道上设置有流量计，所述流量计用于对注入到所述第一容器内的双氧水的量进行测定。


4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述双氧水占所述抑菌抛光液的质量百比分介于0.5％至1％。


5.根据权利要求1或2所述的装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵晟佑，
申请(专利权)人：西安奕斯伟硅片技术有限公司，西安奕斯伟材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：陕西;61