基于参数化单元的掩模信息处理方法技术

本公开涉及集成电路技术领域，提供了一种基于参数化单元的掩模信息处理方法，其首先通过获取数据库中半导体器件的参数化单元的图形数据，该参数化单元的图形数据包括前述半导体器件在不同结构层的工艺图形信息；其次根据该参数化单元的图形数据构建处理图形掩模信息的模板，前述模板用于查找需要处理掩模信息的工艺图形；而后确定需要处理掩模信息的工艺图形，并根据前述模板的模板参数给该图形设定相应的掩模信息，其中，前述模板参数包括结构层信息、图形坐标信息以及前述掩膜信息。由此可有效减少数据规模，降低了存储空间的占用面积，同时减少了重复开发参数化单元的次数，提升了第三方编辑工具多层掩模的设计效率。升了第三方编辑工具多层掩模的设计效率。升了第三方编辑工具多层掩模的设计效率。

【技术实现步骤摘要】
基于参数化单元的掩模信息处理方法


[0001]本公开涉及集成电路
，具体涉及一种基于参数化单元的掩模信息处理方法、服务器和存储介质。

技术介绍

[0002]目前人们在进行版图设计时主要应用的是Cadence公司的参数化单元(Parameter CELL，PCell)版图，该参数化版图的设计原理是通过尺寸、类型等相关参数控制版图的生成布局，这一设计过程是通过SKILL编程语言实现的。但是Pcell存在着设计时间长，可移植性差等问题。
[0003]而Synopsys公司开发出了利用Python编程来产生参数化版图的PyCell Studio开发工具。Python源代码通过PyCell Studio编译成为开放获取(Open Access)格式的数据库，供集成电路版图设计软件使用，如Candence Virtuoso等。同时利用相关的内建函数或者编写自定义函数，就可以批量的自动复制电路结构中基本单元的版图，降低版图设计工作的重复性，从而实现版图的自动化设计。
[0004]工艺设计支持包(Process Design Kit，PD本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于参数化单元的掩模信息处理方法，包括：获取数据库中半导体器件的参数化单元的图形数据，所述参数化单元的图形数据包括所述半导体器件在不同结构层的工艺图形；根据所述参数化单元的图形数据构建处理图形掩模信息的模板，所述模板用于查找需要处理掩模信息的工艺图形；确定需要处理掩模信息的工艺图形，并根据所述模板的模板参数给该图形设定相应的掩模信息，其中，所述模板参数包括结构层信息、图形坐标信息以及所述掩膜信息。2.根据权利要求1所述的掩模信息处理方法，其中，所述根据所述参数化单元的图形数据构建处理所述掩模信息的模板的步骤包括：在所述参数化单元的图形数据中增加处理所述掩膜信息的指令，所述指令包括所述模板参数；根据所述参数化单元的图形数据构建图形查找树。3.根据权利要求2所述的掩模信息处理方法，其中，所述确定需要处理掩模信息的工艺图形的步骤包括：索引所述指令中所述模板参数，查找到所述图形查...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢光益，郎丰涛，李起宏，张通，王柯，
申请(专利权)人：北京华大九天科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：