一种微波等离子体产生装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种微波等离子体产生装置，属于微波技术领域，包括等离子体炬；所述等离子体炬包括外壳；所述外壳内设有圆柱状腔；所述圆柱状腔内设有反应管；所述外壳上设有进气口和出气口；所述进气口和出气口通过反应管连通；所述外壳上设有馈口；所述馈口连通圆柱状腔。本发明专利技术的一种微波等离子体产生装置，等离子体易激发，等离子体产生效率高，具有自动监测复反射系数功能，采用自动三销钉适配器自动调配，提高微波能量的利用率，能够快速自动点火，稳定可靠。

【技术实现步骤摘要】
一种微波等离子体产生装置
本专利技术属于微波
，具体地说涉及一种微波等离子体产生装置。
技术介绍
随着IC封装和芯片制造等电子产品制造领域中产品日益多样化，产品的清洗方式也变得越来越大多样化。总体分为干法清洗和湿法清洗两种。湿法清洗一般会以液体作为清洗媒介对待清洗物进行清洗，包括蒸汽清洗、溶液浸泡清洗、旋转清洗等。采用液体一般为水、酸、碱和有机溶剂等，这不仅浪费了大量的洗涤剂还对环境造成了污染，同时还可能对待清洗产品造成伤害。干法清洗包括机械清洗、激光清洗、超声波清洗、干冰清洗以及等离子清洗。机械清理需要施加外力进行摩擦，可能会对产品造成伤害。激光清理是污渍吸收高能激光后气化挥发，这种方式效率比较低。超声波清洗同样需要将产品浸泡在溶剂里，在超声波的高频震荡下达到清洗目的。干冰清洗是利用干冰的低温效果使污渍瞬间脆化爆裂，这需要大量干冰。等离子体清洗利用等离子体中的高能粒子和活性粒子，通过轰击或活化反应作用将金属表面污物去除的过程。根据选择的工艺气体不同，等离子体清洗可分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。目前产生等离子体有四种激励电本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微波等离子体产生装置，其特征在于：包括等离子体炬(1)；所述等离子体炬(1)包括外壳(2)；所述外壳(2)内设有圆柱状腔(3)；所述圆柱状腔(3)内设有反应管(4)；所述外壳(2)上设有进气口(5)和出气口(6)；所述进气口(5)和出气口(6)通过反应管(4)连通；所述外壳(2)上设有馈口(7)；所述馈口(7)连通圆柱状腔(3)。/n

【技术特征摘要】
1.一种微波等离子体产生装置，其特征在于：包括等离子体炬(1)；所述等离子体炬(1)包括外壳(2)；所述外壳(2)内设有圆柱状腔(3)；所述圆柱状腔(3)内设有反应管(4)；所述外壳(2)上设有进气口(5)和出气口(6)；所述进气口(5)和出气口(6)通过反应管(4)连通；所述外壳(2)上设有馈口(7)；所述馈口(7)连通圆柱状腔(3)。


2.根据权利要求1所述的一种微波等离子体产生装置，其特征在于：所述圆柱状腔(3)中部设有输入腔(8)；所述输入腔(8)为圆柱状；所述反应管(4)、圆柱状腔(3)、输入腔(8)同轴设置；所述输入腔(8)的横截面尺寸大于圆柱状腔(3)的横截面尺寸；所述馈口(7)设置在输入腔(8)的侧壁上，且馈口(7)正对反应管(4)。


3.根据权利要求1或2所述的一种微波等离子体产生装置，其特征在于：所述反应管(4)外螺旋缠绕有散热管(9)；所述外壳(2)上设有换热进口(10)和换热出口(11)；所述换热进口(10)和换热出口(11)通过散热管(9)连通。


4.根据权利要求3所述的一种微波等离子体产生装置，其特征在于：所述散热管(9)的数量至少为两根。


5.根据权利要求4所述的一种微波等离子体产生装置，其特征在于：所述等离子体炬(1)还包括进口分流件(12)和出口集流件(13)；所述换热进口(10)通过进口分流件(12)分别连通所有散热管(9)的进端；所有散热管(9)的出端通过出口集流件(13)共同连通换热出口(11)。


6.根据权利要求5所述的一种微波等离子体产生装置，其特征在于：所述进口分流件(12)和出口集流件(13)均为环状，外套在反应管(4)上；所述进口分流件(12)和出口集流件(13)内均设有流道。


7.根据权利要求6所述的一种微波等离子体产生装置，其特征在于：还包括自动点火器；所述自动点火器安装在外壳(2)上；所述外壳(2)内设有点火通道；所述自动点火器的点火针伸入点火通道；所述点火通道和进气口(5)连通。


8.根据权利要求1～2、4～7任一权利要求所述的一种微波...

【专利技术属性】
技术研发人员：王邱林，吉皓，
申请(专利权)人：成都奋羽电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51