一种宽频的常压微波等离子体炬制造技术

本发明专利技术涉及微波等离子体技术领域，具体而言，涉及一种宽频的常压微波等离子体炬，采用本发明专利技术所提供的结构，主要包括外导体、内导体、射频接头和放电装置，内导体包括第一锥形端、柱体和第二锥形端，所述柱体连接于所述第一锥形端和第二锥形端之间，所述第一锥形端与所述射频接头连接，所述第二锥形端与所述放电装置连接。通过上述结构，内导体（电极）末端的放大，即第二锥形端，增加电场通量，扩大等离子体炬的激发区域，使得大流量、大体积的等离子体火焰的稳定激发得以实现，电极的增大会使阻抗匹配失衡，在炬体的设计上增加两处渐变的阻抗匹配结构，使电极末端圆盘与同轴结构实现良好的匹配。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微波等离子体，具体而言，涉及一种宽频的常压微波等离子体炬。

技术介绍

1、微波等离子体具有高电子密度、高效率、高电子温度的特点。因此微波等离子体炬在表面处理、化工、材料加工等领域均有广泛应用。

2、等离子炬在材料合成、薄膜制备、定向刻蚀、喷涂及融焊接等领域的广泛应用，受到了学术界和工业界的广泛关注。尤其是大流量的等离子射流，由于其气体流量大、火焰体积大，单次处理的材料量更大，其设计研究也成为了等离子体的热点方向。为了实现大流量的气体激发，谐振结构通常是一个很好的选择，这种结构能使尽可能多的微波功率传播到腔内，产生很强的电场，将功率沉积到等离子中。但这也使得常规的谐振腔结构射流激发区较小，不能产生较大的等离子火焰，当等离子点燃后，激发区进一步被压缩。所以常规的同轴谐振腔等离子体射流的火焰较细、长度较短，这对大批量的材料进行表面处理显然是不利的。因此，在同等条件下激发大流量、大体积的等离子装置的研发设计成为了迫在眉睫的要求。

技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种宽频的常压微波等离本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种宽频的常压微波等离子体炬，其特征在于，包括外导体(2)、内导体(5)、射频接头(1)和放电装置，所述内导体(5)设置于所述外导体(2)内，其一端与所述射频接头(1)连接，另一端与所述放电装置连接，所述射频接头(1)和放电装置分别连接于所述外导体(2)的两端；

2.根据权利要求1所述的一种宽频的常压微波等离子体炬，其特征在于，所述放电装置包括进气装置、石英管(6)和网筒(4)，所述网筒(4)的底部与所述外导体(2)可拆卸连接，所述石英管(6)设置于所述网筒(4)内，其一端与所述内导体(5)连接，所述进气装置设置于石英管(6)与所述内导体(5)连接处。

3.根...

【技术特征摘要】

1.一种宽频的常压微波等离子体炬，其特征在于，包括外导体(2)、内导体(5)、射频接头(1)和放电装置，所述内导体(5)设置于所述外导体(2)内，其一端与所述射频接头(1)连接，另一端与所述放电装置连接，所述射频接头(1)和放电装置分别连接于所述外导体(2)的两端；

2.根据权利要求1所述的一种宽频的常压微波等离子体炬，其特征在于，所述放电装置包括进气装置、石英管(6)和网筒(4)，所述网筒(4)的底部与所述外导体(2)可拆卸连接，所述石英管(6)设置于所述网筒(4)内，其一端与所述内导体(5)连接，所述进气装置设置于石英管(6)与所述内导体(5)连接处。

3.根据权利要求2所述的一种宽频的常压微波等离子体炬，其特征在于，所述进气装置包括两个进气管(3)，所述进气管(3)的一端与所述石英管(6)连接。

4.根据权利要求3所述的一种宽频的常压微波等离子体炬，其特征在于，所述外导体(2)的两侧分别开设有通孔，所述进气管(3)通过通孔贯穿所述外导体(2)。

5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王邱林，吉皓，
申请(专利权)人：成都奋羽电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：