一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺制造技术

本发明专利技术涉及植珠膜真空蒸镀技术领域，具体涉及一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺；包括真空仓真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊，放卷辊上设置有植珠膜，真空仓的内腔下端设置有蒸镀室，主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中，位于主鼓正下方的蒸镀室中有坩埚蒸发装置，坩埚蒸发装置包括容置槽，容置槽中设置有若干排坩埚，每排坩埚呈平行设置且每排坩埚与植株膜的牵引方向相垂直，每排坩埚与相邻一排的坩埚之间交错设置，坩埚的外围套设有螺旋式感应加热线圈；本发明专利技术能够保证镀在植株膜面上的镀层厚度更加均匀，有效解决了现有真空蒸镀设备无法适用于植株膜高质量镀膜的不足，同时有效降低了植珠膜镀膜过程中的原料浪费。

【技术实现步骤摘要】
一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺
本专利技术涉及植珠膜真空蒸镀
，具体涉及一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺。
技术介绍
在真空环境下将靶材加热升华并镀到基材表面的过程称为真空镀膜。植珠膜真空镀膜顾名思义是在真空环境下将靶材（如硫化锌）加热升华镀到植珠膜的植株面，然后通过真空镀层使得植珠膜达到增亮或者具有幻彩膜面的效果。传统的真空蒸镀设备是利用钼舟对靶材（如硫化锌）进行加热，但是使用钼舟对靶材进行加热蒸发时存在以下弊端：其一，由于靶材的形状一般均是呈长方体形，在使用过程将其有规则的摆放在钼舟中，而钼舟在通电过程中其内表面会存在较大的温度差，从而导致靶材受热不均匀，靶材在受热不均匀的情况下会导致蒸镀在膜面上的镀层厚度不均匀，更加无法对镀层厚度进行有效控制，而植珠膜表面镀层的厚度不均匀严重影响了其产品的效果，其传统的钼舟加热方式无法适用于植珠膜的真空蒸镀；其二，由于使用钼舟对靶材进行加热蒸发时其靶材的下表面与钼舟的底壁相接触，从而导致靶材与钼舟的接触面先升华，当靶材的下表面先升华一段时间后导致其下表面不再水平，容易使得发生倾斜，而在真空蒸镀过程中一个钼舟中规则摆放有多个靶材，当其中一个靶材发生倾斜时需要更换整个钼舟中所有的靶材，从而造成了原料的极大浪费。因此，针对现有使用钼舟对靶材进行加热蒸发的真空蒸镀设备的上述不足，设计一种能够解决现有真空蒸镀设备无法有效控制镀层均匀，使其无法适用于植珠膜的真空蒸镀过程、且容易造成靶材原料浪费的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备是一项有待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有真空蒸镀设备无法有效控制镀层均匀，使其无法适用于植珠膜的真空蒸镀过程、且容易造成靶材原料浪费的问题，设计一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺。本专利技术是通过以下技术方案实现的：一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，包括真空仓，所述真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊，所述放卷辊上设置有植珠膜，所述收卷辊的一端部设置有收卷电机，所述真空仓的外部设置有抽真空系统，所述抽真空系统与真空仓相连通，所述真空仓中设置有主鼓，所述主鼓的一端部设置有控制电机，所述主鼓的中空内腔连接有冷却系统，所述植珠膜依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上，所述真空仓的内腔下端设置有蒸镀室，所述主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中，位于所述主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有坩埚蒸发装置；其中，所述坩埚蒸发装置包括容置槽，所述容置槽中设置有若干排坩埚，每排所述坩埚呈平行设置且每排坩埚与植株膜的牵引方向相垂直，每排所述坩埚与相邻一排的坩埚之间交错设置，每个所述坩埚中均放置有蒸镀靶材，在每个所述坩埚的外围套设有螺旋式感应加热线圈，所述螺旋式感应加热线圈的两端连接有电源线。作为上述方案的进一步设置，每个所述坩埚的上端设置有导流罩，所述导流罩的下端呈与圆柱形且与坩埚的上端相配合，所述导流罩的上端的两侧向中间靠拢设置，且在导流罩的上端面开设有条形口，所述条形口的方向与植株膜的牵引方向相垂直。作为上述方案的进一步设置，所述容置槽中设置的坩埚为2排，且每排坩埚的数量设置有2~4个，其中一排所述导流罩上开设的条形口两端部与另一排导流罩上开设的条形口端部处于沿植株膜牵引方向上的同一直线上。作为上述方案的进一步设置，所述容置槽中还填充有耐高温玻璃纤维布；其耐高温玻璃纤维布不仅具有耐高温的作用，而且由于其填充装置能够防止容置槽中的坩埚发生位置偏移或者倾倒。作为上述方案的进一步设置，所述坩埚和导流罩由均石墨或氮化硼材料制成。作为上述方案的进一步设置，所述蒸镀靶材为块状、颗粒状或粉末状其中的一种。作为上述方案的进一步设置，所述抽真空系统包括设置在真空仓外部的机械泵和扩散泵，所述机械泵和扩散泵上均连接有真空管，所述真空管上设置有阀门，所述真空管的端部与真空仓相连接通；整个抽真空系统能够保证在真空蒸镀过程中，真空仓内的压强保持接近真空状态。作为上述方案的进一步设置，所述冷却系统为氟利昂强制制冷系统，所述氟利昂强制制冷系统通过管路与主鼓的中空内腔相连接。一种使用上述以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备进行的镀膜工艺，包括如下步骤：S1：打开真空仓将植珠膜装在放卷辊上，并将植珠膜依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上，同时启动冷却系统对主鼓进行降温冷却；S2：合上真空仓保证真空仓处于密封状态，再启动抽真空系统将真空仓内部抽至负压值为1.3×100至1.3×10-4Pa的状态；S3：将坩埚蒸发装置中的每个螺旋式感应加热线圈通电，从而对坩埚进行加热，坩埚温度升高后对内部的蒸镀靶材进行加热使其蒸发；S4：待坩埚内部的温度加热均匀后，启动收卷电机，使得植珠膜在收卷辊的牵引下通过蒸镀室，并且植珠膜绕在主鼓的鼓面上，同时坩埚中产生汽化的蒸镀靶材向上运动进行镀膜，直至完成整个植珠膜的牵引镀膜过程；S5：待整个植珠膜的牵引镀膜完成后，关闭收卷电机、控制电机和主动辊，再关闭蒸发源和加热装置，最后关闭抽真空系统，待真空仓内的温度恢复至室温时打开真空仓取料即可。优选地，所述蒸镀靶材为硫化锌、氟化镁、氧化锡、二氧化硅、五氧化二钽、纯铝、纯银、纯金、黄铜或紫铜其中的一种；其蒸镀靶材还不仅限于上述材料，其根据蒸镀膜面的效果可选用具体的材料作为蒸镀靶材。与现有的以钼舟作为蒸发源的真空蒸镀设备相比，其有益效果：1、本专利技术公开的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺，其将传统的钼舟作为蒸发源改成一个容置槽中规则布置若干坩埚作为蒸发源，每个坩埚中直接投有蒸镀靶材，在真空蒸镀过程中由于坩埚受到其外围的螺旋式感应加热线圈加热后，使得整个坩埚的内部温度处处均匀，然后坩埚内部均匀的高温再将蒸镀靶材进行加热升华，使得从坩埚上端口上升的蒸发靶材更加均匀，从而能够保证镀在植株膜面上的镀层厚度更加均匀，其有效解决了现有以钼舟为蒸发源无法对植株膜进行高质量真空镀膜的不足。2、本专利技术公开的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备在植珠膜进行真空镀膜时，其所使用的靶材的摆放以及靶材的形状不像钼舟蒸镀一样受到限制，只需要将待靶材有规则或无规则的放在坩埚中即可，其有效解决了传统钼舟蒸镀时对靶材形状要求苛刻、且靶材摆放时要规则布置的繁琐，更重要的是其有效解决了钼舟蒸镀过程中当其中一个靶材发生倾斜时需要更换整个钼舟中所有的靶材而造成了原料的极大浪费，给企业降低了成本浪费。3、本专利技术还在每个坩埚的上端设置一个特殊形状设计的导流罩，其导流罩上开设有条形口，并且容置槽中所有坩埚上导流罩开设有条形口，其每个导流罩上的条形口如果处于同一排时其条形口能够形成一个连续的直线，并且该直线垂直于植株膜的牵引方向，当坩埚内的靶材蒸发时其蒸发的靶材会沿着条形口均匀上升，从而能够进一步保证在植株膜镀层的均匀性，其导流罩的设置巧妙，控制植株膜镀层均匀性的效果更佳。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，包括真空仓，所述真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊，所述放卷辊上设置有植珠膜，所述收卷辊的一端部设置有收卷电机，所述真空仓的外部设置有抽真空系统，所述抽真空系统与真空仓相连通，所述真空仓中设置有主鼓，所述主鼓的一端部设置有控制电机，所述主鼓的中空内腔连接有冷却系统，所述植珠膜依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上，其特征在于，所述真空仓的内腔下端设置有蒸镀室，所述主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中，位于所述主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有坩埚蒸发装置；/n其中，所述坩埚蒸发装置包括容置槽，所述容置槽中设置有若干排坩埚，每排所述坩埚呈平行设置且每排坩埚与植株膜的牵引方向相垂直，每排所述坩埚与相邻一排的坩埚之间交错设置，每个所述坩埚中均放置有蒸镀靶材，在每个所述坩埚的外围套设有螺旋式感应加热线圈，所述螺旋式感应加热线圈的两端连接有电源线。/n

【技术特征摘要】
1.一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，包括真空仓，所述真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊，所述放卷辊上设置有植珠膜，所述收卷辊的一端部设置有收卷电机，所述真空仓的外部设置有抽真空系统，所述抽真空系统与真空仓相连通，所述真空仓中设置有主鼓，所述主鼓的一端部设置有控制电机，所述主鼓的中空内腔连接有冷却系统，所述植珠膜依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上，其特征在于，所述真空仓的内腔下端设置有蒸镀室，所述主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中，位于所述主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有坩埚蒸发装置；
其中，所述坩埚蒸发装置包括容置槽，所述容置槽中设置有若干排坩埚，每排所述坩埚呈平行设置且每排坩埚与植株膜的牵引方向相垂直，每排所述坩埚与相邻一排的坩埚之间交错设置，每个所述坩埚中均放置有蒸镀靶材，在每个所述坩埚的外围套设有螺旋式感应加热线圈，所述螺旋式感应加热线圈的两端连接有电源线。


2.根据权利要求1所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，每个所述坩埚的上端设置有导流罩，所述导流罩的下端呈与圆柱形且与坩埚的上端相配合，所述导流罩的上端的两侧向中间靠拢设置，且在导流罩的上端面开设有条形口，所述条形口的方向与植株膜的牵引方向相垂直。


3.根据权利要求1或2所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，所述容置槽中设置的坩埚为2排，且每排坩埚的数量设置有2~4个，其中一排所述导流罩上开设的条形口两端部与另一排导流罩上开设的条形口端部处于沿植株膜牵引方向上的同一直线上。


4.根据权利要求3所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，所述容置槽中还填充有耐高温玻璃纤维布。


5.根据权利要求3所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚和导流罩由均石墨或氮化硼材料制成。
<...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘思远，
申请(专利权)人：合肥市辉耀真空材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34