一种防止PVA膜破断的纠偏干燥装置结构制造方法及图纸

技术编号:28614204 阅读:25 留言:0更新日期:2021-05-28 16:08
本实用新型专利技术提供了一种防止PVA膜破断的纠偏干燥装置结构,包括加工箱,所述加工箱的内腔中心处固定设有纠偏仪,所述纠偏仪的一侧设有烘箱,且所述烘箱与加工箱固定连接,所述纠偏仪的另一侧设有沥水辊,所述沥水辊设置为三个,且三个所述沥水辊均与加工箱通过辊轴活动连接,所述加工箱底部设有与三个沥水辊位置相对应的集液槽。本实用新型专利技术在PVA膜出溶液槽时的湿膜状态下先对其进行纠偏,再进入烘箱干燥,这样可很好的解决PVA膜因干燥后变脆导致的起折断膜,同时,增加了出溶液槽到纠偏仪之间的行程,可让PVA膜在恒温恒湿的环境中进行预干燥,避免因残留溶液附着在纠偏仪上结晶出硼酸晶体而导致的PVA膜外观点缺不良。

【技术实现步骤摘要】
一种防止PVA膜破断的纠偏干燥装置结构
本技术涉及偏光片加工
,具体为一种防止PVA膜破断的纠偏干燥装置结构。
技术介绍
偏光片是一种多层薄膜结构,其中最关键的PVA膜层是在溶液中经多倍延伸后制成,PVA膜在延伸后进行干燥,再与上下两层TAC材料进行贴合;因PVA在延伸制程中易发生偏移,导致与TAC贴合时无法完全对齐,从而导致PVA膜破断,PVA膜破断会造成整条生产线的停止,造成极大的经济损失、稼动率下降、材料利用率下降以及产品品质下降;现有技术存在以下不足:偏光片生产过程中,PVA膜在经多倍延伸后,会出现宽度方向上的偏移,经烘箱干燥后,与上下两层TAC贴合时会出现不对齐的现象,以往的办法是利用烘箱后的纠偏仪进行宽度方向的位置调整,但现今的PVA厚度已由原来的30um减薄到12-16um,在调整位置时非常容易出现起折而断膜的现象,且PVA膜烘干之前没有沥水处理,PVA膜残留溶液附着在纠偏仪上结晶出硼酸晶体,导致的PVA膜外观点缺不良。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种防止PVA膜破断的纠偏干燥装置结构本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防止PVA膜破断的纠偏干燥装置结构,包括加工箱(1),其特征在于:所述加工箱(1)的内腔中心处固定设有纠偏仪(2),所述纠偏仪(2)的一侧设有烘箱(3),且所述烘箱(3)与加工箱(1)固定连接,所述纠偏仪(2)的另一侧设有沥水辊(4),所述沥水辊(4)设置为三个,且三个所述沥水辊(4)均与加工箱(1)通过辊轴活动连接,所述加工箱(1)底部设有与三个沥水辊(4)位置相对应的集液槽(6),所述集液槽(6)的底部中心处导通设置有第一排液管(5),所述烘箱(3)的一侧设有TAC膜导辊(7),且所述TAC膜导辊(7)与加工箱(1)通过辊轴活动连接,所述加工箱(1)内腔的另一侧底部设有溶液槽(8)...

【技术特征摘要】
1.一种防止PVA膜破断的纠偏干燥装置结构,包括加工箱(1),其特征在于:所述加工箱(1)的内腔中心处固定设有纠偏仪(2),所述纠偏仪(2)的一侧设有烘箱(3),且所述烘箱(3)与加工箱(1)固定连接,所述纠偏仪(2)的另一侧设有沥水辊(4),所述沥水辊(4)设置为三个,且三个所述沥水辊(4)均与加工箱(1)通过辊轴活动连接,所述加工箱(1)底部设有与三个沥水辊(4)位置相对应的集液槽(6),所述集液槽(6)的底部中心处导通设置有第一排液管(5),所述烘箱(3)的一侧设有TAC膜导辊(7),且所述TAC膜导辊(7)与加工箱(1)通过辊轴活动连接,所述加工箱(1)内腔的另一侧底部设有溶液槽(8),所述加工箱(1)以及溶液槽(8)的内部均活动设有第一导向辊(9),所述加工箱(1)的两侧均活动设有第二导向辊(10)。


2.根据权利要求1所述的一种防止PVA膜破断的纠偏干燥装置结构,其特征在于:所述烘箱(3)嵌入设置在加工箱(1)中,且所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:李世沅曾科陈玮
申请(专利权)人:江西胜宝莱光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:江西;36

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