一种硫化二苯胺的提纯方法技术

本发明专利技术适用于半导体技术领域，提供了一种硫化二苯胺的提纯方法，所述方法包括：提供第一化合物和第二化合物，将所述第一化合物溶解形成第一化合物分散液，将所述第二化合物溶解形成第二化合物分散液，其中，所述第一化合物包括硫化二苯胺粗品，所述第二化合物为螯合物，然后，向所述第一化合物分散液中加入所述第二化合物分散液，得到产品化合物，其中，所述产品化合物为硫化二苯胺纯品，所述产品化合物的纯度高于所述第一化合物的纯度。采用所述方法提纯所述硫化二苯胺粗品，降低了所述硫化二苯胺粗品中的杂质含量，进而提高了硫化二苯胺的纯度，并降低成本。

【技术实现步骤摘要】
一种硫化二苯胺的提纯方法
本专利技术属于半导体
，尤其涉及一种硫化二苯胺的提纯方法。
技术介绍
硫化二苯胺，也称吩噻嗪、硫氮杂蒽、硫代二苯胺和PTZ，是一种有机化合物，呈黄色至绿灰色粉末或片状结晶，通常作为丙烯酸、丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类以及酯类单体的高效阻聚剂，由于甲基丙烯酸单体作为光刻胶树脂的重要组成部分，要求硫化二苯胺的杂质含量低，特别是要求各金属杂质含量均要在10ppb以下。但是，目前，在现有技术中采用的方法生产的硫化二苯胺，生产所得硫化二苯胺中的金属杂质含量通常在1ppm以上，即，生产所得硫化二苯胺中的金属杂质含量通常在1000ppb以上，将硫化二苯胺作为甲基丙烯酸单体等树脂的阻聚剂时，因硫化二苯胺中的杂质含量在1000ppb以上，无法制备电子级树脂，即，采用硫化二苯胺作为阻聚剂制备的树脂达不到半导体行业所要求的高纯标准，进而无法将树脂应用于光刻胶树脂中，即使应用于光刻胶树脂中，光刻胶树脂有可能因金属杂质含量高，而导致光刻胶树脂失效，导致成本升高，而且，目前也没有一种可以将硫化二苯胺中的金属杂质含量降低至10ppb以下的方法。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硫化二苯胺的提纯方法，其特征在于，包括：/n提供第一化合物和第二化合物，将所述第一化合物溶解形成第一化合物分散液以及将所述第二化合物溶解形成第二化合物分散液，其中，所述第一化合物包括硫化二苯胺粗品，所述第二化合物包括螯合物；/n向所述第一化合物分散液中加入所述第二化合物分散液，得到产品化合物，其中，所述产品化合物为硫化二苯胺纯品，所述产品化合物的纯度高于所述第一化合物的纯度。/n

【技术特征摘要】
1.一种硫化二苯胺的提纯方法，其特征在于，包括：
提供第一化合物和第二化合物，将所述第一化合物溶解形成第一化合物分散液以及将所述第二化合物溶解形成第二化合物分散液，其中，所述第一化合物包括硫化二苯胺粗品，所述第二化合物包括螯合物；
向所述第一化合物分散液中加入所述第二化合物分散液，得到产品化合物，其中，所述产品化合物为硫化二苯胺纯品，所述产品化合物的纯度高于所述第一化合物的纯度。


2.根据权利要求1所述的硫化二苯胺的提纯方法，其特征在于，所述螯合物包括乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、乙二胺四乙酸二钾、乙二胺四乙酸铵和乙二胺四乙酸二钠镁盐中的一种或几种组合。


3.根据权利要求1所述的硫化二苯胺的提纯方法，其特征在于，所述第一化合物在第一溶剂中溶解形成所述第一化合物分散液，所述第一溶剂包括环己酮、四氢呋喃、丁酮、丙二醇甲醚醋酸酯、甲苯、正辛烷、正庚烷和2-甲基辛烷中的一种或几种组合。


4.根据权利要求1所述的硫化二苯胺的提纯方法，其特征在于，在所述提供第一化合物和第二化合物，将所述第一化合物溶解形成第一化合物分散液以及将所述第二化合物溶解形成第二化合物分散液的步骤之后，在所述向所述第一化合物分散液中加入所述第二化合物分散液，得到产品化合物的步骤之前，还包括：
对所述第一化合物分散液进行第一热处理。

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【专利技术属性】
技术研发人员：周浩杰，马潇，杨平原，杨鑫楷，夏正建，李庆伟，毛智彪，许从应，
申请(专利权)人：宁波南大光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33