【技术实现步骤摘要】
一种半导体炉管的清洗方法
本专利技术涉及半导体炉管
，特别是涉及一种半导体炉管的清洗方法。
技术介绍
随着工业科技的发展，半导体晶圆对制造洁净度的要求越来越高，与晶圆直接接触的炉管的洁净度的要求也随之提高，所以需要对炉管进行清洁处理，目前的炉管清洗设备操作复杂，需要对炉管内外壁进行分步清洗，造成清洗效率低，实用性差。
技术实现思路
本专利技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种半导体炉管的清洗设备及其使用方法。本专利技术通过以下技术方案来实现上述目的：一种半导体炉管的清洗方法，使用的装置，包括支撑机构，所述支撑机构内侧设置有用于对半导体炉管进行支撑转动的转动机构，所述转动机构上侧设置有对半导体炉管内外壁进行清洗的清洗机构，所述转动机构、所述清洗机构一侧设置有提供动力的动力机构，所述动力机构与所述转动机构、所述清洗机构连接，所述转动机构、所述清洗机构与所述支撑机构连接；所述支撑机构包括箱体，所述箱体内侧上方设置有清洗腔，所述清洗腔下侧设置有过滤板，所述过滤板下侧设置有储液腔，...
【技术保护点】
1.一种半导体炉管的清洗方法，其特征在于,使用的装置，包括支撑机构(1)，所述支撑机构(1)内侧设置有用于对半导体炉管(5)进行支撑转动的转动机构(2)，所述转动机构(2)上侧设置有对半导体炉管(5)内外壁进行清洗的清洗机构(3)，所述转动机构(2)、所述清洗机构(3)一侧设置有提供动力的动力机构(4)，所述动力机构(4)与所述转动机构(2)、所述清洗机构(3)连接，所述转动机构(2)、所述清洗机构(3)与所述支撑机构(1)连接；/n所述支撑机构(1)包括箱体(11)，所述箱体(11)内侧上方设置有清洗腔(12)，所述清洗腔(12)下侧设置有过滤板(17)，所述过滤板(17...
【技术特征摘要】
1.一种半导体炉管的清洗方法，其特征在于,使用的装置，包括支撑机构(1)，所述支撑机构(1)内侧设置有用于对半导体炉管(5)进行支撑转动的转动机构(2)，所述转动机构(2)上侧设置有对半导体炉管(5)内外壁进行清洗的清洗机构(3)，所述转动机构(2)、所述清洗机构(3)一侧设置有提供动力的动力机构(4)，所述动力机构(4)与所述转动机构(2)、所述清洗机构(3)连接，所述转动机构(2)、所述清洗机构(3)与所述支撑机构(1)连接；
所述支撑机构(1)包括箱体(11)，所述箱体(11)内侧上方设置有清洗腔(12)，所述清洗腔(12)下侧设置有过滤板(17)，所述过滤板(17)下侧设置有储液腔(15)，所述清洗腔(12)前侧设置有箱门(13)，所述箱体(11)前壁上设置有控制面板(14)；
所述转动机构(2)包括第一转轴(21)、第二转轴(22)，所述第一转轴(21)、所述第二转轴(22)外径上间隔均匀设置有托辊(23)，所述第一转轴(21)、所述第二转轴(22)位于所述清洗腔(12)内侧；
所述清洗机构(3)包括移动机构(31)，所述移动机构(31)上设置有两处固定架(32)，一处所述固定架(32)下侧连接有外清洗管(33)，另一处所述固定架(32)上设置有连接管(34)，所述连接管(34)末端设置有内清洗管(35)，所述外清洗管(33)、所述内清洗管(35)处于同一垂直面上，所述外清洗管(33)内壁、所述内清洗管(35)外壁上均间隔设置有喷头，所述连接管(34)、所述外清洗管(33)上通过软管连接有抽吸泵(36)，所述抽吸泵(36)位于所述储液腔(15)内；
所述动力机构(4)包括驱动电机(41)，所述驱动电机(41)输出端设置有主链轮(42)，所述主链轮(42)下侧位于所述第一转轴(21)上设置有第一双链轮(43)、所述第二转轴(22)上设置有第二双链轮(44)，所述移动机构(31)上连接有副链轮(45)；
清洗方法,包括以下几个步骤：
a、将半导体炉管(5)放置在第一转轴(21)、第二转轴(22)上的托辊(23)上，关闭箱门(13)，开启设备；
b、通过驱动电机(41)带动主链轮(42)、第一双链轮(43)、第二双链轮(44)、副链轮(45)间进行动力传递，使转动机构(2)的第一转轴(21)、第二转轴(22)同向转动，将托辊(23)上的半导体炉管(5)进行旋转，同时通过移动机构(31)的丝杠(312)转动，带动固定架(32)上的外清洗管(33)、内清洗管(35)向一侧移动；
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【专利技术属性】
技术研发人员：钱诚，童建，霍召军，
申请(专利权)人：江苏亚电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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