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本发明公开了一种半导体炉管的清洗方法，使用的装置包括支撑机构，所述支撑机构内侧设置有用于对半导体炉管进行支撑转动的转动机构，所述转动机构上侧设置有对半导体炉管内外壁进行清洗的清洗机构，所述转动机构、所述清洗机构一侧设置有提供动力的动力机构，...
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