对准装置、对准方法、成膜装置及成膜方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种对准装置、对准方法、成膜装置及成膜方法，进一步提高对准装置的对准精度。本发明专利技术的对准装置是用于调整基板与掩模的相对位置的对准装置，其特征在于，所述对准装置包括：基板保持器，所述基板保持器保持基板；掩模保持器，所述掩模保持器支承掩模；基板保持器驱动机构，所述基板保持器驱动机构将所述基板保持器支承为能够移动；掩模保持器驱动机构，所述掩模保持器驱动机构将所述掩模保持器支承为能够移动；相对位置关系取得部件，所述相对位置关系取得部件取得与基板的面平行的面内的基板与掩模的相对位置关系；以及第一位置检测部件，所述第一位置检测部件设置于所述掩模保持器，用于检测所述基板或所述基板保持器的位置。

【技术实现步骤摘要】
对准装置、对准方法、成膜装置及成膜方法
本专利技术涉及对准装置、对准方法、成膜装置及成膜方法。
技术介绍
对于有机EL显示装置(有机EL显示器)而言，其应用领域不仅在智能手机、电视、汽车用显示器中扩展，而且也在VRHMD(VirtualRealityHeadMountDisplay：虚拟现实头戴式显示器)等中不断扩展，特别是，在用于VRHMD的显示器中，为了减少用户的晕眩等，要求高精度地形成像素图案。即，要求进一步的高分辨率化。在有机EL显示装置的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件；OLED)时，通过经由形成有像素图案的掩模将从成膜装置的成膜源排出的成膜材料在基板上进行成膜，从而形成有机物层、金属层。在这样的成膜装置中，为了提高成膜精度，在成膜工序之前，测量基板与掩模的相对位置，在相对位置偏移的情况下，进行使基板及/或掩模相对移动而对位置进行调整(对准)的工序。因此，以往的成膜装置包括对基板支承单元及/或掩模台进行驱动的对准载台机构和对设置于基板及掩模的对准标记进行拍摄的对准相机。对准载台机构本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种对准装置，用于调整基板与掩模的相对位置，其特征在于，/n所述对准装置包括：/n基板保持器，所述基板保持器保持基板；/n掩模保持器，所述掩模保持器支承掩模；/n基板保持器驱动机构，所述基板保持器驱动机构将所述基板保持器支承为能够移动；/n掩模保持器驱动机构，所述掩模保持器驱动机构将所述掩模保持器支承为能够移动；/n相对位置关系取得部件，所述相对位置关系取得部件取得与基板的面平行的面内的基板与掩模的相对位置关系；以及/n第一位置检测部件，所述第一位置检测部件设置于所述掩模保持器，用于检测所述基板或所述基板保持器的位置。/n

【技术特征摘要】
20191120 KR 10-2019-01499551.一种对准装置，用于调整基板与掩模的相对位置，其特征在于，
所述对准装置包括：
基板保持器，所述基板保持器保持基板；
掩模保持器，所述掩模保持器支承掩模；
基板保持器驱动机构，所述基板保持器驱动机构将所述基板保持器支承为能够移动；
掩模保持器驱动机构，所述掩模保持器驱动机构将所述掩模保持器支承为能够移动；
相对位置关系取得部件，所述相对位置关系取得部件取得与基板的面平行的面内的基板与掩模的相对位置关系；以及
第一位置检测部件，所述第一位置检测部件设置于所述掩模保持器，用于检测所述基板或所述基板保持器的位置。


2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，
所述对准装置具备控制部，所述控制部基于由所述相对位置关系取得部件取得的所述基板与所述掩模的相对位置关系，且基于由所述第一位置检测部件检测出的所述基板或所述基板保持器的位置，对所述基板保持器驱动机构及所述掩模保持器驱动机构中的至少一方进行反馈控制。


3.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，
所述对准装置还包括：
基板保持器驱动机构支承体，所述基板保持器驱动机构支承体支承所述基板保持器驱动机构；以及
第二位置检测部件，所述第二位置检测部件设置于所述基板保持器驱动机构支承体，用于检测所述基板或所述基板保持器的位置。


4.根据权利要求3所述的对准装置，其特征在于，
所述对准装置具备控制部，所述控制部基于由所述第一位置检测部件及所述第二位置检测部件中的任一个检测出的所述基板或所述基板保持器的位置，对所述基板保持器驱动机构及所述掩模保持器驱动机构中的至少一方进行反馈控制。


5.根据权利要求4所述的对准装置，其特征在于，
所述控制部基于与所述基板的面垂直的垂直方向上的所述基板保持器与所述掩模保持器的距离，在所述第一位置检测部件与第二位置检测部件之间，对在所述基板保持器驱动机构及所述掩模保持器驱动机构的至少一方的反馈控制中使用的位置检测部件进行切换。


6.根据权利要求5所述的对准装置，其特征在于，
在所述垂直方向上的所述基板保持器与所述掩模保持器之间的距离为预定的距离以下的第一状态下，所述控制部基于由所述第一位置检测部件检测出的所述基板或所述基板保持器的位置，对所述基板保持器驱动机构及所述掩模保持器驱动机构中的至少一方进行反馈控制，
在所述垂直方向上的所述基板保持器与所述掩模保持器之间的距离比所述预定的距离大的第二状态下，所述控制部基于由所述第二位置检测部件检测出的所述基板或所述基板保持器的位置，对所述基板保持器驱动机构及所述掩模保持器驱动机构中的至少一方进行反馈控制。


7.根据权利要求6所述的对准装置，其特征在于，
所述相对位置关系取得部件包括第一对准相机和第二对准相机，所述第一对准相机具有第一分辨率，所述第二对准相机具有比所述第一分辨率高的第二分辨率，
所述预定的距离是使用所述第二对准相机取得基板与掩模之间的相对位置关系时的所述基板保持器与所述掩模保持器之间的距离。


8.根据权利要求4所述的对准装置，其特征在于，
所述控制部基于由所述相对位置关系取得部件取得的所述基板与所述掩模的相对位置关系，且基于由所述第一位置检测部件及所述第二位置检测部件中的任一个检测出的所述基板或所述基板保持器的位置，对所述基板保持器驱动机构及所述掩模保持器驱动机构中的至少一方进行反馈控制。


9.根据权利要求2所述的对准装置，其特征在于，
所述第一位置检测部件以第一周期检测所述基板或所述基板保持器的位置，
所述相对位置关系取得部件以第二周期检测所述基板与所述掩模的相对位置关系，所述第二周期比所述第一周期长。


10.根据权利要求8所述的对准装置，其特征在于，
所述第一位置检测部件及所述第二位置检测部件以比预定的周期短的周期检测所述基板或基板保持器的位置，在所述预定的周期中，能够使用所述相对位置关系取得部件计算出所述基板保持器及所述掩模保持器中的至少一方的移动量。


11.根据权利要求10所述的对准装置，其特征在于，
所述第一位置检测部件及所述第二位置检测部件包括激光干涉长度测量装置、静电电容传感器、非接触位移计或光学尺。


12.根据权利要求10所述的对准装置，其特征在于，
所述控制部基于由所述第一位置检测部件或所述第二位置检测部件检测出的所述基板或所述基板保持器的位置，更新所述基板保持器及所述掩模保持器中的至少一方的所述移动量。


13.根据权利要求3所述的对准装置，其特征在于，
所述对准装置还包括基板临时接收部件，所述基板临时接收部件设置于所述掩模保持器，暂时支承所述基板。


14.根据权利要求3所述的对准装置，其特征在于，
所述掩模保持器驱动机构设置在振动传递抑制构件上，所述振动传递抑制构件用于抑制来自所述基板保持器驱动机构的振动的传递。


15.根据权利要求3所述的对准装置，其特征在于，
所述基板保持器驱动机构是包含磁悬浮线性马达的磁悬浮载台机构。


16.一种成膜装置，经由掩模在基板上对成膜材料进行成膜，其特征在于，
所述成膜装置包括：
容器；
权利要求1～15中任一项所述的对准装置，所述对准装置设置于所述容器；以及
成膜源，所述成膜源设置于所述容器，用于收纳成膜材料并使所述成膜材料蒸发或升华而将其排出。


17.一种对准装置，用于调整基板与掩模的相对位置，其特征在于，
所述对准装置包括：
基板保持器，所述基板保持器保持基板；
掩模保持器，所述掩模保持器支...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村龙司，中须祥浩，关谷任史，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP