掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法。根据一个或多个实施例，掩模组件包括：包括开口和围绕开口的部分的掩模框架，以及被布置在掩模框架上并且包括第一区域和第二区域的掩模，并且沉积材料可穿过与开口相对应的第一区域，并且第二区域在第一区域周围，并且第一区域包括沉积开口，并且第二区域包括虚设开口，虚设开口中的至少一些包括被布置成从连接沉积开口的中心的直线偏离的中心，并且沉积开口中的每一个的宽度与虚设开口中的每一个的宽度相同。

【技术实现步骤摘要】
掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法相关申请的交叉引用本申请要求于2019年11月5日向韩国知识产权局提交的第10-2019-0140322号韩国专利申请的优先权和权益，该申请的全部公开通过引用并入本文。
本公开实施例的方面涉及掩模组件、用于制造显示设备的装置和制造显示设备的方法。
技术介绍
随着信息社会的发展，对用于显示图像的各种类型的显示设备的需求增加。显示设备的领域已迅速变为薄、轻且大面积的平板显示设备(FPD)，它们已经取代了笨重的阴极射线管(CRT)。FPD的示例包括液晶显示设备(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、有机发光显示设备(OLED)和电泳显示设备(EPD)。在显示设备当中，OLED包括有机发光二极管，有机发光二极管包括对电极、像素电极和发射层。电极和发射层可以使用诸如独立沉积方法的多种方法形成。在独立沉积方法中，精细金属掩模(FMM)被拉紧以粘附至掩模框架，并且沉积材料被沉积在沉积表面上。
技术实现思路
根据一个或多个实施例的方面，提供一种在精细金属掩模被拉紧时坚固而不易破裂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模组件，包括：/n掩模框架，包括开口和围绕所述开口的部分；以及/n掩模，被布置在所述掩模框架上，并且包括第一区域和第二区域，其中，沉积材料可穿过与所述开口相对应的所述第一区域，并且所述第二区域在所述第一区域周围，/n其中，所述第一区域包括沉积开口，并且/n所述第二区域包括虚设开口，其中，所述虚设开口中的至少一些包括被布置成从连接所述沉积开口的中心的直线偏离的中心，并且/n所述沉积开口中的每一个的宽度与所述虚设开口中的每一个的宽度相同。/n

【技术特征摘要】
20191105 KR 10-2019-01403221.一种掩模组件，包括：
掩模框架，包括开口和围绕所述开口的部分；以及
掩模，被布置在所述掩模框架上，并且包括第一区域和第二区域，其中，沉积材料可穿过与所述开口相对应的所述第一区域，并且所述第二区域在所述第一区域周围，
其中，所述第一区域包括沉积开口，并且
所述第二区域包括虚设开口，其中，所述虚设开口中的至少一些包括被布置成从连接所述沉积开口的中心的直线偏离的中心，并且
所述沉积开口中的每一个的宽度与所述虚设开口中的每一个的宽度相同。


2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述沉积开口中的每一个的平面形状与所述虚设开口中的每一个的平面形状相同。


3.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述虚设开口包括第一开口和第二开口，并且
所述第一开口包括被布置成从连接所述沉积开口的所述中心的所述直线偏离的中心。


4.根据权利要求3所述的掩模组件，其中，所述第二开口包括被布置成从连接所述第一开口的所述中心的直线偏离的中心，并且
所述第一开口和所述第二开口交替布置在从所述沉积开口到所述虚设开口的第一方向上。


5.根据权利要求3所述的掩模组件，其中，所述第二开口沿着与所述沉积开口相同的直线被布置。


6.根据权利要求5所述的掩模组件，其中，所述第二开口沿着与所述沉积开口相同的直线被布置的距离是恒定的。


7.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述沉积开口当中的邻近的沉积开口之间的第一距离与所述虚设开口当中的邻近的虚设开口之间的第二距离相同。


8.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述掩模的宽度小于所述开口的宽度，并且
所述掩模组件包括多个掩模，所述多个掩模包括被布置在所述掩模框架上的所述掩模。


9.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述第二区域在所述第一区域与所述掩模框架之间。


10.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述第二区域围绕所述第一区域的至少一部分。


11.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述虚设开口中的至少一些被布置在与所述沉积开口相同的直线上。


12.一种掩模组件，包括：
掩模框架，包括开口和围绕所述开口的部分；以及
掩模，被布置在所述掩模框架上，并且包括第一区域和第二区域，其中，沉积材料可穿过所述第一区域，并且所述第二区域在所述第一区域周围，
其中，所述第一区域包括被配置为遮挡所述沉积材料并且在第一方向上延伸的多个第一部分，并且
所述多个第一部分当中的第一部分连接到所述第二区域中的在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸的多个第二部分当中的第二部分，并且
所述多个第一部分当中的第一部分的宽度与所述多个第二部分当中的第二部分的宽度相同。


13.根据权利要求12所述的掩模组件，其中，所述多个第一部分当中的第一部分连接到在与所述第一方向交叉的第三方向上延伸的多个第三部分当中的第三部分。


14.一种用于制造显示设备的装置，所述装置包括：
腔室，基板可放置在所述腔室中；
沉积源，位于所述腔室内部，并且被配置为将沉积材料供应到所述腔室中；以及
掩模组件，面向所述沉积源并且被配置为使所述沉积材料穿过所述掩模组件流向所述基板；
其中，所述掩模组件包括：
掩模框架，包括开口和围绕所述开口的部分；以及
掩模，被布置在所述掩模框架上，并且包括第一区域和第二区域，其中，所述沉积材料可穿过与所述开口相对应的所述第一区域，并且所述第二区域在所述第一区域周围，
其中，所述第一区域包括沉积开口，并且
所述第二区域包括虚设开口，其中，所述虚设开口中的至少一些包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：金柾勋，晋丞民，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR