水包油型乳化化妆料制造技术

本发明专利技术涉及一种包含(A)50℃下液态的羧酸改性硅酮、(B)油剂、(C)水以及(D)油溶性成膜剂的水包油型乳化化妆料，其中，以相对于化妆料的总质量为0.01～5质量％的范围所述(D)油溶性成膜剂。本发明专利技术的化妆料具备高稳定性、且能予以具有优异的耐水性的化妆膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】水包油型乳化化妆料
本专利技术涉及一种由连续水相和不连续油相构成的水包油型的乳化化妆料。
技术介绍
包含水相作为连续相的水包油型乳化化妆料由于予以水润、清爽的使用感，因此例如被广泛用作乳液等基础化妆料、底妆化妆料、防晒霜剂、粉底、眼影等彩妆(makeup)化妆料。另一方面，这样的化妆料通常存在涂布该化妆料而得到的化妆膜耐水性差这一问题。因此，例如，如日本特开平1-261316号公报所记载的那样，提出了：在水包油型乳化化妆料中，出于向化妆膜予以耐水性等目的，配合经疏水化处理的粉末和油溶性树脂。但是，三甲基甲硅烷氧基硅酸酯等油溶性树脂(参照实施例1)的疏水性高，为了稳定地对含有它们的油相进行乳化，需要配合亲水性高的表面活性剂，因此存在化妆膜的耐水性降低的问题。因此，在日本特开平11-043417号公报中，公开了：代替通常的表面活性剂，使用烷基改性羧基乙烯基聚合物的、含有疏水化处理粉末和硅酮树脂的水包油型乳化化妆料。然而，烷基改性羧基乙烯基聚合物为水溶性增稠剂，虽然能稳定地保持分散的油相，但是缺乏乳化力，因此存在为了得到微细的油滴而制造机械、油剂组成受到制约的问题。此外，在日本特开2015-203026号公报中，公开了：为了将疏水性粉体进一步良好地分散于水相中而谋求化妆料的稳定化，在碱性条件下使用羧酸改性硅酮。但是，羧酸改性硅酮用于使疏水性粉体分散于水相中，为了对油分进行乳化而使用其他亲水性表面活性剂，因此耐水性不充分。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平1-261316号公报专利文献2：日本特开平11-043417号公报专利文献3：日本特开2015-203026号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题根据这样的情况，要求在具备高的稳定性的基础上，进一步提高基于水包油型乳化化妆料的化妆膜的耐水性。本专利技术的目的在于，提供一种具备高稳定性、且能予以具有优异耐水性的化妆膜的水包油型乳化化妆料。用于解决问题的方案本专利技术的目的通过水包油型乳化化妆料来实现，其包含下述的成分：(A)50℃下液态的羧酸改性硅酮、(B)油剂、(C)水、以及(D)油溶性成膜剂，以相对于化妆料的总质量0.01～5质量％的范围包含所述(D)油溶性成膜剂。优选的是，所述(A)羧酸改性硅酮由下述结构式(1)表示。[化学式1](式中，Rc表示通式-R1-(OR2)p-(O)w-R3-COOH所示的含羧基的有机基团，其中，R1表示碳原子数2～22的直链或支链的亚烷基，R2表示碳原子数2～4的直链或支链的亚烷基，R3表示键合键(-)或碳原子数1～22的直链或支链的亚烷基，p表示0～200的数，w表示0或1的数，R相同或不同，表示碳原子数1～22的烷基或烷氧基、或苯基，R'为Rc或R，a、b各自为0或正数，a+b为0～30的范围的数，b为0时，R'的至少一方为Rc。)此外，优选的是，所述(A)羧酸改性硅酮在室温(25℃)下为液态。并且，所述(A)羧酸改性硅酮由下述结构式(2)表示。[化学式2](式中，Rc表示通式-R1-(OR2)p-(O)w-R3-COOH所示的含羧基的有机基团，其中，R1表示碳原子数2～22的直链或支链的亚烷基，R2表示碳原子数2～4的直链或支链的亚烷基，R3表示键合键(-)或碳原子数1～22的直链或支链的亚烷基，p表示0～200的数，w表示0或1的数，R相同或不同，表示碳原子数1～22的烷基或烷氧基、或苯基，R'为Rc或R，a、b各自为正数，a+b为2～20的范围的数，a/b为0.3～3.0的范围。)就本专利技术的化妆料而言，优选的是，以0.1～15质量％的范围包含所述(A)羧酸改性硅酮。需要说明的是，在本说明书中的“质量％”与“重量％”同义，其基准只要没有特别记载，则为本专利技术的化妆料的总质量(总重量)。优选的是，所述(B)油剂包含至少一种紫外线吸收剂。就本专利技术的化妆料而言，优选的是，以1～60质量％的范围包含所述(B)油剂。就本专利技术的化妆料而言，优选的是，以20～98质量％的范围包含所述(C)水。优选的是，所述(D)油溶性成膜剂包含选自由(D1)含有M单元和Q单元的硅酮树脂、(D2)硅酮丙烯酸酯、(D3)含有T单元的硅酮树脂、以及(D4)硅酮树脂胶构成的组中的至少一种。就本专利技术的化妆料而言，优选的是，还包含(E)碱性化合物。就本专利技术的化妆料而言，优选的是，以0.01～2.5质量％的范围包含所述(E)碱性化合物。就本专利技术的化妆料而言，优选的是，还包含(F)多元醇。就本专利技术的化妆料而言，优选的是，还包含(G)水溶性增稠剂。就本专利技术的化妆料而言，优选的是，还包含(H)疏水性粉体。在本专利技术的化妆料中，可以是，所述(H)疏水性粉体分散于油相中和/或水相中。就本专利技术的化妆料而言，可以是，以相对于化妆料的总质量小于5质量％的量包含所述(A)羧酸改性硅酮以外的表面活性剂。有益效果本专利技术的化妆料具备高稳定性。需要说明的是，在此“稳定”是指，不会经时地产生相分离，是均匀的。特别是，本专利技术的化妆料无论有无疏水性粉体，也是稳定的。此外，本专利技术的化妆料能予以具有优异的耐水性的化妆膜。而且，本专利技术的化妆料能予以使用时清爽的使用感。并且，由本专利技术的化妆料形成的化妆膜通过使用通常的皂和水能容易地去除。具体实施方式本专利技术人等进行了深入研究，结果发现，通过将50℃下液态的羧酸改性硅酮与规定量的油溶性成膜剂并用，能提供一种具备高稳定性且能予以具有优异耐水性的化妆膜的水包油型乳化化妆料，从而完成了本专利技术。本专利技术的化妆料在油剂包含紫外线吸收剂的情况下也稳定。本专利技术的化妆料在包含水溶性增稠剂的情况下也稳定。在本专利技术的化妆料包含疏水性粉体的情况下，能进一步提高得到的化妆膜的耐水性。在本专利技术的化妆料包含疏水性粉体，且包含碱性化合物的情况下，本专利技术的化妆料具有高稳定性，且能形成具有更优异的耐水性的化妆膜。在本专利技术的化妆料不包含所述(A)羧酸改性硅酮以外的表面活性剂的情况下，能进一步提高由本专利技术的化妆料得到的化妆膜的耐水性。本专利技术的化妆料必须包含的所述(A)羧酸改性硅酮以外的表面活性剂并不特别限定，可列举出阴离子性、阳离子性、非离子性、两性的各种表面活性剂。需要说明的是，在本专利技术中，上述“不含”是指，实质上不含，在此“实质上”是指，可以包含小于本专利技术的化妆料的总质量的5质量％。不过，其含量少是有利的，优选3质量％以下，更优选2质量％以下，更进一步优选1质量％以下。在本专利技术的化妆料中，最优选完全不含所述(A)羧酸改性硅酮以外的表面活性剂。以下，对本专利技术的化妆料进一步进本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水包油型乳化化妆料，其包含：/n(A)50℃下液态的羧酸改性硅酮、/n(B)油剂、/n(C)水、以及/n(D)油溶性成膜剂，/n以相对于化妆料的总质量为0.01～5质量％的范围包含所述(D)油溶性成膜剂。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180815 JP 2018-1528121.一种水包油型乳化化妆料，其包含：
(A)50℃下液态的羧酸改性硅酮、
(B)油剂、
(C)水、以及
(D)油溶性成膜剂，
以相对于化妆料的总质量为0.01～5质量％的范围包含所述(D)油溶性成膜剂。


2.根据权利要求1所述的化妆料，其中，
所述(A)羧酸改性硅酮由下述结构式(1)表示：
[化学式1]



式中，
Rc表示通式-R1-(OR2)p-(O)w-R3-COOH所示的含羧基的有机基团，其中，R1表示碳原子数2～22的直链或支链的亚烷基，R2表示碳原子数2～4的直链或支链的亚烷基，R3表示键合键(-)或碳原子数1～22的直链或支链的亚烷基，p表示0～200的数，w表示0或1的数，
R相同或不同，表示碳原子数1～22的烷基或烷氧基、或苯基，
R'为Rc或R，
a、b各自为0或正数，a+b为0～30的范围的数，b为0时，R'的至少一方为Rc。


3.根据权利要求1或2所述的化妆料，其中，
所述(A)羧酸改性硅酮在室温25℃下为液态。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的化妆料，其中，
所述(A)羧酸改性硅酮由下述结构式(2)表示：
[化学式2]



式中，
Rc表示通式-R1-(OR2)p-(O)w-R3-COOH所示的含羧基的有机基团，其中，R1表示碳原子数2～22的直链或支链的亚烷基，R2表示碳原子数2～4的直链或支链的亚烷基，R3表示键合键(-)或碳原子数1～22的直链或支链的亚烷基，p表示0～200的数，w表示0或1的数，
R相同或不同，表示碳原子数1～22的烷基或烷氧基、或苯基，
R'为Rc或R，
a、b各自为正数，a+b为2～20的范围的数，a/b为0.3～3.0的范围...

【专利技术属性】
技术研发人员：近藤纯也，原水聪，神崎康枝，S·T·潘，宫野淳，堀诚司，
申请(专利权)人：陶氏东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP