一种制备周期减半的亚微米光栅的方法技术

本发明专利技术公开了一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，涉及光学、微细加工、先进制造等领域，它解决了现有的光栅复制技术只能进行1:1光栅复制的问题，本发明专利技术利用一块亚微米母光栅制备出了周期减半的亚微米子光栅。本发明专利技术的方法为：首先制备出亚微米母光栅的PDMS软模板，同时在干净的基片上制备出所要使用的材料薄膜；然后将亚微米母光栅的PDMS软模板与准备好的材料薄膜紧密贴合，再将两者整体置于加热板上加热5分钟，加热温度要高于所用薄膜材料的玻璃化转变温度；最后将两者从加热板上取下并冷却至室温，分离基片和PDMS软模板，便在基片上制备出了周期减半的亚微米子光栅。本发明专利技术适用于亚微米光栅的制备领域。

【技术实现步骤摘要】
一种制备周期减半的亚微米光栅的方法
本专利技术涉及光学、微细加工、先进制造等领域，具体涉及一种制备周期减半的亚微米光栅的方法。
技术介绍
光栅是能对入射光波的振幅或相位进行空间调制的光学元件，也称衍射光栅。光栅作为一种分光器件，经过几百年的发展，已经广泛应用于集成光路、光通信、光计算、光学信息处理、激光器等各个方面。现有的光栅制作技术主要有机械刻划技术、激光干涉技术及光栅复制技术。机械刻划技术是指在基片上破坏性的刻划出一系列平行的划痕，属于振幅型光栅，其衍射效率高，但是生产效率低，设备要求高，成本较高；激光干涉技术是指用两束激光以一定角度进行干涉，用全息底片感光，冲洗后得到正弦分布的光栅的方法，所获得的光栅光谱范围广，分辨率较高，但其加工工艺要求极高，成本也较高；光栅复制技术是指用母版光栅制成同样结构光栅复制品的方法，用来代替昂贵的原刻光栅，常用的光栅复制技术包括纳米压印技术和软光刻技术。与前两种光栅制备技术相比，光栅复制技术的出现显著地降低了光栅的制作成本，解决了光栅的批量制作及大规模应用的问题。然而现有的光栅复制技术只能实现本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，其特征在于，包括如下步骤：/nS1：亚微米母光栅的PDMS软模板的制备，步骤如下：/nS11：将PDMS本体材料和固化剂按照体积比10:1的比例在烧杯中混合并且搅拌均匀，令该混合液在空气中静置1个小时以充分去除气泡；/nS12：将S11中没有气泡的混合液倾倒在所要复制的亚微米母光栅上，并使混合液完全覆盖亚微米母光栅，静置1个小时，再将其整体置于60℃热板上加热1个小时使混合液固化；自然冷却至室温后将固化好的PDMS材料从亚微米母光栅上揭下，此时便获得了亚微米母光栅的PDMS软模板；/nS2：基片上的薄膜材料制备，步骤如下：将所用基片清洗干净并在其上旋转涂...

【技术特征摘要】
1.一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1：亚微米母光栅的PDMS软模板的制备，步骤如下：
S11：将PDMS本体材料和固化剂按照体积比10:1的比例在烧杯中混合并且搅拌均匀，令该混合液在空气中静置1个小时以充分去除气泡；
S12：将S11中没有气泡的混合液倾倒在所要复制的亚微米母光栅上，并使混合液完全覆盖亚微米母光栅，静置1个小时，再将其整体置于60℃热板上加热1个小时使混合液固化；自然冷却至室温后将固化好的PDMS材料从亚微米母光栅上揭下，此时便获得了亚微米母光栅的PDMS软模板；
S2：基片上的薄膜材料制备，步骤如下：将所用基片清洗干净并在其上旋转涂覆液体薄膜材料，静置10分钟后将其整体置于加热板上加热使薄膜材料固化，薄膜材料的厚度控制在50nm到100nm；
S3：周期减半的亚微米子光栅的制备，步骤如下：
S31：将S1中制得的亚微米母光栅的PDMS软模板上有亚微米结构的一面使用紫外臭氧清洗机清洗1分钟，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张登英，邢文强，张立春，赵风周，李锦绣，郭安琪，
申请(专利权)人：鲁东大学，
类型：发明
国别省市：山东;37