用于振幅/相位双重调制的四区域光栅及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种用于振幅/相位双重调制的四区域光栅及其制作方法，包括基底，所述基底沿着水平方向上光栅按照一个周期被划分成四个区域；四个所述区域从左至右依次分别为高基底层、高金属层、低基底层和低金属层；在所述高金属层和低金属层的上表面均设置有金属掩膜层；所述低金属层和低基底层的高度不同；所述高金属和高基底层的总高度相同。本发明专利技术将基底沿着水平方向上光栅按照一个周期被划分成四个区域，四个区域的横向宽度相等，四个区域的高度不同，由于四个区域能够提高光强和相位双重控制的精确性，从而能够减少0级光的衍射效率，将能量集中到±1级，而且能够提升光栅干涉仪等系统的信号对比度和信噪比。

【技术实现步骤摘要】
用于振幅/相位双重调制的四区域光栅及其制作方法
本专利技术属于衍射光学元件
，具体涉及一种用于振幅/相位双重调制的四区域光栅及其制作方法。
技术介绍
随着高精尖技术的不断发展，对于一些非常规光栅器件的需求越来越大。现有的相位调制光栅，主要存在两方面缺点：第一，控制精度差、相位调制的深度差(对0级光的效率减少不够，对±1级的效率提升不够)；第二，结构复杂、台阶的侧壁陡直度无法精确控制等问题，不利于工艺固化，从而光栅的相位也不能精确控制。虽然采用高精密设备进行制作，可以精确控制制作工艺步骤，但是加工成本却非常高，不利于批量生产；并且相位调制光栅也不能同时满足光强的调制。因此就以上问题，提出一种振幅/相位双重调制四区域光栅及其制作方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于振幅/相位双重调制的四区域光栅及其制作方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种用于振幅/相位双重调制的四区域光栅，包括基底，所述基底沿着水平方向上按照光栅一个周期被划分成四个区域；光栅本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于振幅/相位双重调制的四区域光栅，包括基底(1)，其特征在于：所述基底(1)沿着水平方向上光栅按照一个周期被划分成四个区域；四个所述区域从左至右依次分别为高基底层(2)、高金属层(3)、低基底层(4)和低金属层(5)；在所述高金属层(3)和低金属层(5)的上表面均设置有金属掩膜层(6)；所述低金属层(5)和低基底层(4)的高度不同；所述高金属层(3)和高基底层(2)的总高度相同。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于振幅/相位双重调制的四区域光栅，包括基底(1)，其特征在于：所述基底(1)沿着水平方向上光栅按照一个周期被划分成四个区域；四个所述区域从左至右依次分别为高基底层(2)、高金属层(3)、低基底层(4)和低金属层(5)；在所述高金属层(3)和低金属层(5)的上表面均设置有金属掩膜层(6)；所述低金属层(5)和低基底层(4)的高度不同；所述高金属层(3)和高基底层(2)的总高度相同。


2.根据权利要求1所述的用于振幅/相位双重调制的四区域光栅，其特征在于：光栅的每个所述区域横向宽度相等，四个所述区域的基底(1)高度不同。


3.根据权利要求2所述的用于振幅/相位双重调制的四区域光栅，其特征在于：光栅的每个所述区域的横向宽度1μm，四个所述区域的深度介于350nm-500nm之间。


4.根据权利要求1所述的用于振幅/相位双重调制的四区域光栅，其特征在于：所述基底(1)的材料采用折射率较低的透明材料构成；所述金属掩膜层(6)所使用材料的折射率大于所述基底(1)采用材料的折射率。


5.根据权利要求4所述的用于振幅/相位双重调制的四区域光栅，其特征在于：所述基底(1)采用的材料为石英，所述金属掩膜层(6)采用的材料为金属铬。


6.根据权利要求1至5任一项所述的用于振幅/相位双重调制的四区域光栅，其特征在于：所述高金属层(3)和低金属层(5)的上表面设置的金属掩膜层(6)厚度相同。


7.一种用于振幅/相位双重调制的四区域光栅的制作方法，其特征在于，包括：
步骤一：基底处理：双面抛光石英基底，清洗、烘干；
步骤二：制备低金属层，具体包括以下步骤：
(1)旋涂lift-off光刻胶，烘胶、冷却后，在其上旋涂光刻胶作为第一次掩膜，进行图形化光刻；
(2)采用反应离子刻蚀机第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：董亭亭，潘德彬，姚远，王建波，项青，
申请(专利权)人：华中光电技术研究所中国船舶重工集团公司第七一七研究所，
类型：发明
国别省市：湖北;42